Forno de Tubo
Forno Tubular Bipartido de Três Zonas 36 Polegadas de Comprimento de Aquecimento Forno de Pesquisa de Materiais de Alta Temperatura 1200C com Flanges de Vácuo
Número do item: TU-36
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Visão Geral do Produto

Este sistema de processamento térmico de alto desempenho é projetado para pesquisa avançada em ciência dos materiais e aplicações industriais de P&D que exigem controle preciso da atmosfera e uniformidade térmica excepcional. Ao utilizar um design de câmara bipartida, o equipamento permite acesso rápido às amostras e a integração contínua de configurações experimentais complexas sem perturbar os componentes do tubo previamente alinhados. Esta unidade específica foi projetada para operar em temperaturas de até 1200°C, tornando-se uma ferramenta essencial para processos de síntese e recozimento de alta exigência.
O sistema é utilizado principalmente na fabricação de semicondutores, em laboratórios metalúrgicos e em centros de nanotecnologia, onde gradientes térmicos controlados são críticos. Sua configuração de três zonas permite o gerenciamento independente da temperatura ao longo de um comprimento de aquecimento substancial, oferecendo aos pesquisadores a flexibilidade de estabelecer ambientes de crescimento específicos ou manter uma zona de temperatura constante estendida. Essa adaptabilidade garante que o equipamento possa lidar com tudo, desde a sinterização simples até fluxos de trabalho complexos de deposição química de vapor (CVD).
Construído para oferecer confiabilidade em condições exigentes, este forno apresenta um gabinete de aço de dupla camada e isolamento de alumina fibrosa de alta pureza. A inclusão de ventiladores de resfriamento garante baixa temperatura superficial para a segurança do operador, enquanto os robustos elementos de aquecimento são projetados para consistência de longo prazo. Seja operando sob alto vácuo ou em uma atmosfera gasosa específica, a unidade oferece a estabilidade e a precisão necessárias para resultados científicos reprodutíveis em ambientes industriais de alta pressão.
Principais Características
- Controle Térmico Multizona Independente: A câmara de aquecimento é dividida em três zonas distintas de 300 mm, cada uma gerenciada por seu próprio controlador digital, permitindo a criação de gradientes térmicos precisos ou de uma zona de temperatura constante significativamente alongada de 625 mm.
- Regulação PID de Alta Precisão: Três controladores PID autoajustáveis baseados em microprocessador fornecem uma precisão de ±1°C, garantindo temperaturas de processamento estáveis e evitando ultrapassagens durante ciclos de rampa sensíveis.
- Arquitetura Inovadora de Câmara Bipartida: O design bipartido facilita a limpeza, o resfriamento rápido e a substituição simplificada do tubo, o que é particularmente benéfico para configurações experimentais complexas que envolvem posicionamento delicado de amostras.
- Integridade Atmosférica Avançada: Equipado com flanges de vedação a vácuo em aço inoxidável SS 304 e anéis O duplos de silicone de alta temperatura, o sistema mantém altos níveis de vácuo (até 10-5 torr com uma turbobomba) e suporta diversos ambientes gasosos.
- Elementos de Aquecimento Premium: Utilizando elementos de aquecimento em liga Fe-Cr-Al dopados com molibdênio, o forno proporciona transferência de calor eficiente e durabilidade excepcional para operação contínua em temperaturas de até 1100°C.
- Engenharia de Segurança Robusta: A proteção integrada contra sobretemperatura e os alarmes de termopar rompido permitem operação sem supervisão, enquanto a tampa bipartida inclui proteção de intertravamento para garantir o corte de energia quando o forno é aberto.
- Isolamento Eficiente em Energia: O uso de isolamento de alumina fibrosa de alta pureza minimiza a perda de calor e reduz o consumo de energia, enquanto o gabinete de aço de dupla camada com ventiladores de resfriamento mantém uma temperatura externa segura.
