Forno Tubular Dividido de Zona Dupla de Alta Temperatura para Sinterização em Atmosfera Avançada e Aplicações de CVD a Vácuo

Forno de Tubo

Forno Tubular Dividido de Zona Dupla de Alta Temperatura para Sinterização em Atmosfera Avançada e Aplicações de CVD a Vácuo

Número do item: TU-GS15

Temperatura Máxima: 1400°C Zonas de Aquecimento: Zona Dupla (Controle Independente) Precisão de Temperatura: ±1°C
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Visão Geral do Produto

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Este sistema térmico de alto desempenho representa uma referência na tecnologia de tratamento térmico laboratorial, projetado especificamente para pesquisa avançada de materiais e I&D industrial. Ao utilizar uma configuração de aquecimento de zona dupla dentro de uma arquitetura de dobradiça dividida, o equipamento permite um perfil de temperatura preciso e um arrefecimento rápido, tornando-o um ativo indispensável para sinterização em atmosfera a alta temperatura, experiências de CVD e recozimento a vácuo. A principal proposta de valor reside na sua capacidade de manter um campo de temperatura excecionalmente uniforme, oferecendo a flexibilidade de controlo independente sobre zonas de aquecimento separadas.

Concebido para ambientes laboratoriais exigentes, o sistema é frequentemente utilizado em institutos de ciência dos materiais, instalações de pesquisa aeroespacial e laboratórios de desenvolvimento de semicondutores. Quer esteja a realizar deposição química de vapor complexa ou uma simples redução de atmosfera, este equipamento garante alta reprodutibilidade e precisão. A construção da carcaça de parede dupla facilita o arrefecimento a ar eficiente, garantindo que, enquanto a câmara interna atinge temperaturas extremas, a superfície exterior permanece segura ao toque, refletindo um compromisso tanto com o desempenho quanto com a segurança do operador.

Engenheiros e equipas de compras podem confiar nesta unidade pela sua construção robusta e componentes térmicos de alta qualidade. Desde o isolamento de fibra de alumina policristalina importado do Japão até aos elementos de aquecimento de carboneto de silício (SiC), cada detalhe é otimizado para longevidade e eficiência energética. Este sistema proporciona um ambiente estável e controlável para sintetizar novos materiais ou realizar testes rigorosos de stress térmico, garantindo que os resultados da sua pesquisa sejam consistentes mesmo sob as condições experimentais mais exigentes.

Principais Características

  • Controlo Independente de Zona Dupla: Este sistema possui duas zonas de aquecimento distintas, cada uma equipada com o seu próprio controlador dedicado e termopar, permitindo aos utilizadores criar gradientes térmicos específicos ou manter uma região de temperatura constante longa e uniforme.
  • Gestão de Temperatura PID de Precisão: Utilizando um controlador digital avançado de 40 segmentos, o equipamento oferece precisão de nível profissional com 6 parâmetros PID especificamente ajustados para gamas de baixa, média e alta temperatura para evitar ultrapassagens.
  • Isolamento Térmico Superior: A câmara é construída a partir de fibra de alumina policristalina de alta pureza, que proporciona uma excelente preservação de calor, alta refletividade e resistência à expansão e contração térmica, reduzindo significativamente o consumo de energia.
  • Elementos de Aquecimento SiC de Alto Desempenho: Os elementos de carboneto de silício são estrategicamente posicionados para garantir um campo de temperatura uniforme e uma longa vida útil operacional, mesmo quando sujeitos a ciclos frequentes de alta temperatura.
  • Sistemas de Proteção de Segurança Integrados: A unidade está equipada com um interruptor de limite de curso que corta automaticamente a energia quando a tampa é aberta, juntamente com proteção contra sobretemperatura e sobrecorrente para uma operação à prova de falhas.
  • Versatilidade de Vácuo e Atmosfera: Com flanges de vedação de anel duplo em aço inoxidável, o forno pode atingir níveis de vácuo até 10-4 Pa quando emparelhado com uma bomba molecular, e suporta várias configurações de fluxo de gás para processamento em atmosfera controlada.
  • Design de Câmara Dividida com Suporte Hidráulico: O corpo do forno dividido pode ser facilmente aberto usando um elevador hidráulico, permitindo o arrefecimento rápido do tubo ou acesso conveniente para colocação de amostras e manutenção.
  • Comunicação de Dados Avançada: Uma interface de comunicação 485 integrada permite que o equipamento seja ligado a um computador para monitorização em tempo real, registo de dados e geração de curvas de aquecimento através de software dedicado.
  • Eletrónica de Potência Confiável: Construído com componentes premium, incluindo retificadores controlados por silício e gatilhos de mudança de fase de engenharia alemã, o sistema garante uma entrega de corrente estável e protege os elementos de aquecimento contra picos elétricos.

