Forno Tubular a Vácuo de Zona Dupla de Alta Temperatura para Pesquisa de Materiais e Processamento CVD

Forno de Tubo

Forno Tubular a Vácuo de Zona Dupla de Alta Temperatura para Pesquisa de Materiais e Processamento CVD

Número do item: TU-GS03

Temperatura Máxima de Operação: Zona 1: 1700°C / Zona 2: 1400°C Precisão do Controle de Temperatura: ±1°C (PID programável de 30 segmentos) Grau de Vácuo Final: Até 10-3 Pa (Sistema de Bomba Molecular)
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Este forno tubular a vácuo de zona dupla de alta temperatura representa o auge da engenharia térmica, projetado para facilitar a pesquisa sofisticada em ciência dos materiais e P&D industrial. Ao integrar duas zonas de aquecimento distintas dentro de um único tubo horizontal, o sistema permite a criação de gradientes de temperatura complexos ou a manutenção de dois ambientes térmicos separados simultaneamente. Esta capacidade dupla é essencial para deposição química de vapor (CVD), sinterização em atmosfera controlada e ciclos de recozimento complexos onde a precisão e a flexibilidade são fundamentais. O equipamento foi construído com foco em oferecer alta eficiência térmica e um campo de temperatura de equilíbrio, garantindo que cada espécime passe por um processamento consistente e repetível.

Projetada para ambientes laboratoriais exigentes, a unidade utiliza uma combinação de elementos de aquecimento avançados, especificamente hastes de dissiliceto de molibdênio (MoSi2) e carboneto de silício (SiC), para atingir altas temperaturas com estabilidade excepcional. A estrutura de revestimento duplo minimiza a perda de calor para o ambiente externo, mantendo uma baixa temperatura de superfície para a segurança do operador e aumentando a eficiência energética. As indústrias-alvo incluem fabricação de semicondutores, cerâmicas avançadas, metalurgia aeroespacial e institutos de pesquisa universitários. Este sistema foi projetado para fornecer serviço confiável sob operação contínua em alta temperatura, dando aos pesquisadores a confiança para executar experimentos de longa duração sem falhas de hardware.

Este equipamento não é apenas um forno, mas uma solução completa de processamento térmico. Com controle de software integrado, gerenciamento de vácuo sofisticado e recursos de segurança multicamadas, ele oferece uma plataforma robusta para a síntese moderna de materiais. Seja realizando recozimento a vácuo ou processos de redução em alta temperatura, a unidade mantém estrita adesão aos perfis térmicos definidos. A integração de isolamento de fibra policristalina de alumina de alta pureza garante uma resposta térmica rápida e resistência ao choque térmico, posicionando este forno como um ativo crítico para laboratórios que exigem alto rendimento e precisão intransigente em seus protocolos de tratamento térmico.

Principais Características

  • Controle Independente de Zona Dupla: Este sistema possui duas zonas de aquecimento separadas que podem ser controladas de forma independente. Isso permite que os usuários definam temperaturas distintas em cada zona, facilitando experimentos complexos de gradiente térmico ou fornecendo uma zona de temperatura constante maior e mais estável quando sincronizadas.
  • Elementos de Aquecimento Híbridos Avançados: A primeira zona utiliza hastes de dissiliceto de molibdênio (MoSi2) de grau 1800 premium, enquanto a segunda zona incorpora hastes robustas de carboneto de silício (SiC). Esta abordagem híbrida otimiza o perfil de aquecimento e a longevidade do forno em um amplo espectro de temperatura.
  • Gerenciamento de Temperatura PID de Precisão: Equipado com instrumentos digitais avançados, o forno oferece controle programável de 30 segmentos. Possui ajuste PID inteligente com precisão de ±1°C, garantindo que até mesmo os processos industriais mais sensíveis permaneçam dentro de tolerâncias rigorosas.
  • Vedação a Vácuo de Alto Desempenho: O tubo do forno é fixado com flanges de aço inoxidável com anéis de vedação (O-rings) de silicone de camada dupla. Este design retrátil e fácil de remover garante uma estanqueidade ao ar excepcional, capaz de manter níveis de vácuo por 12 horas sem perda de pressão mensurável.
  • Tecnologia de Isolamento Superior: A câmara é construída com fibra policristalina de alumina de alta qualidade. Este material é escolhido por sua alta refletividade, baixa condutividade térmica e resistência à pulverização, o que resulta em um campo de temperatura equilibrado e consumo de energia significativamente reduzido.
  • Integração Abrangente de Software: Uma interface de comunicação 485 integrada permite a operação remota via computador. O software incluído permite o monitoramento em tempo real de PV (Valor do Processo) e SV (Valor Definido), registro de dados e a geração de curvas térmicas para documentação meticulosa dos parâmetros experimentais.
  • Proteção de Segurança de Nível Múltiplo: A unidade inclui um sistema de proteção de tampa aberta que corta automaticamente a energia quando o forno é aberto, juntamente com proteção contra vazamentos e alarmes de sobretemperatura que desconectam o circuito principal se a temperatura exceder 1200°C ou se uma falha no termopar for detectada.
  • Interface de Fornecimento de Gás Personalizável: Os flanges de aço inoxidável são equipados com válvulas de agulha de precisão e manômetros. Os usuários podem integrar facilmente fluxômetros de flutuador ou controladores de fluxo de massa digitais para controle preciso da atmosfera durante testes de sinterização ou redução.
  • Sistema de Suporte de Flange Robusto: Um suporte flangeado dedicado sustenta o conjunto, eliminando efetivamente o estresse mecânico no tubo de corindo. Este detalhe de engenharia estende significativamente a vida útil do tubo, evitando fraturas causadas pelo peso pesado dos flanges.
  • Ciclo Térmico Rápido: Com uma taxa de aquecimento de até 20°C por minuto (10°C/min recomendado), o equipamento permite inicialização e resfriamento rápidos, aumentando a produtividade do laboratório e permitindo a exploração rápida das propriedades térmicas dos materiais.

