Forno Rotativo
Forno Tubular Rotativo de Duas Zonas para Revestimento CVD de Pós e Síntese de Materiais Core-Shell 1100°C
Número do item: TU-X09
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Visão Geral do Produto



Este forno tubular rotativo de duas zonas de alto desempenho é um sistema de processamento térmico especializado, projetado para a síntese e tratamento precisos de materiais em pó. Projetado para operar em temperaturas de até 1100°C, o equipamento integra um tubo reator rotativo com uma configuração de zona de aquecimento dupla, permitindo que pesquisadores e engenheiros industriais realizem processos complexos de Deposição Química de Vapor (CVD) e calcinação. O sistema é particularmente otimizado para o desenvolvimento de materiais para baterias de alta energia, onde o revestimento uniforme de pós e a criação de estruturas core-shell são críticos para o desempenho eletroquímico.
Em P&D industrial e produção em escala piloto, o valor principal desta unidade reside na sua capacidade de manter o equilíbrio térmico dinâmico. Ao utilizar um tubo de quartzo rotativo de 5 polegadas equipado com pás de mistura integradas, o equipamento garante que cada partícula dentro do lote de processamento seja exposta às mesmas condições térmicas e atmosféricas. Isso elimina os problemas comuns de zonas mortas e aquecimento irregular associados a designs de fornos estáticos, tornando-o uma ferramenta essencial para a síntese de grafite com nano-camadas de silício, calcinação de materiais inorgânicos e preparação avançada de catalisadores.
Construído com foco na durabilidade e repetibilidade do processo, este sistema de forno apresenta um design mecânico robusto aliado a um controle de atmosfera avançado. A integração de vedações de fluido magnético de alta precisão permite uma operação confiável sob atmosferas controladas e condições de vácuo, proporcionando a estabilidade necessária para aplicações sensíveis em ciência dos materiais. Equipes de compras e gerentes de laboratório podem confiar neste equipamento para obter resultados consistentes e de alto rendimento em ambientes de pesquisa de materiais exigentes, desde a otimização de baterias de íon-lítio até a produção de pós cerâmicos de alta pureza.
Principais Características
- Aquecimento de Precisão de Zona Dupla: O sistema possui duas zonas de aquecimento controladas independentemente com um comprimento de aquecimento combinado de 280 mm, permitindo um gradiente de temperatura preciso ou zonas isotérmicas estendidas de até 1100°C.
- Processamento Rotativo Dinâmico: Equipado com um acionamento rotativo de velocidade variável (0-10 rpm), a unidade garante o tombamento contínuo dos materiais em pó, maximizando a exposição da área superficial à atmosfera de reação e à fonte de calor.
- Pás de Mistura Integradas: O tubo de quartzo fundido de 5 polegadas inclui quatro pás de mistura internas que facilitam o levantamento e a dobra mecânica dos pós, garantindo homogeneidade total durante o processo de CVD ou calcinação.
- Vedação Avançada de Fluido Magnético: Para manter atmosferas de alta pureza e integridade de vácuo, o sistema utiliza um par de vedações de fluido magnético rotativas em linha, garantindo taxas de vazamento inferiores a 5 mtorr por minuto.
- Torre de Controle PID Autônoma: Uma unidade de controle dedicada abriga dois controladores PID programáveis de 30 segmentos, proporcionando precisão de temperatura de ±1°C e a capacidade de gerenciar perfis térmicos complexos remotamente a partir do corpo do forno.
- Gerenciamento Versátil de Atmosfera: O sistema foi projetado para processamento com atmosfera controlada, apresentando conexões de tubo de 1/4" para entrada e saída de gás, tornando-o compatível com vários gases precursores e ambientes inertes.
- Alto Volume de Produção: Com um volume de tombamento de 3000 ml e um volume efetivo de processamento de pó de até 750 ml, este equipamento preenche a lacuna entre a experimentação em escala laboratorial e a produção em escala piloto.
- Durabilidade de Material Aprimorada: Embora a unidade padrão utilize um tubo de quartzo de alta pureza, um tubo metálico SS310 opcional está disponível para aplicações especializadas de alta pressão ou quimicamente agressivas de até 900°C.
- Integração de Software Inteligente Opcional: O sistema pode ser equipado com software de controle de temperatura baseado em Labview, permitindo registro de dados, monitoramento remoto e gerenciamento automatizado de receitas para tratamentos térmicos padronizados.
