Forno de Tubo
Forno tubular de zona de temperatura dupla com cobertura dupla para CVD de alta temperatura e recozimento a vácuo
Número do item: TU-GS08
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Visão Geral do Produto

Este forno tubular de zona de temperatura dupla de alto desempenho foi projetado para atender às rigorosas demandas da pesquisa em ciência dos materiais e da produção industrial. Ao combinar duas zonas de aquecimento independentes em uma única unidade otimizada, este sistema oferece aos pesquisadores a flexibilidade de criar gradientes térmicos complexos ou manter perfis de temperatura altamente estáveis em um comprimento de aquecimento estendido. O design de cobertura dupla melhora a acessibilidade enquanto otimiza o gerenciamento térmico, tornando o equipamento uma ferramenta essencial para tratamentos térmicos sofisticados onde a precisão e a consistência são fundamentais.
Projetado para versatilidade, o equipamento destaca-se em sinterização de alta temperatura, processos de atmosfera redutora e deposição química de vapor (CVD). É amplamente utilizado nas indústrias aeroespacial, de semicondutores e de cerâmicas avançadas para realizar recozimento a vácuo e testes em atmosfera controlada. A construção robusta e os recursos de segurança integrados garantem que a unidade opere de forma confiável sob condições de uso contínuo, proporcionando ao pessoal de laboratório a confiança para realizar experimentos de longa duração sem supervisão.
Construído com foco na durabilidade e no desempenho, este sistema incorpora elementos de aquecimento premium e materiais de isolamento avançados. A integração de fios de resistência de alta qualidade e fibra de alumina formada a vácuo garante taxas de aquecimento rápidas e eficiência energética excepcional. Seja para pesquisa básica em universidades ou desenvolvimento de materiais de alto risco em laboratórios industriais, este equipamento oferece a estabilidade térmica e o controle atmosférico necessários para os processos técnicos mais sensíveis.
Principais Recursos
- Elementos de Aquecimento Premium Suecos Kanthal A1: A unidade utiliza fio de resistência Kanthal A1 importado, capaz de atingir temperaturas de superfície de até 1420°C. Esses elementos são escolhidos por sua resistência equilibrada e operação livre de escória, garantindo um ambiente térmico limpo e uma vida útil que supera significativamente os fios de liga padrão.
- Controle Avançado de Zona Dupla: Com duas zonas de temperatura independentes, o sistema permite a criação de gradientes térmicos precisos. Isso é crítico para processos como transporte físico de vapor ou aplicações complexas de CVD, onde a vaporização do precursor e a deposição do substrato exigem temperaturas distintas e simultâneas.
- Câmara de Fibra de Alumina de Alta Pureza: A câmara do forno é construída usando fibra de alumina policristalina de alta qualidade, formada através de sucção a vácuo e moldagem por filtro com base em tecnologia japonesa avançada. Isso resulta em baixa massa térmica, alta eficiência de isolamento e resistência superior ao choque térmico.
- Regulação de Temperatura PID Sofisticada: Equipado com um controlador PID inteligente de 30 segmentos, o sistema mantém uma precisão de controle de ±1°C. Possui proteção contra sobretemperatura, alertas de falha de termopar e uma função de recuperação após queda de energia que retoma o programa a partir do ponto de interrupção.
- Resfriamento por Ar Forçado de Carcaça Dupla: Para garantir a segurança do operador e a longevidade estrutural, o forno apresenta uma construção de carcaça dupla. Um ventilador de resfriamento integrado circula o ar entre as camadas interna e externa, mantendo a temperatura da superfície externa abaixo de 45°C, mesmo durante a operação em temperatura máxima.
- Intertravamentos de Segurança Abrangentes: A unidade inclui um sistema de proteção de abertura automática da tampa. Se a tampa do forno for aberta durante a operação, um relé desconecta imediatamente a fonte de alimentação principal para proteger o usuário contra riscos elétricos e exposição a altas temperaturas.
- Comunicação e Monitoramento Digital: Interfaces RS485 padrão permitem que o equipamento se conecte diretamente a um computador. Os usuários podem controlar parâmetros, visualizar curvas de PV (Valor do Processo) e SV (Valor Definido) em tempo real e registrar dados de temperatura para análise histórica e relatórios de garantia de qualidade.
