Forno de Tubo
Forno de Tubo de Quartzo de Dupla Zona com Diâmetro de 80mm, Temperatura Máxima de 1200°C, Misturador de Gás de 3 Canais e Sistema de Bomba de Vácuo
Número do item: TU-42
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Visão Geral do Produto



Este forno de tubo dividido de dupla zona de alto desempenho representa uma solução versátil para pesquisa avançada em ciência de materiais e P&D industrial. Ao integrar um sistema de entrega de gás multicanal com capacidades de alto vácuo, este sistema fornece um ambiente controlado necessário para Deposição Química de Vapor (CVD), Transporte Químico de Vapor (CVT) e vários processos de recozimento em alta temperatura. O equipamento é projetado para pesquisadores que exigem controle absoluto sobre gradientes térmicos e composição atmosférica, garantindo resultados reproduzíveis no desenvolvimento de materiais de próxima geração, como dicalcogenetos de metais de transição e semicondutores de filme fino.
O valor central desta unidade reside em sua arquitetura de dupla zona, que permite a criação de gradientes de temperatura precisos em um tubo de quartzo de alta pureza. Essa funcionalidade é essencial para processos onde a sublimação do precursor e a deposição do substrato devem ocorrer em temperaturas distintas e independentemente controladas. As indústrias-alvo incluem fabricação de semicondutores, pesquisa em nanotecnologia e metalurgia avançada. O design do forno dividido facilita o resfriamento rápido e o fácil acesso à câmara de processo, reduzindo significativamente o tempo de inatividade entre execuções experimentais e aumentando a produtividade em ambientes de laboratório ocupados.
A confiabilidade é projetada em cada componente deste sistema de processamento térmico. Desde a carcaça de aço de dupla camada com resfriamento por ventilador integrado até os controladores PID de precisão, o equipamento é construído para suportar operação contínua em condições exigentes. A inclusão de um medidor de vácuo anticorrosivo garante que, mesmo ao trabalhar com gases agressivos, o sistema mantenha o monitoramento preciso da pressão sem degradação do sensor. Esta unidade oferece o desempenho robusto e a conformidade de segurança exigidos para ambientes laboratoriais modernos, proporcionando aos usuários a confiança para executar perfis térmicos complexos com supervisão mínima.
Características Principais
- Aquecimento de Dupla Zona Independente: O forno apresenta duas zonas de aquecimento separadas, cada uma com 200 mm de comprimento, proporcionando uma área total de aquecimento de 400 mm. Isso permite a criação de gradientes de temperatura precisos ou uma grande zona de temperatura constante de até 250 mm quando ambas as zonas estão sincronizadas, oferecendo flexibilidade incomparável para Transporte Químico de Vapor (CVT).
- Controle de Temperatura PID de Precisão: Equipado com dois controladores PID avançados, o sistema oferece 30 segmentos programáveis para gerenciamento meticuloso de taxas de aquecimento, resfriamento e tempos de permanência. A precisão é mantida dentro de ±1°C, garantindo alta estabilidade do processo para crescimento de materiais sensíveis.
- Estacão de Mistura de Gás de 3 Canais Integrada: Um sistema profissional de entrega de gás está incluído, apresentando três medidores de fluxo independentes e um tanque de mistura. Isso permite a mistura precisa de vários gases de processo, possibilitando reações de CVD complexas e controle atmosférico dentro da câmara de reação de quartzo.
- Integração de Vácuo de Alto Desempenho: O sistema inclui uma bomba de vácuo rotativa de palhetas dupla etapa pesada de 156 L/m, capaz de atingir níveis de vácuo de até 10^-2 torr. O sistema de vácuo é protegido com flanges e válvulas de aço inoxidável KF25 de alta qualidade para garantir integridade de vácuo a longo prazo e taxas de vazamento abaixo de 5 m-torr/min.
- Medidor de Capacitância Pirani Anticorrosivo: Diferente dos medidores padrão, esta unidade utiliza um medidor de capacitância de diafragma com revestimento cerâmico. Este sensor especializado é projetado para resistir à corrosão de precursores químicos agressivos, fornecendo medições de vácuo confiáveis de 10^-5 a 1000 torr em ambientes de processo severos.
- Segurança e Resfriamento Avançados: A carcaça de aço de dupla camada incorpora um sistema de resfriamento a ar automático. Termostatos embutidos ativam ventiladores internos se a temperatura da carcaça exceder 55°C, garantindo que o exterior permaneça seguro ao toque enquanto protege os componentes eletrônicos internos do estresse térmico.
- Câmara de Processo de Quartzo de Alta Pureza: O sistema utiliza um tubo de quartzo fundido de alta pureza com 80mm de diâmetro externo. Este material oferece excepcional resistência ao choque térmico e inércia química, proporcionando um ambiente transparente que permite o monitoramento visual de amostras e precursores durante o tratamento térmico.