Aplicações

Aplicação Descrição Principal Benefício
Deposição Química de Vapor (CVD) Crescimento de películas finas e nanomateriais através da reação de precursores gasosos dentro do tubo aquecido. O controlo preciso da zona garante uma espessura uniforme da película.
Pesquisa de Pirólise Decomposição térmica de materiais orgânicos como pneus usados ou biomassa numa atmosfera inerte. Zonas duplas evitam a carbonização localizada e otimizam o rendimento de óleo/gás.
Sinterização em Atmosfera Sinterização de pós cerâmicos ou metálicos sob gases redutores ou inertes para evitar a oxidação. A vedação confiável da flange mantém a alta pureza da atmosfera.
Recozimento a Vácuo Alívio de tensões de componentes metálicos ou wafers num ambiente de baixa pressão. A alta capacidade de vácuo evita a contaminação da superfície.
Teste de Catalisadores Avaliação da eficiência de materiais catalíticos sob gradientes de temperatura específicos. Zonas independentes permitem diferentes estágios de reação numa única passagem.
Co-queima de Cerâmica Queima simultânea de componentes cerâmicos multicamadas que requerem ciclos complexos de rampa/imersão. A programação de 40 segmentos permite perfis térmicos intrincados.
Dopagem de Semicondutores Difusão de dopantes em wafers semicondutores a altas temperaturas. Excelente uniformidade de temperatura dentro do tubo de processo.

Especificações Técnicas

Parâmetro TU-GS15-I TU-GS15-II TU-GS15-III
Diâmetro Externo do Tubo 60 mm 80 mm 100 mm
Comprimento do Tubo 1000 mm 1000 mm 1000 mm
Temp. Máx. de Operação 1400°C 1400°C 1400°C
Temp. de Trabalho Contínuo 1350°C 1350°C 1350°C
Zonas de Aquecimento 2 Zonas (260mm cada) 2 Zonas (260mm cada) 2 Zonas (260mm cada)
Comprimento Temp. Constante 100mm por zona 100mm por zona 100mm por zona
Taxa de Aquecimento ≤30°C / min ≤30°C / min ≤30°C / min
Precisão da Temperatura +/- 1°C +/- 1°C +/- 1°C
Tipo de Termopar Tipo S Tipo S Tipo S
Elemento de Aquecimento Carboneto de Silício (SiC) Carboneto de Silício (SiC) Carboneto de Silício (SiC)
Controlador de Temperatura Shimaden FP93 (40 Segmentos) Shimaden FP93 (40 Segmentos) Shimaden FP93 (40 Segmentos)
Material do Tubo Cerâmica de Alumina Cerâmica de Alumina Cerâmica de Alumina
Material da Câmara Fibra de Alumina Policristalina 98% Fibra de Alumina Policristalina 98% Fibra de Alumina Policristalina 98%
Gatilho Gatilho de mudança de fase Gatilho de mudança de fase Gatilho de mudança de fase
Dimensões Gerais 1420 x 490 x 855 mm 1420 x 490 x 855 mm 1420 x 490 x 855 mm
Nível de Vácuo 10-1 a 10-4 Pa (dependendo da bomba) 10-1 a 10-4 Pa (dependendo da bomba) 10-1 a 10-4 Pa (dependendo da bomba)

Por que Escolher Este Forno

  • Precisão Térmica Inigualável: A configuração de zona dupla combinada com controladores PID importados do Japão proporciona estabilidade e precisão de classe mundial para sínteses de materiais sensíveis.
  • Durabilidade de Nível Industrial: Construída com elementos SiC e fibra de alumina de alta densidade, esta unidade foi projetada para operação contínua em laboratórios industriais e académicos de alto rendimento.
  • Protocolo de Segurança Avançado: Desde interruptores de limite mecânicos até proteção eletrónica contra fugas, o equipamento foi projetado para proteger os utilizadores e as suas instalações contra riscos operacionais.
  • Controlo de Atmosfera Personalizável: A inclusão de flanges de alto vácuo e medidores de fluxo digitais opcionais permite um ambiente altamente personalizado, quer trabalhe com hidrogénio, árgon ou vácuo.
  • Suporte de Engenharia Especializado: Fornecemos documentação abrangente, software de controlo e assistência técnica para garantir que este investimento se integre perfeitamente no seu fluxo de trabalho.

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