Forno de Hidrogênio de Alta Limpeza, 1200°C Máx., 6 Canais, para Recozimento de Alto Rendimento

Forno de Atmosfera

Forno de Hidrogênio de Alta Limpeza, 1200°C Máx., 6 Canais, para Recozimento de Alto Rendimento

Número do item: TU-QF25

Temperatura Máxima: 1200℃ Canais de Processamento: 6 Canais Independentes Padrão de Limpeza: US FED STD 209E Classe 100
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Visão Geral do Produto

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Este sistema multicanal de processamento térmico de alto desempenho foi projetado para aplicações avançadas de ciência dos materiais e P&D industrial que exigem pureza extrema e capacidades de alto rendimento. Ao integrar seis canais de aquecimento independentes em uma câmara especializada de alta limpeza, o equipamento permite que pesquisadores e engenheiros realizem múltiplos ciclos de tratamento térmico simultaneamente sob parâmetros variados. Essa configuração acelera significativamente os fluxos de trabalho experimentais, ao mesmo tempo em que mantém um ambiente controlado adequado para os materiais mais sensíveis, incluindo semicondutores, ligas avançadas e cerâmicas de alta pureza.

Projetado especificamente para operação em ambientes de sala limpa, o sistema atinge um nível de limpeza em conformidade com a US FED STD 209E Classe 100. A arquitetura interna utiliza isolamento premium e tratamentos de superfície para evitar contaminação por partículas, tornando-o a solução ideal para recozimento de wafers semicondutores, pesquisa de deposição de filmes finos e sinterização de alta pureza. Esta unidade se destaca em processos com atmosfera controlada, oferecendo compatibilidade robusta com ambientes de hidrogênio, vácuo e gás inerte, garantindo desempenho versátil para procedimentos complexos de síntese metalúrgica e química.

Construído para confiabilidade de longo prazo em ambientes industriais e acadêmicos exigentes, o equipamento apresenta uma câmara de aço inoxidável de alta resistência e protocolos avançados de segurança. A inclusão de mecanismos especializados de segurança para hidrogênio e automação precisa permite operação contínua e sem supervisão com total confiança. Seja em laboratórios universitários ou em linhas-piloto corporativas, este sistema representa um investimento premium em precisão de processamento térmico, entregando resultados consistentes e reproduzíveis em cada canal.

Principais Características

  • Seis Canais de Aquecimento Independentes: Cada canal é equipado com seu próprio sistema dedicado de controle de temperatura e infraestrutura de fornecimento de gás, permitindo o processamento simultâneo de seis amostras distintas em diferentes temperaturas e condições atmosféricas.
  • Certificação de Limpeza Classe 100: A câmara de fibra de alumina de alta pureza possui uma superfície especial revestida de alumina, projetada para minimizar a geração de poeira e o desprendimento de gases, garantindo um ambiente interno que atende aos padrões US FED STD 209E Classe 100.
  • Sistema Avançado de Segurança para Hidrogênio: Para evitar possíveis explosões, o equipamento utiliza um sistema de circulação de gás inerte dentro da camada de isolamento entre o tubo e a câmara. Em caso de falha do tubo, o hidrogênio é contido e diluído com segurança nessa intercamada protetora.
  • Integração de PID de Precisão e PC: Cada módulo de aquecimento é gerenciado por um controlador programável inteligente de 50 segmentos, totalmente integrado a um software baseado em PC para monitoramento em tempo real, registro de dados e controle automatizado completo dos ciclos de aquecimento, patamar e resfriamento.
  • Câmara de Fibra de Alumina de Alta Pureza: A câmara é construída em fibra cerâmica formada a vácuo para proporcionar excelente isolamento térmico e alta eficiência de aquecimento, ao mesmo tempo em que estende significativamente a vida útil operacional dos componentes internos.
  • Carcaça Dupla Resfriada a Ar: A estrutura externa emprega um design de dupla camada com resfriamento forçado por ar integrado, garantindo que as superfícies externas permaneçam seguras ao toque mesmo durante operação prolongada na temperatura interna máxima.
  • Gerenciamento Automatizado de Gás e Pressão: O modo de sinterização por pressão constante controlado por software ajusta automaticamente as taxas de fluxo de gás para manter uma pressão estável, ligeiramente positiva, assegurando densidade atmosférica consistente durante todo o processo de tratamento térmico.
  • Flanges Independentes Resfriadas a Água: Seis conjuntos de flanges em aço inoxidável 304 com portas de resfriamento a água integradas protegem as vedações O-ring, garantindo integridade de vácuo de longo prazo e estabilidade em alta pressão durante ciclos intensivos de alta temperatura.
  • Opções de Tubo Personalizáveis: Embora tubos de quartzo de alta pureza sejam padrão, o sistema suporta tubos de liga à base de níquel ou liga de zircônio para atender a ambientes corrosivos especializados ou requisitos específicos de temperatura até 1200°C.
  • Documentação Abrangente de Dados: Todos os dados do processo experimental, incluindo curvas de temperatura, níveis de pressão e status de vácuo, são registrados e podem ser exportados para análise detalhada e verificação de controle de qualidade.