Aplicações

Aplicação Descrição Principal Benefício
Deposição Química de Vapor (CVD) Usado para o crescimento de filmes finos e nanotubos de alta qualidade sob fluxo de gás controlado e vácuo. Ambiente de alta pureza e controle de temperatura de zona dupla garantem deposição uniforme do filme.
Recozimento a Vácuo Alívio de tensões em metais e ligas em vácuo para evitar oxidação e melhorar propriedades mecânicas. Vedação superior preserva a integridade do material e evita contaminação superficial.
Sinterização em Atmosfera Consolidação em alta temperatura de pós cerâmicos ou metálicos em gases inertes ou redutores. Campos de temperatura de equilíbrio levam a maior densidade e microestrutura mais uniforme.
Síntese de Materiais Descoberta de novos compostos através de ciclos térmicos precisos e gerenciamento de reação. Programação de 30 segmentos permite protocolos de reação complexos e de múltiplos estágios.
Processos de Desgaseificação Remoção de componentes voláteis ou gases aprisionados de materiais sob alto calor e vácuo. Capacidade de alto vácuo (10-3 Pa) garante a remoção completa de impurezas.
Teste de Redução Teste de materiais em ambiente de hidrogênio ou monóxido de carbono para observar mudanças químicas. Válvulas de segurança integradas e interfaces de fluxo de massa permitem gerenciamento de gás seguro e preciso.
P&D Aeroespacial Teste de revestimentos e componentes resistentes a altas temperaturas para hardware aeroespacial. Desempenho confiável em temperaturas de até 1700°C simula condições extremas de voo.

Especificações Técnicas

Parâmetro TU-GS03-60 TU-GS03-80
Tamanho da Câmara (DE x Comprimento) Diâm. 60mm x 1200mm Diâm. 80mm x 1200mm
Potência Nominal 7 KW 7 KW
Tensão de Entrada 220V, Monofásico 220V, Monofásico
Temperatura Máx. de Operação Zona 1: 1700°C / Zona 2: 1400°C Zona 1: 1700°C / Zona 2: 1400°C
Temp. Constante Nominal Zona 1: 1650°C / Zona 2: 1350°C Zona 1: 1650°C / Zona 2: 1350°C
Comprimento de Aquecimento (Z1/Z2) 210mm / 210mm 210mm / 210mm
Zona de Temp. Constante 80mm / 80mm 80mm / 80mm
Elementos de Aquecimento Z1: Haste MoSi2 1800 / Z2: Haste SiC Z1: Haste MoSi2 1800 / Z2: Haste SiC
Precisão de Temperatura ± 1 ℃ ± 1 ℃
Taxa de Aquecimento ≤20 ℃/Min (Recomendado 10 ℃) ≤20 ℃/Min (Recomendado 10 ℃)
Tipo de Termopar Zona 1: Tipo B / Zona 2: Tipo S Zona 1: Tipo B / Zona 2: Tipo S
Material da Câmara Fibra Policristalina de Alumina Fibra Policristalina de Alumina
Instrumento de Controle Yu Electric PID de 30 Segmentos Yu Electric PID de 30 Segmentos
Opções de Vácuo Padrão: TW-1.5A / Alto: 2XZ-2 Padrão: TW-1.5A / Alto: 2XZ-2
Nível de Vácuo Final 10-1 Pa a 10-3 Pa (Dependente do Sistema) 10-1 Pa a 10-3 Pa (Dependente do Sistema)
Tipo de Gatilho Gatilho com deslocamento de fase Gatilho com deslocamento de fase
Controle por Tiristor 106/16E SEMIKRON 106/16E SEMIKRON
Temperatura de Superfície ≤ 45°C ≤ 45°C
Conectividade Interface RS-485 (Padrão) Interface RS-485 (Padrão)

Por que Escolher Este Sistema de Zona Dupla

  • Versatilidade Térmica Inigualável: Ao combinar zonas de alta temperatura de 1700°C e 1400°C, este forno permite reações de estágio duplo e sinterização por gradiente que fornos de zona única não conseguem alcançar, proporcionando uma vantagem significativa na pesquisa avançada de materiais.
  • Confiabilidade de Nível Industrial: Desde os tiristores SEMIKRON até o isolamento policristalino de alta pureza, cada componente é selecionado por sua capacidade de suportar ciclos de trabalho contínuos em ambientes laboratoriais profissionais.
  • Integridade de Vácuo com Engenharia de Precisão: Nossa tecnologia proprietária de vedação de anel duplo e suportes de flange de aço inoxidável garantem um ambiente hermético a vácuo que protege suas amostras e garante a pureza de seus processos sensíveis à atmosfera.
  • Segurança e Monitoramento Avançados: Com software integrado para rastreamento em tempo real e múltiplos protocolos de desligamento automático, seu laboratório pode operar com a tranquilidade de que tanto os usuários quanto os experimentos estão protegidos.
  • Excelência de Desempenho Comprovada: Nossos sistemas contam com a confiança das principais universidades globais e instalações de pesquisa industrial por sua consistência, eficiência energética e durabilidade a longo prazo.

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