Forno de Tubo
Forno tubular dividido de 10 zonas de 1200°C com montagem horizontal e vertical para gradientes térmicos multizona e processamento de materiais de grande diâmetro
Número do item: TU-C10
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Visão Geral do Produto

Este sistema de processamento térmico de alto desempenho representa o auge da engenharia de fornos multizona, projetado especificamente para atender às demandas rigorosas da pesquisa em ciência dos materiais e da produção piloto industrial. Ao integrar dez zonas de aquecimento controladas independentemente em uma arquitetura robusta de tubo dividido, este equipamento oferece aos pesquisadores a capacidade única de estabelecer gradientes de temperatura complexos ou manter um campo térmico uniforme excepcionalmente longo. O design de eixo duplo permite a operação tanto na horizontal quanto na vertical, tornando-o um ativo incrivelmente versátil para laboratórios que trabalham em projetos diversos, desde transporte de vapor até crescimento vertical de cristais.
Construído para síntese avançada de materiais e perfilamento térmico, este sistema destaca-se em ambientes onde a precisão e a reprodutibilidade são inegociáveis. Seja utilizado para Deposição Química de Vapor (CVD), recozimento de wafers semicondutores ou simulação de processos de tratamento térmico em escala industrial em um ambiente laboratorial controlado, o equipamento oferece desempenho consistente. O design de forno dividido facilita o resfriamento rápido e o fácil acesso ao tubo de processamento, otimizando o fluxo de trabalho experimental e aumentando a produtividade de projetos de pesquisa críticos em ciência dos materiais de alta temperatura.
A confiabilidade está no centro do design desta plataforma térmica. Projetado com componentes de nível industrial e uma interface de controle sofisticada, o sistema garante uma operação estável mesmo durante ciclos prolongados de alta temperatura. A integridade estrutural da carcaça do forno, combinada com a precisão dos termopares integrados, proporciona a confiança necessária para P&D industrial sensível. Ao oferecer uma capacidade de processamento de grande diâmetro e um comprimento total de aquecimento massivo, esta unidade preenche a lacuna entre experimentos laboratoriais de pequena escala e a produção industrial de materiais, garantindo que sua pesquisa seja traduzida efetivamente para escalas maiores.
Principais Características
- Arquitetura Térmica de Dez Zonas Independentes: O sistema utiliza dez zonas de aquecimento discretas, cada uma medindo 120 mm de comprimento e separadas por barreiras de 30 mm. Esta configuração permite a criação de perfis de temperatura precisos e não lineares ou o estabelecimento de uma zona de aquecimento uniforme notavelmente longa, excedendo 1000 mm a 800°C, proporcionando uma flexibilidade inigualável para processamento térmico complexo.
- Versatilidade de Configuração de Eixo Duplo: Projetada com um sistema de montagem flexível, a unidade pode ser operada tanto na orientação horizontal quanto na vertical. Essa adaptabilidade é crucial para aplicações especializadas, como o crescimento de cristais de Bridgman ou transporte horizontal em fase de vapor, garantindo que o equipamento possa evoluir com as mudanças nos requisitos de pesquisa.
- Lógica de Controle PID Avançada: Cada uma das dez zonas é governada por um controlador de temperatura independente de alta precisão, apresentando 50 segmentos programáveis. O loop PID integrado mantém uma flutuação de temperatura inferior a 1°C, oferecendo a estabilidade rigorosa necessária para síntese de materiais sensíveis e simulações industriais repetíveis.
- Design Robusto de Tubo Dividido: O forno possui um mecanismo de abertura dividida que permite o carregamento e descarregamento rápido de amostras, bem como taxas de resfriamento mais rápidas após o processamento. Este design também simplifica a substituição dos tubos de processamento de alumina de alta pureza e a inspeção dos elementos térmicos.
- Ambiente de Processamento de Alta Capacidade: Com um diâmetro de tubo de processamento padrão de 100 mm e um comprimento total de aquecimento de 1470 mm, este sistema é capaz de lidar com amostras em larga escala ou lotes de alto volume, aumentando significativamente a produtividade de departamentos de pesquisa de materiais e laboratórios industriais.
- Controle Preciso de Atmosfera: Equipado com flanges de aço inoxidável de alta resistência e portas ISO100-K, o sistema suporta operações de alto vácuo até 5e-2 torr e fornecimento preciso de gás através de conexões de compressão de 1/4". Isso permite que os pesquisadores mantenham um controle rigoroso sobre a atmosfera, seja inerte, oxidante ou sob vácuo.
- Monitoramento Térmico Abrangente: Dez termopares tipo K são posicionados estrategicamente para fornecer feedback em tempo real para cada zona. Esta capacidade de monitoramento extensiva garante que qualquer desvio térmico seja corrigido instantaneamente, mantendo a integridade do gradiente de temperatura estabelecido em todo o comprimento de aquecimento de 1470 mm.