- Automação e Conectividade: Uma porta de comunicação RS485 embutida permite o registro externo de dados. O sistema também é compatível com software baseado em LabView, permitindo operação remota e gerenciamento de receitas via PC para fluxos de trabalho de pesquisa altamente automatizados.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Benefício Principal |
|---|---|---|
| Crescimento de Grafeno por CVD | Deposição de vapor de átomos de carbono em folhas metálicas sob atmosferas gasosas controladas. | A mistura de gás de alta pureza garante crescimento de monocamada de alta qualidade. |
| Síntese de Nanofitas de TMD | Controle preciso sobre a pressão de vapor de calcogênio para crescimento de Dicalcogenetos de Metais de Transição. | Zonas independentes permitem temperaturas separadas de sublimação e deposição. |
| Transporte Químico de Vapor (CVT) | Criação de gradientes de temperatura para impulsionar a migração de vapor e cristalização de cristais de alta pureza. | O controle de dupla zona estabelece o gradiente específico necessário para o crescimento de cristais. |
| Recozimento de Semicondutores | Tratamento térmico de wafers de silício ou semicondutores compostos em vácuo ou gás inerte. | O medidor anticorrosivo permite o uso de gases de dopagem ou gravação agressivos. |
| Sinterização de Pós | Consolidação em alta temperatura de pós cerâmicos ou metálicos em atmosfera controlada. | Zonas de temperatura uniforme previnem estresse térmico e garantem densidade consistente. |
| Pesquisa de Materiais 2D | Exploração de MoS2, WS2 e outros materiais em camadas via métodos de fase de vapor. | O design do forno dividido permite resfriamento rápido para interromper fases de reação. |
| Desenvolvimento de Fósforo | Síntese de materiais luminescentes que requerem perfis específicos de atmosfera e temperatura. | A programação precisa de 30 segmentos replica receitas industriais complexas. |
Especificações Técnicas
| Grupo de Parâmetros | Detalhe da Especificação | Valor para TU-42 |
|---|---|---|
| Construção Geral | Material da Carcaça | Aço de dupla camada com ventiladores de resfriamento a ar |
| Termostato de Segurança | Ventiladores de resfriamento ativam a > 55°C de temperatura da carcaça | |
| Conformidade | Certificado CE; componentes prontos para UL/CSA | |
| Energia & Elétrico | Consumo de Energia | 2.5 KW |
| Tensão de Entrada | AC 208-240V Monofásico, 50/60 Hz | |
| Desempenho Térmico | Temperatura Máxima | 1200 °C |
| Temperatura de Trabalho Contínua | 1100 °C | |
| Taxa Máxima de Aquecimento | ≤ 20 °C/min (≤ 5 °C/min acima de 1000°C) | |
| Precisão da Temperatura | +/- 1°C | |
| Elementos de Aquecimento | Liga Fe-Cr-Al dopada com Mo | |
| Zonas de Aquecimento | Comprimento da Zona de Aquecimento | Duas Zonas: 200 mm (8") cada; 400 mm total |
| Zona de Temp. Constante (Dual) | 250 mm (10") a +/- 1°C (ambas as zonas sincronizadas) | |
| Zona de Temp. Constante (Única) | 110 mm (4.3") a +/- 1°C (apenas zona central) | |
| Tubo de Processo | Material do Tubo | Quartzo Fundido de Alta Pureza |
| Dimensões do Tubo | 80 mm DE x 72 mm DI x 1000 mm Comprimento | |
| Sistema de Controle | Tipo de Controlador | Dois controladores automáticos PID |
| Programação | 30 segmentos (Aquecer, Resfriar, Permanência) | |
| Proteções | Proteção contra superaquecimento e termopar rompido | |
| Comunicação | Porta RS485 (Compatível com PC/LabView) | |
| Sistema de Vácuo | Tipo de Bomba de Vácuo | Rotativa de Palhetas Dupla Etapa 156 L/m |
| Vácuo Máximo (Mecânico) | 10^-2 torr | |
| Medidor de Vácuo | Medidor de Capacitância de Diafragma Anticorrosivo | |
| Faixa do Medidor | 10^-5 a 1000 torr | |
| Flanges de Vedação | Aço Inoxidável KF25 com válvulas duplas | |
| Taxa de Vazamento | < 5 m-torr/min; < 2 torr em 24 horas | |
| Mistura de Gás | Medidores de Fluxo de Gás | Três medidores de fluxo de leitura direta (10-100, 16-160, 25-250 cc/min) |
| Hardware de Mistura | Tanque de mistura interno e quatro válvulas de controle de aço inoxidável | |
| Monitoramento de Pressão | Manômetro integrado para o tanque de mistura |
Por Que Escolher-nos
- Versatilidade Térmica Superior: A configuração de dupla zona deste sistema fornece aos pesquisadores a capacidade essencial de criar gradientes térmicos precisos, um requisito para Transporte Químico de Vapor e crescimento de cristais de alta qualidade que fornos de zona única não conseguem igualar.
- Confiabilidade de Vácuo de Grau Industrial: Ao incluir um medidor de capacitância de diafragma anticorrosivo como padrão, este forno garante longevidade e precisão ao manusear gases agressivos, protegendo seu investimento das falhas de sensor comuns em sistemas de nível inferior.
- Engenharia de Atmosfera de Precisão: O misturador de gás de 3 canais integrado e a bomba de vácuo fornecem uma solução completa e pronta para uso para pesquisa em CVD, eliminando a necessidade de componentes de terceiros e garantindo compatibilidade perfeita entre entrega de gás e processamento térmico.
- Segurança e Certificação Comprovadas: Com certificação CE e o uso de componentes elétricos certificados UL/MET/CSA, este equipamento atende aos rigorosos padrões de segurança exigidos por principais laboratórios acadêmicos e industriais em todo o mundo.
- Engenharia Robusta e Suporte: Construído com uma carcaça de dupla camada resfriada a ar e elementos de liga de alta eficiência dopados com Mo, a unidade é projetada para anos de operação consistente. Fornecemos suporte técnico abrangente e opções de personalização para atender às suas necessidades específicas de pesquisa.
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