Forno de Tubo Dividido de Quatro Zonas a 1200°C com Controle por Tela Sensível ao Toque, Tubo de Quartzo de Alta Pureza e Flanges de Vedação a Vácuo

Forno de Tubo

Forno de Tubo Dividido de Quatro Zonas a 1200°C com Controle por Tela Sensível ao Toque, Tubo de Quartzo de Alta Pureza e Flanges de Vedação a Vácuo

Número do item: TU-45

Temperatura máxima de operação: 1200°C : Configuração da zona de aquecimento: 4 zonas independentes (900 mm no total) :
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Visão Geral do Produto

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Este sistema de processamento térmico sofisticado foi projetado para fornecer precisão incomparável na pesquisa de materiais de alta temperatura e na produção industrial. Ao utilizar uma arquitetura exclusiva de aquecimento de quatro zonas, o equipamento permite que os operadores escolham entre criar uma zona de temperatura constante perfeitamente uniforme ou estabelecer um gradiente térmico personalizado. Esta versatilidade é essencial para a síntese avançada de materiais, onde perfis de temperatura específicos são necessários para conduzir reações químicas, facilitar o crescimento de cristais ou gerenciar transições de fase com detalhes rigorosos. O design de forno dividido aumenta ainda mais a eficiência operacional, permitindo resfriamento rápido e acesso fácil ao tubo de processamento de quartzo, tornando-o um ativo indispensável para ambientes de laboratório de alta produtividade.

Projetado para ciclos exigentes de P&D e fabricação em escala piloto, esta unidade se destaca em processos de difusão de semicondutores, sinterização de cerâmicas e recozimento especializado. Sua construção robusta e materiais de isolamento avançados garantem que ele possa manter temperaturas de pico de 1200°C, protegendo ao mesmo tempo ambientes de laboratório sensíveis e eletrônicos ao redor contra a dissipação de calor. Indústrias que vão desde aeroespacial e tecnologia de baterias até química de estado sólido confiam neste sistema por sua capacidade de fornecer resultados repetíveis sob condições de vácuo ou atmosfera controlada. A integração de quartzo de alta pureza e vedações de vácuo de precisão proporciona um ambiente limpo e livre de contaminantes, mesmo para as amostras analíticas mais sensíveis.

A confiabilidade é a base da engenharia deste sistema térmico. Cada componente, desde o isolamento de alumina fibrosa de alta pureza até os ventiladores de resfriamento de alta resistência, é selecionado para garantir integridade estrutural e longevidade de desempenho sob operação contínua. A carcaça de aço de dupla camada permanece fria ao toque mesmo durante ciclos de aquecimento de pico, priorizando a segurança do operador e a durabilidade do equipamento. Ao combinar automação de última geração com tela sensível ao toque e a confiabilidade tradicional de fornos divididos, este sistema oferece uma solução de nível profissional para pesquisadores que precisam tanto da potência do processamento de alta temperatura quanto da finesse do gerenciamento térmico multizona.

