Forno tubular de zona de temperatura dupla com cobertura dupla para CVD de alta temperatura e recozimento a vácuo

Forno de Tubo

Forno tubular de zona de temperatura dupla com cobertura dupla para CVD de alta temperatura e recozimento a vácuo

Número do item: TU-GS08

Temperatura Máxima: 1200°C Elemento de Aquecimento: Fio de Resistência Kanthal A1 Sueco Precisão do Controle de Temperatura: ±1°C
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Visão Geral do Produto

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Este forno tubular de zona de temperatura dupla de alto desempenho foi projetado para atender às rigorosas demandas da pesquisa em ciência dos materiais e da produção industrial. Ao combinar duas zonas de aquecimento independentes em uma única unidade otimizada, este sistema oferece aos pesquisadores a flexibilidade de criar gradientes térmicos complexos ou manter perfis de temperatura altamente estáveis em um comprimento de aquecimento estendido. O design de cobertura dupla melhora a acessibilidade enquanto otimiza o gerenciamento térmico, tornando o equipamento uma ferramenta essencial para tratamentos térmicos sofisticados onde a precisão e a consistência são fundamentais.

Projetado para versatilidade, o equipamento destaca-se em sinterização de alta temperatura, processos de atmosfera redutora e deposição química de vapor (CVD). É amplamente utilizado nas indústrias aeroespacial, de semicondutores e de cerâmicas avançadas para realizar recozimento a vácuo e testes em atmosfera controlada. A construção robusta e os recursos de segurança integrados garantem que a unidade opere de forma confiável sob condições de uso contínuo, proporcionando ao pessoal de laboratório a confiança para realizar experimentos de longa duração sem supervisão.

Construído com foco na durabilidade e no desempenho, este sistema incorpora elementos de aquecimento premium e materiais de isolamento avançados. A integração de fios de resistência de alta qualidade e fibra de alumina formada a vácuo garante taxas de aquecimento rápidas e eficiência energética excepcional. Seja para pesquisa básica em universidades ou desenvolvimento de materiais de alto risco em laboratórios industriais, este equipamento oferece a estabilidade térmica e o controle atmosférico necessários para os processos técnicos mais sensíveis.

Principais Recursos

  • Elementos de Aquecimento Premium Suecos Kanthal A1: A unidade utiliza fio de resistência Kanthal A1 importado, capaz de atingir temperaturas de superfície de até 1420°C. Esses elementos são escolhidos por sua resistência equilibrada e operação livre de escória, garantindo um ambiente térmico limpo e uma vida útil que supera significativamente os fios de liga padrão.
  • Controle Avançado de Zona Dupla: Com duas zonas de temperatura independentes, o sistema permite a criação de gradientes térmicos precisos. Isso é crítico para processos como transporte físico de vapor ou aplicações complexas de CVD, onde a vaporização do precursor e a deposição do substrato exigem temperaturas distintas e simultâneas.
  • Câmara de Fibra de Alumina de Alta Pureza: A câmara do forno é construída usando fibra de alumina policristalina de alta qualidade, formada através de sucção a vácuo e moldagem por filtro com base em tecnologia japonesa avançada. Isso resulta em baixa massa térmica, alta eficiência de isolamento e resistência superior ao choque térmico.
  • Regulação de Temperatura PID Sofisticada: Equipado com um controlador PID inteligente de 30 segmentos, o sistema mantém uma precisão de controle de ±1°C. Possui proteção contra sobretemperatura, alertas de falha de termopar e uma função de recuperação após queda de energia que retoma o programa a partir do ponto de interrupção.
  • Resfriamento por Ar Forçado de Carcaça Dupla: Para garantir a segurança do operador e a longevidade estrutural, o forno apresenta uma construção de carcaça dupla. Um ventilador de resfriamento integrado circula o ar entre as camadas interna e externa, mantendo a temperatura da superfície externa abaixo de 45°C, mesmo durante a operação em temperatura máxima.
  • Intertravamentos de Segurança Abrangentes: A unidade inclui um sistema de proteção de abertura automática da tampa. Se a tampa do forno for aberta durante a operação, um relé desconecta imediatamente a fonte de alimentação principal para proteger o usuário contra riscos elétricos e exposição a altas temperaturas.
  • Comunicação e Monitoramento Digital: Interfaces RS485 padrão permitem que o equipamento se conecte diretamente a um computador. Os usuários podem controlar parâmetros, visualizar curvas de PV (Valor do Processo) e SV (Valor Definido) em tempo real e registrar dados de temperatura para análise histórica e relatórios de garantia de qualidade.
  • Versatilidade de Vácuo e Atmosfera: O equipamento foi projetado para interagir com vários sistemas de fornecimento de gás e vácuo. Desde a simples purga com gás inerte até ambientes de alto vácuo atingindo 10-3 Pa, o sistema acomoda diversos requisitos atmosféricos para o processamento de materiais sensíveis.