- Versatilidade de Vácuo e Atmosfera: O equipamento foi projetado para interagir com vários sistemas de fornecimento de gás e vácuo. Desde a simples purga com gás inerte até ambientes de alto vácuo atingindo 10-3 Pa, o sistema acomoda diversos requisitos atmosféricos para o processamento de materiais sensíveis.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | Crescimento de filmes finos e nanoestruturas através de deposição química de vapor em temperaturas controladas. | Controle preciso de gradiente para espessura e qualidade consistentes do filme. |
| Recozimento a Vácuo | Alívio de tensões internas em ligas metálicas e wafers de semicondutores sob alto vácuo. | Previne a oxidação e garante propriedades de material de alta pureza. |
| Sinterização em Atmosfera | Sinterização de cerâmicas avançadas e peças de metalurgia do pó em atmosferas redutoras ou inertes. | A uniformidade térmica superior leva a uma densidade de produto consistente. |
| P&D de Materiais de Bateria | Processamento térmico de materiais de ânodo e cátodo para armazenamento de energia de próxima geração. | Ciclos confiáveis e registro de dados para resultados experimentais repetíveis. |
| Calcinação | Aquecimento de minérios ou compostos químicos para efetuar a decomposição térmica. | Operação energeticamente eficiente com ciclos rápidos de aquecimento e resfriamento. |
| Testes de Atmosfera Redutora | Processamento de materiais em ambientes de hidrogênio ou monóxido de carbono para estudar estados de oxidação. | Vedações de tubo estanques e controle de fluxo integrado garantem uma operação segura. |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | TU-GS08-I | TU-GS08-II | TU-GS08-III | TU-GS08-IV |
|---|---|---|---|---|
| Diâmetro Externo do Tubo (mm) | Dia 60 | Dia 80 | Dia 100 | Dia 120 |
| Comprimento do Tubo (mm) | 1460 | 1460 | 1460 | 1460 |
| Consumo de Energia | 2.5 KW | 2.5 KW | 4.0 KW | 4.0 KW |
| Dimensões Externas (mm) | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 |
| Tensão de Alimentação | 220V | 220V | 220V | 220V |
| Elemento de Aquecimento | Kanthal A1 Sueco | Kanthal A1 Sueco | Kanthal A1 Sueco | Kanthal A1 Sueco |
| Temperatura Máx. | 1200°C | 1200°C | 1200°C | 1200°C |
| Temperatura Nominal | 1100°C | 1100°C | 1100°C | 1100°C |
| Comprimento da Zona de Aquecimento | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm |
| Comprimento de Temp. Constante | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm |
| Taxa de Aquecimento | ≤100°C / min | ≤100°C / min | ≤100°C / min | ≤100°C / min |
| Precisão de Controle | ±1°C | ±1°C | ±1°C | ±1°C |
| Tipo de Termopar | Tipo K | Tipo K | Tipo K | Tipo K |
| Capacidade de Vácuo | Opcional (10Pa a 10-3 Pa) | Opcional (10Pa a 10-3 Pa) | Opcional (10Pa a 10-3 Pa) | Opcional (10Pa a 10-3 Pa) |
| Componentes Elétricos | Chint / Semikron | Chint / Semikron | Chint / Semikron | Chint / Semikron |
Por que escolher este forno
- Engenharia Térmica Inigualável: Ao utilizar fio Kanthal A1 sueco e geometria de câmara inspirada no design japonês, este sistema oferece uma estabilidade térmica significativamente superior aos fornos de laboratório padrão. A resistência equilibrada garante um campo de temperatura uniforme, o que é crítico para pesquisas de alta fidelidade.
- Confiabilidade de Longo Prazo Comprovada: A escolha de componentes de alta qualidade, como tiristores Semikron e fibra de alumina de sucção a vácuo, garante que a unidade possa suportar as tensões da operação em alta temperatura ao longo de muitos anos de serviço.
- Opções de Expansão Versáteis: Este equipamento pode ser personalizado com vários sistemas de vácuo (desde bombas de estágio único até unidades moleculares de alto vácuo) e sistemas de fornecimento de gás (medidores de fluxo de massa, borbulhadores ou evaporadores) para atender a requisitos de processo específicos.
- Segurança Aprimorada do Operador: Com protetores de vazamento integrados, cortes de energia por abertura de tampa e resfriamento de carcaça dupla, este sistema atende aos mais altos padrões de segurança exigidos para laboratórios industriais e acadêmicos modernos.
- Controle Baseado em Dados: A capacidade de monitorar e controlar o forno via computador, combinada com o desenho detalhado de curvas e armazenamento de dados, fornece a documentação necessária para ambientes de P&D estritamente controlados e auditorias de qualidade.
Este sistema representa um investimento premium em tecnologia de processamento térmico, combinando precisão, segurança e durabilidade para apoiar seus objetivos de pesquisa e produção mais críticos. Entre em contato conosco hoje para uma consulta técnica ou uma cotação personalizada para os requisitos específicos do seu laboratório.
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