Forno de Tubo Dividido Multizona de 1200°C com Quatro Zonas e Controladores de Temperatura Digitais Independentes para Tubos de Processamento de Uma ou Duas Polegadas

Visão Geral do Produto

Este sistema de aquecimento multizona de engenharia de precisão oferece capacidades sofisticadas de processamento térmico para ciência de materiais avançada e pesquisa e desenvolvimento industrial. Projetado como um forno de tubo dividido de quatro zonas, o equipamento permite a criação de gradientes térmicos escalonados precisos ou zonas de temperatura uniforme excepcionalmente longas, ajustando independentemente a saída térmica de quatro segmentos distintos de 100 mm. O console de controle de temperatura separado garante que os componentes eletrônicos sejam protegidos do calor radiante, aumentando a confiabilidade de longo prazo e a estabilidade operacional de todo o sistema durante ciclos de alta temperatura de até 1200°C.

Ideal para Transporte em Fase de Vapor (VPT), Deposição Química em Fase de Vapor (CVD) e Transporte Físico em Fase de Vapor (PVT), esta unidade oferece aos pesquisadores a flexibilidade de acomodar tubos de processamento com diâmetros externos de uma ou duas polegadas. Seu design de dobradiça dividida facilita o carregamento/descarga fácil de amostras e permite resfriamento rápido, o que é essencial para certos processos metalúrgicos e de crescimento de filmes finos. Ao integrar isolamento de fibra de alumina de alta pureza e elementos de aquecimento avançados, o sistema alcança uma notável eficiência energética enquanto mantém uma temperatura superficial externa fria para a segurança do operador.

Construído para ambientes de laboratório exigentes, o equipamento enfatiza consistência e reprodutibilidade. Cada uma das quatro zonas é governada por seu próprio controlador digital dedicado, permitindo perfis de temperatura complexos que são essenciais para o crescimento de cristais de alta qualidade e a síntese de novos materiais. Seja usado em configuração horizontal para processamento padrão ou montado verticalmente para aplicações especializadas, a unidade oferece a robustez e precisão necessárias para pesquisa industrial crítica e caracterização de materiais de alto risco.

Características Principais

• Aquecimento de Quatro Zonas Controlado Independentemente: O sistema possui quatro zonas de aquecimento separadas de 100 mm, cada uma equipada com seu próprio controlador PID dedicado. Esta arquitetura permite aos usuários estabelecer gradientes de temperatura específicos ou estender a zona de temperatura constante até 250 mm com precisão de ±1°C.
• Isolamento Térmico Avançado e Design da Carcaça: Uma caixa de aço de dupla camada integrada com tecnologia de resfriamento a ar mantém a temperatura da superfície externa abaixo de 60°C. A câmara interna utiliza isolamento de alumina fibrosa de alta pureza e economia de energia que minimiza a perda de calor e melhora os tempos de resposta de temperatura.
• Elementos de Aquecimento de Liga de Alta Performance: Equipado com elementos de liga Fe-Cr-Al grau 1300°C dopados com Molibdênio, o forno garante operação de longa duração e pode atingir temperaturas de pico de 1200°C com taxas de aquecimento rápidas de até 20°C por minuto.
• Controladores Digitais PID de Precisão: O console de controle inclui quatro unidades digitais individuais com controle automático PID para aquecimento, resfriamento e tempos de permanência. Cada controlador suporta até 30 segmentos programáveis, fornecendo controle granular sobre sequências térmicas complexas.
• Arquitetura de Forno Dividido: O design de dobradiça dividida permite a abertura rápida do forno, o que é crítico para configurações experimentais que requerem acesso rápido ao tubo de processamento ou para acelerar as taxas de resfriamento para resfriar materiais após tratamento de alta temperatura.
• Configurações de Montagem Versáteis: O módulo de aquecimento é projetado para flexibilidade, podendo ser posicionado horizontal ou verticalmente, dependendo dos requisitos experimentais específicos, como crescimento de cristal Bridgman vertical ou processos CVD horizontais.
• Segurança e Monitoramento Integrados: Proteção embutida contra superaquecimento e termopares quebrados garante que o sistema desligue com segurança em caso de falha, protegendo tanto o equipamento quanto as amostras sensíveis dentro do tubo de processamento.
• Interfaces de Comunicação Escaláveis: Portas de comunicação RS485 padrão permitem potencial integração com software externo de PC para monitoramento remoto, registro de dados e sincronização de programas complexos em todas as zonas de aquecimento.

Aplicações

Especificações Técnicas

Por Que Nos Escolher

• Flexibilidade Térmica Superior: A arquitetura de quatro zonas fornece um nível de controle de gradiente impossível com sistemas de zona única, tornando-a a escolha preferida para síntese complexa em fase de vapor e crescimento de cristais de alta pureza.
• Arquitetura de Controle Separável: Ao isolar a eletrônica de controle em um console separado, prevenimos a deriva térmica dos componentes eletrônicos e estendemos a vida útil dos controladores PID, garantindo desempenho consistente ao longo de anos de uso industrial.
• Engenharia de Precisão e Qualidade de Construção: Dos elementos de aquecimento dopados com Mo à carcaça de dupla camada com resfriamento a ar, cada componente desta unidade é selecionado para durabilidade em ambientes exigentes de pesquisa e produção.
• Modular e Personalizável: O sistema pode ser facilmente adaptado com flanges de vácuo opcionais, medidores digitais e vários materiais de tubos, e é compatível com configurações experimentais horizontais e verticais.
• Segurança e Conformidade: Com certificação CE completa e mecanismos de proteção embutidos para termopares e eventos de supertemperatura, este equipamento atende aos rigorosos padrões de segurança exigidos por laboratórios modernos e instalações de fabricação.

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