- Integração de Comunicação Industrial: Uma porta serial RS-485 está incluída para comunicação remota e registro de dados. Isso permite o controle centralizado via PC, permitindo que os pesquisadores monitorem ciclos, armazenem receitas térmicas complexas e garantam a rastreabilidade total de todos os parâmetros de processamento térmico.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Transporte Físico de Vapor (PVT) | Estabelecimento de gradientes acentuados para o crescimento de cristais de alta pureza e materiais 2D. | Controle preciso sobre as taxas de sublimação e deposição. |
| Deposição Química de Vapor (CVD) | Revestimento em larga escala e síntese de materiais sob fluxo de gás controlado e vácuo. | Alta uniformidade sobre grandes áreas de superfície para qualidade de filme consistente. |
| Simulação de Processo Industrial | Imitação de fornos industriais contínuos de esteira em uma configuração laboratorial tipo lote. | Escalonamento preciso de receitas térmicas do laboratório para o chão de fábrica. |
| Pesquisa de Baterias de Estado Sólido | Sinterização e recozimento em alta temperatura de eletrólitos cerâmicos e materiais de eletrodo. | Distribuição térmica uniforme garante a integridade estrutural dos componentes da bateria. |
| Crescimento Vertical de Bridgman | Utilização da orientação vertical para mover um cadinho através de um gradiente de temperatura controlado. | Condições otimizadas para crescimento de monocristais e estudos de solidificação. |
| Recozimento de Semicondutores | Processamento térmico rápido ou controlado de wafers de silício ou semicondutores compostos. | Estabilidade excepcional evita estresse térmico e defeitos no substrato. |
| Testes de Catalisadores | Avaliação de alto rendimento do desempenho do catalisador através de zonas de temperatura variáveis. | Teste simultâneo de múltiplos parâmetros dentro de um único ciclo. |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | Especificações para TU-C10 |
|---|---|
| Identificação do Modelo | TU-C10 |
| Temperatura Máxima | 1200°C |
| Temperatura de Operação Contínua | 1100°C |
| Configuração da Zona de Aquecimento | 10 Zonas Independentes |
| Comprimento de Cada Zona | 120 mm |
| Comprimento do Separador de Zona | 30 mm |
| Comprimento Total de Aquecimento | 1470 mm |
| Comprimento de Aquecimento Uniforme | <1000 mm @ 800°C ± 2°C |
| Dimensões do Tubo de Processamento | Ø100 × Ø92 × 2000 mm (Outros tamanhos disponíveis) |
| Orientação de Montagem | Horizontal e Vertical |
| Controle de Temperatura | 10x controladores PID, 50 segmentos programáveis cada |
| Precisão de Temperatura | ± 1 ºC |
| Tipo de Termopar | 10x tipo K |
| Capacidade de Vácuo | 5e-2 torr (com bomba mecânica) |
| Pressão Máxima | < 3 psig |
| Design de Flange | Aço inoxidável com porta ISO100-K e porta de vácuo KF25 |
| Entrada/Saída de Gás | Conexões de tubo de compressão de 1/4" |
| Requisitos de Energia | 208-240VAC, Trifásico, 50/60 Hz, 40 A |
| Consumo Máximo de Energia | 14 kVA |
| Interface de Comunicação | Porta Serial RS-485 |
| Padrões de Conformidade | Certificação CE (NRTL/UL/CSA disponível mediante solicitação) |
Por que Escolher o TU-C10
- Flexibilidade de Gradiente Inigualável: O design de dez zonas oferece o controle mais granular sobre perfis térmicos atualmente disponível em um forno laboratorial, permitindo uma síntese de materiais sofisticada que sistemas mais simples não conseguem alcançar.
- Projetado para Confiabilidade: Utilizando elementos térmicos de alta qualidade e materiais de isolamento avançados, este sistema é construído para longevidade e consistência operacional nos ambientes de pesquisa industrial mais exigentes.
- Chassi Versátil de Orientação Dupla: A capacidade de alternar entre configurações horizontal e vertical elimina a necessidade de múltiplos fornos especializados, fornecendo uma solução econômica e que economiza espaço para laboratórios multidisciplinares.
- Precisão e Estabilidade: Com um loop PID que mantém a precisão dentro de ±1°C, os pesquisadores podem ter certeza de que seus perfis térmicos são executados com precisão absoluta, garantindo resultados repetíveis todas as vezes.
- Personalização Completa e Suporte: Oferecemos opções abrangentes de personalização, incluindo diâmetros de tubo especializados e sistemas de controle de atmosfera, apoiados pela nossa equipe de suporte técnico ágil.
Nossa equipe de engenharia está pronta para ajudá-lo a configurar esta plataforma térmica avançada para suas necessidades específicas de pesquisa de materiais; entre em contato conosco hoje para uma consulta técnica e um orçamento formal.
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