Aplicações

Aplicação Descrição Principal Benefício
CVD / PECVD Crescimento de filmes finos e nanoestruturas através de deposição química de vapor em temperaturas controladas. Controle preciso de gradiente para espessura e qualidade consistentes do filme.
Recozimento a Vácuo Alívio de tensões internas em ligas metálicas e wafers de semicondutores sob alto vácuo. Previne a oxidação e garante propriedades de material de alta pureza.
Sinterização em Atmosfera Sinterização de cerâmicas avançadas e peças de metalurgia do pó em atmosferas redutoras ou inertes. A uniformidade térmica superior leva a uma densidade de produto consistente.
P&D de Materiais de Bateria Processamento térmico de materiais de ânodo e cátodo para armazenamento de energia de próxima geração. Ciclos confiáveis e registro de dados para resultados experimentais repetíveis.
Calcinação Aquecimento de minérios ou compostos químicos para efetuar a decomposição térmica. Operação energeticamente eficiente com ciclos rápidos de aquecimento e resfriamento.
Testes de Atmosfera Redutora Processamento de materiais em ambientes de hidrogênio ou monóxido de carbono para estudar estados de oxidação. Vedações de tubo estanques e controle de fluxo integrado garantem uma operação segura.

Especificações Técnicas

Parâmetro TU-GS08-I TU-GS08-II TU-GS08-III TU-GS08-IV
Diâmetro Externo do Tubo (mm) Dia 60 Dia 80 Dia 100 Dia 120
Comprimento do Tubo (mm) 1460 1460 1460 1460
Consumo de Energia 2.5 KW 2.5 KW 4.0 KW 4.0 KW
Dimensões Externas (mm) 1500x490x600 1500x490x600 1500x490x600 1500x490x600
Tensão de Alimentação 220V 220V 220V 220V
Elemento de Aquecimento Kanthal A1 Sueco Kanthal A1 Sueco Kanthal A1 Sueco Kanthal A1 Sueco
Temperatura Máx. 1200°C 1200°C 1200°C 1200°C
Temperatura Nominal 1100°C 1100°C 1100°C 1100°C
Comprimento da Zona de Aquecimento 205mm + 205mm 205mm + 205mm 205mm + 205mm 205mm + 205mm
Comprimento de Temp. Constante 80mm + 80mm 80mm + 80mm 80mm + 80mm 80mm + 80mm
Taxa de Aquecimento ≤100°C / min ≤100°C / min ≤100°C / min ≤100°C / min
Precisão de Controle ±1°C ±1°C ±1°C ±1°C
Tipo de Termopar Tipo K Tipo K Tipo K Tipo K
Capacidade de Vácuo Opcional (10Pa a 10-3 Pa) Opcional (10Pa a 10-3 Pa) Opcional (10Pa a 10-3 Pa) Opcional (10Pa a 10-3 Pa)
Componentes Elétricos Chint / Semikron Chint / Semikron Chint / Semikron Chint / Semikron

Por que escolher este forno

  • Engenharia Térmica Inigualável: Ao utilizar fio Kanthal A1 sueco e geometria de câmara inspirada no design japonês, este sistema oferece uma estabilidade térmica significativamente superior aos fornos de laboratório padrão. A resistência equilibrada garante um campo de temperatura uniforme, o que é crítico para pesquisas de alta fidelidade.
  • Confiabilidade de Longo Prazo Comprovada: A escolha de componentes de alta qualidade, como tiristores Semikron e fibra de alumina de sucção a vácuo, garante que a unidade possa suportar as tensões da operação em alta temperatura ao longo de muitos anos de serviço.
  • Opções de Expansão Versáteis: Este equipamento pode ser personalizado com vários sistemas de vácuo (desde bombas de estágio único até unidades moleculares de alto vácuo) e sistemas de fornecimento de gás (medidores de fluxo de massa, borbulhadores ou evaporadores) para atender a requisitos de processo específicos.
  • Segurança Aprimorada do Operador: Com protetores de vazamento integrados, cortes de energia por abertura de tampa e resfriamento de carcaça dupla, este sistema atende aos mais altos padrões de segurança exigidos para laboratórios industriais e acadêmicos modernos.
  • Controle Baseado em Dados: A capacidade de monitorar e controlar o forno via computador, combinada com o desenho detalhado de curvas e armazenamento de dados, fornece a documentação necessária para ambientes de P&D estritamente controlados e auditorias de qualidade.

Este sistema representa um investimento premium em tecnologia de processamento térmico, combinando precisão, segurança e durabilidade para apoiar seus objetivos de pesquisa e produção mais críticos. Entre em contato conosco hoje para uma consulta técnica ou uma cotação personalizada para os requisitos específicos do seu laboratório.

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