Características Principais

  • Aquecimento de Quatro Zonas com Controle Independente: O sistema conta com quatro zonas de aquecimento distintas dispostas em uma configuração de 150mm-300mm-300mm-150mm, permitindo a criação de gradientes térmicos precisos ou um comprimento total de aquecimento massivo de 900mm para processamento em lotes grandes.
  • Interface Avançada com Tela Sensível ao Toque: Um painel de toque centralizado de alta resolução integra quatro controladores PID, permitindo programação perfeita de 30 segmentos para taxas de aquecimento, tempos de espera e curvas de resfriamento com precisão de ±1°C.
  • Engenharia de Forno Dividido para Eficiência: O design de caixa dividida com dobradiças permite a abertura rápida da câmara, facilitando o resfriamento mais rápido da amostra após o processamento e simplificando a instalação ou remoção do tubo de quartzo e fixações internas.
  • Vedação a Vácuo de Alto Desempenho: Equipado com um sistema de flange vedado a vácuo de nível profissional com válvula de agulha integrada, manômetro mecânico e válvula de esfera, a unidade suporta níveis de vácuo de até 10-4 torr com sistemas de bombeamento adequados.
  • Isolamento Térmico Superior: Utilizando isolamento de alumina fibrosa de alta pureza, o sistema minimiza o consumo de energia e evita a fuga de calor, garantindo que a casca externa permaneça em uma temperatura segura enquanto mantém a estabilidade térmica interna.
  • Matriz de Termopares de Precisão: Quatro termopares do tipo K são estrategicamente incorporados nas zonas para fornecer feedback de temperatura em tempo real e de alta precisão diretamente aos controladores PID para ajuste instantâneo dos perfis térmicos.
  • Protocolos de Segurança Reforçados: O equipamento inclui proteção contra superaquecimento integrada e um sistema de alarme para termopar quebrado, que desliga automaticamente o aquecimento para evitar danos ao hardware ou perda experimental durante operação sem supervisão.
  • Compatibilidade Versátil com Tubos: O sistema é projetado para acomodar vários diâmetros de tubo de quartzo, variando de 80mm a 130mm, proporcionando aos pesquisadores a flexibilidade de dimensionar tamanhos de amostra sem investir em sistemas de forno completamente novos.
  • Sistema de Resfriamento por Ar Forçado: Uma caixa de aço de dupla camada integrada com ventiladores de resfriamento energeticamente eficientes garante fluxo de ar contínuo entre as cascas interna e externa, estendendo significativamente a vida útil dos componentes eletrônicos.
  • Conectividade para PC Industrial: Com uma porta de comunicação RS485 e software dedicado, o sistema permite monitoramento remoto, registro de dados e controle por PC de ciclos térmicos complexos para trilhas de auditoria completas.

Aplicações

Aplicação Descrição Benefício Principal
Difusão de Semicondutores Introdução de dopantes em wafers de silício utilizando gradientes térmicos precisos ao longo do tubo de processamento. Garante profundidades de junção e características elétricas uniformes em todo o lote.
P&D de Baterias de Estado Sólido Sinterização de materiais eletrolíticos e revestimentos de eletrodos sob atmosferas controladas ou vácuo. Evita oxidação e garante alta condutividade iônica em componentes sensíveis da bateria.
Processos CVD / PECVD Serve como reator térmico para Deposição Química de Vapor de filmes finos, nanotubos ou nanofios. O aquecimento multizona estável permite controle preciso sobre reações de fase gasosa e espessura do filme.
Recozimento de Ligas Metálicas Alívio de tensões internas em componentes metálicos de precisão para aeroespacial ou grau médico. Taxas de resfriamento controladas e ambiente de vácuo evitam descarburação superficial e incrustação.
Co-fiação de Cerâmicas Processamento de alta temperatura de capacitores cerâmicos multicamadas ou materiais piezoelétricos. A zona de temperatura constante de 300mm garante contração uniforme e densidade estrutural.
Crescimento de Cristais Utilização da capacidade de gradiente de quatro zonas para promover os métodos de crescimento Bridgman ou Czochralski. Gradientes térmicos personalizáveis permitem controle rigoroso sobre a interface sólido-líquido para cristais de alta pureza.
Sinterização Atmosférica Aquecimento de cerâmicas de óxido em nitrogênio, argônio ou gás de formação para atingir densidade teórica. Flanges de vácuo de alta qualidade e válvulas de agulha permitem gerenciamento preciso do fluxo de gás e pureza.
Teste de Catalisadores Avaliação do desempenho de catalisadores industriais em temperaturas elevadas sob várias condições de fluxo. A estrutura robusta do tubo de quartzo resiste a ambientes de gás corrosivo e ciclos térmicos rápidos.