- Segurança Industrial Certificada: Este equipamento possui certificação CE, com certificação NRTL (UL61010) ou CSA opcional disponível para atender aos rigorosos requisitos de segurança de instituições de pesquisa globais e instalações industriais.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Síntese de Ânodo de Bateria | Síntese escalável de grafite com nano-camadas de silício para baterias de íon-lítio de alta energia. | Melhor densidade energética e estabilidade de ciclo através da deposição uniforme da camada de Si. |
| Revestimento de Partículas Core-Shell | Evaporação simultânea de precursores e crescimento do substrato em ambiente rotativo para criar estruturas core-shell. | Garante o encapsulamento completo e uniforme do material do núcleo com espessura de casca precisa. |
| Desenvolvimento de Filme de Perovskita | Controle independente da evaporação do precursor e das zonas de substrato para deposição de vapor precisa. | Ajuste fino do tamanho do grão e uniformidade do filme para maior eficiência da célula solar. |
| Grafitização de Catalisador | Tratamento térmico de carbono dopado com nitrogênio e clusters de metal-nitrogênio a 1100°C. | Aumenta a condutividade elétrica e a tolerância ao metanol através de ordenação estrutural otimizada. |
| Calcinação de Material Inorgânico | Calcinação em alta temperatura de pós cerâmicos e pigmentos inorgânicos sob atmosferas controladas. | Previne a aglomeração de partículas e garante propriedades químicas consistentes entre lotes. |
| Processamento de Pó CVD | Deposição Química de Vapor de filmes finos sobre substratos de pó de tamanho micro e nano. | O movimento dinâmico evita efeitos de "sombra", garantindo o revestimento de 360 graus de cada partícula. |
| Síntese de Nano-pós | Reação em fase gasosa e síntese de nanopós especializados em um ambiente de tubo rotativo. | A alta eficiência de transferência térmica leva a distribuições de tamanho de partícula mais estreitas. |
Especificações Técnicas
| Grupo de Parâmetros | Detalhe da Especificação | Valor / Descrição |
|---|---|---|
| Identificação do Modelo | Número do Item do Produto | TU-X09 |
| Fonte de Alimentação | Tensão de Entrada | 208-240 VAC, Monofásico, 50/60 Hz |
| Consumo de Energia | 3 kW (recomendada linha de energia de 20 A) | |
| Desempenho de Aquecimento | Temperatura Máxima | 1100°C |
| Zonas de Aquecimento | Zonas duplas (controladas independentemente) | |
| Comprimento de Aquecimento | 280 mm total | |
| Precisão de Temperatura | ±1°C | |
| Tubo de Reação | Material | Quartzo Fundido (SS310 opcional disponível) |
| Dimensões | 5" Diâmetro x 1100 mm Comprimento | |
| Recursos Internos | 4 pás de mistura integradas | |
| Acionamento Rotativo | Faixa de Velocidade | 0 - 10 rpm (Ajustável) |
| Capacidade | 3000 ml Volume de tombamento; <750 ml Volume efetivo de pó | |
| Sistema de Controle | Tipo de Controlador | Torre autônoma com unidades PID duplas programáveis |
| Programação | 30 segmentos por controlador | |
| Sensores | Dois termopares Omega tipo K (3mm OD) | |
| Atmosfera e Vácuo | Conexões de Vácuo | Conexões de tubo de 1/4" com vedações de fluido magnético |
| Nível de Vácuo (Mecânico) | <1e-2 torr (usando bomba de palhetas rotativas de 156 L/m ou 240 L/m) | |
| Nível de Vácuo (Molecular) | <1e-4 torr (usando bomba turbo de 33 L/s) | |
| Limite de Pressão | < 3 psig | |
| Taxa de Vazamento | < 5 mtorr / min | |
| Dimensões Físicas | Corpo do Forno | 1440 mm (C) x 430 mm (L) x 480 mm (A) |
| Unidade de Controle | 250 mm (C) x 350 mm (L) x 415 mm (A) | |
| Peso de Envio | 200 lbs | |
| Conformidade | Padrões | Certificado CE (NRTL/UL/CSA disponível mediante solicitação) |
Por que escolher o TU-X09
- Uniformidade Térmica Superior: A combinação de precisão de zona dupla e pás de mistura mecânicas elimina gradientes térmicos dentro do leito de pó, garantindo que a produção em lote atenda aos mais altos padrões de consistência exigidos para pesquisas em baterias e semicondutores.
- Integridade Atmosférica Robusta: Utilizando vedações de fluido magnético avançadas, este sistema mantém um ambiente puro mesmo durante a rotação, permitindo processos CVD sensíveis que exigem alto vácuo ou composições de gás especializadas sem o risco de contaminação.
- Design Flexível e Escalável: Com um generoso diâmetro de tubo de 5 polegadas e alto volume de tombamento, o equipamento foi projetado para crescer com suas necessidades de pesquisa, movendo-se perfeitamente da descoberta de materiais para a calcinação e revestimento em escala piloto.
- Confiabilidade de Grau Industrial: Construído com componentes premium, incluindo termopares Omega e torres de controle PID autônomas, o sistema foi projetado para estabilidade operacional de longo prazo em ambientes laboratoriais exigentes de 24/7.
- Controle de Processo Abrangente: Desde perfis de aquecimento programáveis de 30 segmentos até a integração opcional com Labview, o equipamento fornece aos pesquisadores o controle granular necessário para aperfeiçoar receitas complexas de materiais.
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