Aplicações

Aplicação Descrição Principal Benefício
Recozimento de Semicondutores Tratamento térmico de alta pureza de wafers de silício e semicondutores compostos em condições de sala limpa. Minimiza a contaminação por partículas e garante recuperação uniforme do cristal.
Redução por Hidrogênio Redução de óxidos metálicos a pós metálicos puros ou filmes finos usando uma atmosfera controlada de hidrogênio. Processamento de alto rendimento com protocolos integrados de segurança para gases explosivos.
Metalurgia Avançada Sinterização e tratamento térmico de ligas de alta temperatura e metais não ferrosos em etapas distintas. Canais independentes permitem estudos comparativos rápidos de materiais.
P&D de Filmes Finos Processamento térmico de filmes finos funcionais sobre substratos cerâmicos ou de vidro em vácuo ou gás inerte. Evita oxidação e garante controle preciso da microestrutura do filme.
Testes de Materiais Nucleares Análise em alta temperatura de materiais especializados sob atmosferas operacionais simuladas. Contenção robusta e registro de dados confiável para pesquisas sensíveis.
Sinterização de Cerâmicas Sinterização de cerâmicas técnicas avançadas, incluindo materiais odontológicos e componentes estruturais. Uniformidade de temperatura excepcional em todas as seis zonas de amostra.
Ensaios de CQ Industrial Testes em lote de amostras de materiais para verificar estabilidade térmica e resistência química em diferentes lotes de produção. Aumenta a produtividade do laboratório ao executar múltiplos perfis de teste simultaneamente.

Especificações Técnicas

Categoria Parâmetro Especificação (TU-QF25)
Identificação do Modelo Número do Item do Produto TU-QF25
Alimentação Elétrica Potência de Entrada CA trifásico 380V; 50/60Hz
Potência Máxima 48 KW
Desempenho de Temperatura Temp. Máx. de Operação 1200℃ (≤ 30 min)
Temperatura Contínua 1100℃
Taxa de Aquecimento ≤ 10℃/min
Comprimento da Zona de Aquecimento 700 mm
Precisão de Temperatura ± 1℃ (Controladores europeus opcionais ± 0,1℃)
Sistema de Controle Modelo do Controlador Controlador Inteligente PID 858P
Programação Controle programável de 50 segmentos
Interface de Controle Porta de Comunicação PC DB9 com software especializado
Modos de Controle Modo de purga automática; Modo de sinterização por pressão constante
Construção Material da Câmara Fibra de alumina de alta pureza com revestimento superficial
Elementos de Aquecimento Molibdênio, ferro, cromo e alumínio
Termopar Tipo K
Nível de Limpeza US FED STD 209E Classe 100
Gás & Vácuo Tipo de Flange Flanges em aço inoxidável 304 resfriadas a água (KF60/KF25)
Controle de Fluxo de Gás 6 fluxômetros independentes de flutuação (40-400ml/min)
Alívio Mecânico Padrão Abre em 0,04 MPa
Faixa de Pressão de Sinterização 100.000 Pa - 115.000 Pa (Regulação Automática)
Especificações do Tubo Tamanhos Padrão de Quartzo Φ25x19 ID, Φ50x44 ID, Φ60x55 ID (Comprimento: 1200 mm)
Tubos de Liga Opcionais Liga à base de níquel (1200℃) / Liga de zircônio (800℃)
Acessórios Opcionais Tratamento de Gases Combustíveis 200W, AC220V, com proteção por transformador de corrente
Detecção de Hidrogênio Fixo ou portátil (faixa de 1-1000ppm)
Bombas de Vácuo Mecânica (10^-2 Torr) ou molecular (10^-5 Torr)
Unidade Chiller CW-6300 (capacidade de refrigeração 26826 Btu/h)

Por que escolher o Forno de Hidrogênio de Alta Limpeza, 1200°C Máx., 6 Canais, para Recozimento de Alto Rendimento

  • Rendimento e Versatilidade Incomparáveis: Este sistema efetivamente faz o trabalho de seis fornos separados, permitindo uma enorme expansão dos esforços de P&D sem aumentar a área ocupada pelo equipamento ou o consumo energético.
  • Compatibilidade Superior com Sala Limpa: Projetado para ambientes de alta pureza, o sistema garante que as amostras permaneçam livres de contaminantes, um requisito crítico para a pesquisa moderna em semicondutores e nanotecnologia.
  • Engenharia com Foco em Segurança: Com intercamadas integradas de gás inerte e dispositivos opcionais de tratamento de gases combustíveis, este equipamento estabelece o padrão da indústria para processamento térmico seguro em atmosfera de hidrogênio.
  • Automação de Precisão e Integridade de Dados: A interface de software avançada não apenas automatiza rotinas complexas de purga de gás e sinterização, como também garante que cada ponto de dados seja capturado para conformidade regulatória e validação científica.
  • Personalizável e Preparado para o Futuro: De diversos materiais de tubo à integração avançada de bomba molecular, o sistema pode ser adaptado para atender às suas necessidades atuais de pesquisa e atualizado conforme seus requisitos de processamento evoluem.

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