Especificações Técnicas

Parâmetros Gerais do Sistema

Característica Detalhes da Especificação (Modelo TU-45)
Número do Item TU-45
Estrutura do Forno Caixa de aço de dupla camada com ventiladores de resfriamento de ar forçado
Material de Isolamento Isolamento de alumina fibrosa de alta pureza (economia de energia)
Temperatura Máxima 1200 °C (por < 1 hora)
Temperatura de Trabalho Contínuo 1100 °C
Taxa Máxima de Aquecimento ≤ 20 °C / minuto
Precisão de Temperatura ± 1 °C
Tipo de Termopar 4 conjuntos de termopares tipo K

Configuração Multizona

Métricas da Zona de Aquecimento Medição
Comprimento Total da Zona de Aquecimento 900 mm
Comprimento Individual das Zonas Zona 1: 150mm | Zona 2: 300mm | Zona 3: 300mm | Zona 4: 150mm
Zona de Temperatura Constante 300 mm com variação de ± 2 °C (todas as zonas no mesmo ponto de ajuste)
Método de Controle Controle PID independente para cada zona via tela sensível ao toque

Requisitos de Energia e Elétricos

Parâmetro Requisito
Tensão de Entrada AC 208-240V Monofásico, 50/60 Hz
Consumo Máximo de Energia 7 KW
Proteção de Circuito Disjuntor de 50A necessário
Interface de Comunicação Porta RS485 (Software incluído)

Opções de Tubo de Processamento e Variantes

Modelo Base Material do Tubo Dimensões do Tubo (OD x ID x Comprimento) Compatibilidade com Flange
TU-45-80 Quartzo de Alta Pureza 80 mm x 74 mm x 1400 mm Vedado a vácuo com conexão de 1/4"
TU-45-100 Quartzo de Alta Pureza 100 mm x 94 mm x 1400 mm Vedado a vácuo com conexão de 1/4"
TU-45-130 Quartzo de Alta Pureza 130 mm x 124 mm x 1400 mm Vedado a vácuo com conexão de 1/4"

Controle de Vácuo e Atmosfera

Característica Especificação
Nível de Vácuo (Turbobomba) Até 10-4 torr
Nível de Vácuo (Mecânico) Até 10-2 torr
Portas de Vácuo Porta KF25 disponível mediante solicitação
Limite de Pressão de Gás < 0,2 bar (Operação padrão)
Taxa Máxima de Fluxo de Gás < 200 SCCM (para proteger o quartzo contra choque térmico)
Acessórios Incluídos Válvula de agulha, manômetro mecânico, válvula de esfera, blocos de tubo cerâmico

Por Que Escolher a Nossa Empresa

  • Flexibilidade Térmica Incomparável: A configuração de quatro zonas fornece um nível de controle que fornos de zona única padrão não conseguem igualar, permitindo síntese de gradiente complexa e uniformidade superior em um volume maior.
  • Controle por Toque Intuitivo: Ao consolidar quatro controladores independentes em uma única interface de tela sensível ao toque, reduzimos erros do operador e simplificamos o gerenciamento de perfis térmicos complexos de 30 segmentos.
  • Engenharia de Vácuo Profissional: Diferente de fornos de laboratório padrão, este sistema é otimizado para integridade de alto vácuo, com flanges usinados de precisão e quartzo de alta qualidade que atendem aos padrões do processamento industrial de semicondutores.
  • Design com Segurança em Primeiro Lugar: A construção de dupla casca e resfriamento a ar intensivo são projetados para segurança em ambientes de laboratório de alto tráfego, garantindo que as altas temperaturas internas não representem risco para pessoal ou outros equipamentos.
  • Durabilidade de Nível de Investimento: Construído com isolamento de alumina de alta pureza e elementos de aquecimento premium, este sistema é projetado para anos de desempenho consistente em ambientes exigentes de P&D, oferecendo alto retorno sobre o investimento por meio da confiabilidade.

Este sistema térmico de quatro zonas de alto desempenho representa o auge da tecnologia de tratamento térmico laboratorial. Entre em contato com a THERMUNITS hoje mesmo para solicitar uma cotação ou discutir uma configuração personalizada adaptada aos seus requisitos específicos de ciência dos materiais.

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