- Programação Sofisticada: Cada controlador de temperatura possui 30 segmentos programáveis, permitindo aos usuários definir perfis complexos de aquecimento, resfriamento e patamar para transformações avançadas de materiais.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Síntese de Materiais 2D | Síntese de MoS2 dopado com Ta e Nb usando etapas térmicas e fluxos de gás específicos. | Controle preciso sobre a estrutura de borda e a densidade de dopagem. |
| Crescimento de Nanofios | Definição independente das etapas de recozimento (400°C) e crescimento (700-860°C) para Ga2O3. | Otimiza a liga do catalisador e a morfologia do crescimento axial. |
| Recozimento por Difusão | Homogeneização em alta temperatura de ligas Fe-Ni-Cu a 1000°C. | Elimina desvios na taxa de difusão por meio da uniformidade térmica. |
| Sinterização de Cerâmicas Avançadas | Processamento térmico controlado de precursores cerâmicos sob vácuo ou gás inerte. | Evita a oxidação e garante resultados de materiais de alta densidade. |
| Processos CVD / PECVD | Atuando como reator térmico para deposição química de vapor de filmes finos. | Campo de temperatura estável em toda a zona de deposição. |
| Pesquisa Metalúrgica | Estudos de transformação de fase que exigem resfriamento rápido e tempos de permanência precisos. | O design bipartido permite têmpera rápida e fácil remoção da amostra. |
| Dopagem de Semicondutores | Difusão de dopantes em wafers de silício ou outros substratos sob pureza controlada. | Ambiente limpo mantido por quartzo de alta qualidade e flanges SS. |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | TU-36-80 | TU-36-101 | TU-36-125 |
|---|---|---|---|
| Tamanho do Tubo de Quartzo (OD x ID x L) | 80 x 72 x 1400 mm | 101 x 92 x 1400 mm | 130 x 120 x 1400 mm |
| Temperatura Máx. de Aquecimento | 1200°C | 1200°C | 1200°C |
| Temperatura Contínua | 1100°C | 1100°C | 1100°C |
| Temp. Máx. (Vácuo) | 1000°C | 1000°C | 1000°C |
| Comprimento da Zona de Aquecimento | 900 mm (300mm x 3) | 900 mm (300mm x 3) | 900 mm (300mm x 3) |
| Zona de Temperatura Constante | 625 mm (25") | 625 mm (25") | 625 mm (25") |
| Precisão de Temperatura | ± 1°C | ± 1°C | ± 1°C |
| Taxa de Aquecimento (Máx.) | 20°C / min | 20°C / min | 20°C / min |
| Voltagem | 208-240V Monofásico | 208-240V Monofásico | 208-240V Monofásico |
| Potência Máx. | 7,0 KW | 7,0 KW | 7,0 KW |
| Controlador de Temperatura | 3x PID de 30 Segmentos | 3x PID de 30 Segmentos | 3x PID de 30 Segmentos |
| Nível de Vácuo | 10-2 a 10-5 Torr | 10-2 a 10-5 Torr | 10-2 a 10-5 Torr |
| Material da Flange | SS 304 | SS 304 | SS 304 |
| Comunicações | RS-485 | RS-485 | RS-485 |
| Conformidade | Certificado CE | Certificado CE | Certificado CE |
Por que escolher nosso Forno Tubular Bipartido de Três Zonas
- Uniformidade Térmica Comprovada: Ao utilizar três zonas de aquecimento controladas independentemente, este sistema oferece uma região de temperatura uniforme significativamente mais longa e estável do que as alternativas de zona única, garantindo resultados consistentes em lotes maiores.
- Confiabilidade de Grau Industrial: Construído com elementos premium Fe-Cr-Al e um chassi de aço de parede dupla, a unidade foi projetada para operações industriais e de pesquisa 24/7, proporcionando baixo custo de propriedade por meio de durabilidade de longo prazo.
- Engenharia de Precisão: A integração de controladores PID autoajustáveis baseados em microprocessador garante que até os perfis térmicos mais complexos de 30 segmentos sejam executados com precisão de ±1°C, o que é crítico para síntese de alta pureza.
- Integração Versátil: Com upgrades opcionais para controle por PC, controladores Eurotherm e várias configurações de bomba de vácuo, este forno pode ser personalizado para atender aos requisitos específicos de qualquer fluxo de trabalho em ciência dos materiais.
- Segurança e Conformidade: Os recursos padrão incluem alarmes de sobretemperatura, proteção contra falha de termopar e certificação CE, garantindo que o equipamento atenda aos padrões internacionais de segurança para uso em laboratório.
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