Fornalha Compacta Dividida de Tubo de 1250°C com Zona de Aquecimento de 8 Polegadas e Controlador Programável

Forno de Tubo

Fornalha Compacta Dividida de Tubo de 1250°C com Zona de Aquecimento de 8 Polegadas e Controlador Programável

Número do item: TU-17

Temperatura máxima de operação: 1250°C Comprimento da zona de aquecimento: 8" (200mm) Precisão do controle de temperatura: ±1°C
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Visão Geral do Produto

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Esta fornalha compacta dividida de tubo representa o auge da engenharia térmica eficiente, projetada especificamente para pesquisa em ciência de materiais e P&D industrial, onde espaço e precisão são igualmente primordiais. Como um sistema de aquecimento de laboratório de alto desempenho, oferece uma temperatura máxima de trabalho de 1250°C, tornando-a uma escolha ideal para processos de sinterização, recozimento e deposição química em fase de vapor em alta temperatura. O equipamento é projetado com foco na uniformidade térmica e conservação de energia, consumindo apenas 1,2 KW de potência, enquanto fornece perfis térmicos estáveis e repetíveis. Ao integrar um design versátil de carcaça dividida com isolamento avançado, a unidade oferece aos pesquisadores a flexibilidade de gerenciar configurações experimentais complexas sem comprometer a qualidade do ambiente térmico.

Os principais casos de uso para este equipamento abrangem metalurgia, desenvolvimento de semicondutores e cerâmicas avançadas. É particularmente valorizado em laboratórios acadêmicos e industriais que exigem um sistema confiável para processar amostras de pequenos lotes sob atmosferas controladas ou vácuo. A construção da unidade enfatiza uma pegada compacta, permitindo que seja facilmente integrada em capelas de exaustão padrão ou bancadas de laboratório movimentadas. Para equipes de aquisição e gerentes de instalações, este sistema representa uma solução de baixa manutenção e alta disponibilidade que atende às demandas rigorosas da caracterização e síntese de materiais modernos.

A confiança nesta solução de aquecimento é construída sobre uma base de componentes industriais robustos e montagem meticulosa. O sistema emprega uma estrutura de aço de dupla camada que incorpora resfriamento ativo a ar para manter uma temperatura externa segura, mesmo durante ciclos prolongados de alta temperatura. Este foco na estabilidade operacional garante que a fornalha possa suportar os rigores diários de uma instalação de pesquisa multiusuário. Com seus elementos de aquecimento de precisão e isolamento fibroso de alta pureza, o equipamento oferece a consistência necessária para experimentos sensíveis onde até mesmo pequenas flutuações de temperatura poderiam comprometer a integridade dos dados.

Principais Características

  • Design Inovador de Tampa Dividida: A carcaça articulada da fornalha permite acesso rápido à câmara interna, facilitando a instalação e remoção de tubos de processo, blocos cerâmicos e configurações experimentais complexas sem a necessidade de desmontar toda a montagem.
  • Controle de Temperatura PID de Precisão: Um controlador embutido sofisticado fornece até 30 segmentos programáveis para aquecimento, imersão e resfriamento, garantindo que ciclos térmicos específicos sejam executados com uma precisão de +/- 1°C para resultados científicos reproduzíveis.
  • Isolamento Eficiente em Energia: Módulos de isolamento fibroso de Al2O3 de alta pureza minimizam a perda de calor e reduzem o consumo de energia. Este isolamento de baixa massa térmica também permite taxas de aquecimento e resfriamento mais rápidas em comparação com materiais refratários tradicionais.
  • Proteções Avançadas de Segurança: O sistema é equipado com mecanismos de proteção contra sobretemperatura e falha de termopar integrados, cortando automaticamente a energia dos elementos de aquecimento se os parâmetros operacionais seguros forem excedidos.
  • Estrutura de Aço de Dupla Camada: A estrutura externa apresenta um design de dupla carcaça com resfriamento a ar integrado, que reduz significativamente a temperatura da superfície da unidade, aumentando a segurança do laboratório e protegendo os componentes eletrônicos internos da exposição ao calor.
  • Compatibilidade Flexível de Tubos: Projetado para acomodar tubos de processo com diâmetro externo de 1 polegada e 2 polegadas, proporcionando a versatilidade necessária para alternar perfeitamente entre diferentes tamanhos de amostra e ambientes químicos.
  • Módulos de Aquecimento Substituíveis: Os módulos de aquecimento internos são projetados para fácil substituição, garantindo a capacidade de serviço a longo prazo e reduzindo o tempo de inatividade durante a manutenção de rotina ou após uso industrial intenso.
  • Pronto para CE e UL: O equipamento é fabricado para atender aos padrões CE e está pronto para UL 6010, fornecendo a garantia de que o sistema está em conformidade com os regulamentos internacionais de segurança e desempenho para hardware de laboratório.

Aplicações

Aplicação Descrição Benefício Chave
Deposição Química em Fase de Vapor (CVD) Crescimento de filmes finos de alta qualidade e materiais 2D como grafeno usando fluxos de gás controlados. Controle preciso da cinética do gás e uniformidade de temperatura para crescimento de filmes de alta pureza.
Pesquisa de Carbonização Regulação da cinética para o desenvolvimento de materiais de carbono porosos auto-dopados. Taxas de aquecimento estáveis evitam o fechamento de poros, resultando em áreas de superfície ultra-altas.
Recozimento de Metais Ciclos controlados de aquecimento e resfriamento para alterar as propriedades físicas e químicas das ligas. Prevenção de oxidação e obtenção de estruturas de grãos desejadas através de resfriamento de precisão.
Sinterização de Cerâmica Queima em alta temperatura de cerâmicas técnicas para atingir densidade e resistência máximas. Estabilidade térmica confiável a mais de 1200°C garante integridade estrutural consistente entre os lotes.
Síntese de Catalisadores Tratamento térmico de materiais catalíticos para ativar sítios de superfície e otimizar o desempenho. A zona de aquecimento compacta permite o teste eficiente de amostras de catalisadores pequenas e de alto valor.
Dopagem de Semicondutores Difusão de dopantes em wafers ou substratos semicondutores sob vácuo ou gás inerte. O design de carcaça dividida permite a pré-montagem de suportes de wafer delicados dentro do tubo.
Testes de Estresse Térmico Avaliação da durabilidade dos componentes sob ciclagem rápida de temperatura ou calor prolongado. O controlador programável de 30 passos permite perfis térmicos complexos para simular condições do mundo real.

Especificações Técnicas

Recurso Detalhes da Especificação para TU-17
Identificador do Modelo TU-17 Fornalha Compacta Dividida de Tubo
Temperatura Máxima 1250°C (Curto prazo < 1 hora)
Temperatura de Operação Contínua (Tubo de Mullita) 1200°C
Temperatura de Operação Contínua (Tubo de Quartzo) 1100°C
Comprimento da Zona de Aquecimento 8" (200 mm)
Zona de Temperatura Constante 2,3" (60 mm) com precisão de +/-1°C a 900°C
Controle de Temperatura Controle automático PID com 30 segmentos programáveis
Precisão de Temperatura +/- 1°C
Taxa Máxima de Aquecimento <= 10°C / min
Fonte de Alimentação 110VAC (Monofásico) ou 220VAC (Opcional); 1,2 KW
Tamanhos de Tubo Compatíveis 1" OD ou 2" OD (Quartzo ou Mullita)
Dimensões Externas (Fechada) 350 mm x 390 mm x 400 mm (C x L x A)
Dimensões Externas (Aberta) 350 mm x 440 mm x 560 mm (C x L x A)
Material de Isolamento Isolamento fibroso de Al2O3 de alta pureza
Sistema de Resfriamento Estrutura de aço de dupla camada com resfriamento a ar
Peso Líquido 18 Kg
Certificação de Segurança Certificado CE; Pronto para UL 6010; NRTL / CSA disponível mediante solicitação
Acessórios Opcionais Controle por laptop, software baseado em Labview, flanges de vácuo, blocos refratários

Por Que Nos Escolher

Investir neste sistema de fornalha fornece à sua instalação uma ferramenta construída sobre os princípios de engenharia premium e consistência operacional. Ao contrário de unidades de aquecimento de commodities, este sistema é projetado com uma arquitetura de módulo de aquecimento substituível, garantindo que o núcleo de sua capacidade de processamento térmico possa ser mantido e reparado por muitos anos. O design de carcaça dividida é uma vantagem crítica para pesquisadores modernos, permitindo a integração de linhas de vácuo e sensores pré-montados sem o estresse mecânico frequentemente associado a fornalhas de tubo padrão.

A precisão técnica do controlador PID de 30 segmentos garante que até mesmo as reações de materiais mais sensíveis, como a carbonização de estruturas porosas ou o crescimento de filmes CVD, sejam tratadas com repetibilidade absoluta. Além disso, a pegada compacta e o baixo consumo de energia de 1,2 KW o tornam uma escolha sustentável para laboratórios que buscam otimizar seus custos de utilidade sem sacrificar o desempenho. Com certificações globais e atualizações NRTL/CSA disponíveis, esta unidade atende aos rigorosos requisitos de segurança de instituições acadêmicas e corporações industriais.

Nosso compromisso com o seu sucesso vai além da compra inicial, com uma garantia limitada de um ano e suporte técnico vitalício fornecido por nossa equipe de engenharia especializada. Oferecemos extensas opções de personalização, incluindo materiais de tubo especializados e integração de software, para garantir que o equipamento se alinhe perfeitamente com seus objetivos de pesquisa específicos. Entre em contato conosco hoje para solicitar um orçamento ou para discutir como podemos adaptar uma solução de processamento térmico para atender às suas necessidades exclusivas de laboratório.

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