Forno de Tubo
Forno de Tubo de Dupla Zona 1100°C com Tubo de Quartzo de 11 Polegadas e Flanges de Vácuo para Processamento de Wafer de 8 Polegadas
Número do item: TU-32
Envio: Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.
Visão Geral do Produto
Este forno de tubo de dupla zona de alto desempenho é um sistema de processamento térmico sofisticado projetado para pesquisa de materiais avançados e P&D industrial. Com um tubo de quartzo fundido excepcionalmente grande com 11 polegadas de diâmetro externo, o equipamento oferece um ambiente de aquecimento espaçoso adequado para amostras em larga escala e wafers semicondutores de até 8 polegadas de diâmetro. A configuração de dupla zona permite a criação de gradientes térmicos precisos ou uma zona de temperatura constante mais ampla, oferecendo aos pesquisadores flexibilidade incomparável no gerenciamento de perfis complexos de tratamento térmico. Ao integrar isolamento de fibra de alumina de alta pureza, este sistema garante máxima eficiência energética e tempos de resposta térmica rápidos.
O equipamento é projetado especificamente para aplicações de alta pureza, incluindo a sinterização de amostras de novos materiais e o recozimento de wafers semicondutores sob vácuo ou atmosferas de gás controladas. Os setores-alvo vão desde fabricação de semicondutores e metalurgia até nanotecnologia e pesquisa em energia renovável. A câmara de processamento de grande diâmetro permite maior rendimento e a acomodação de cadinhos e recipientes especializados, tornando-a uma escolha ideal para laboratórios que estão em transição de experimentos em pequena escala para desenvolvimento em escala piloto. Suas recursos robustos de vácuo e manipulação de gás facilitam o controle preciso do ambiente químico durante as etapas críticas de processamento.
Confiabilidade e consistência são as marcas registradas do projeto desta unidade. Construído para suportar condições industriais exigentes, o sistema utiliza controladores digitais de alta precisão e elementos de aquecimento de fio de resistência NiCrAl duráveis para manter o desempenho estável por longos períodos. A inclusão de flanges de aço inoxidável resfriados a água protege a integridade das vedações de vácuo, garantindo um ambiente livre de vazamentos mesmo durante ciclos de alta temperatura. Este compromisso com a excelência em engenharia garante que todos os processos, desde calcinação básica até deposição química de vapor avançada, sejam executados com resultados repetíveis e de alta precisão em que pesquisadores profissionais podem confiar.
Principais Características
- Controle de Temperatura de Dupla Zona de Precisão: O sistema conta com duas zonas de aquecimento controladas independentemente, cada uma com 300 mm de comprimento, gerenciadas por controladores digitais PID de alta precisão. Isso permite o estabelecimento de gradientes térmicos estáveis ou uma zona de temperatura constante combinada de 300 mm com precisão de ±1°C, essencial para processos como crescimento de nanofitas TMD.
- Câmara de Quartzo Extragrande de 11 Polegadas: Equipado com um tubo de quartzo fundido maciço de 279 mm de diâmetro externo, este forno acomoda amostras de grande formato, incluindo wafers semicondutores padrão de 8 polegadas. O material de quartzo de alta pureza oferece excelente resistência ao choque térmico e inércia química, garantindo um ambiente livre de contaminantes.
- Flanges de Vácuo articuladas Avançadas: As flanges de vácuo de aço inoxidável têm um projeto articulado para facilitar o carregamento e descarregamento de amostras. Canais integrados de resfriamento a água na estrutura de flange de camada dupla protegem efetivamente as vedações de anel O, mantendo a integridade do vácuo durante operação sustentada em temperaturas de até 1100°C.
- Isolamento Térmico de Alta Eficiência: Utilizando isolamento de fibra de alumina de alta pureza, o equipamento minimiza a perda de calor e reduz o consumo de energia. Este isolamento leve e de alto desempenho também permite taxas mais rápidas de aquecimento e resfriamento, otimizando o tempo de ciclo geral para o rendimento laboratorial.
- Elementos de Aquecimento Robustos e Segurança: Elementos de aquecimento de fio de resistência NiCrAl de longa vida útil fornecem distribuição de calor consistente. Para a segurança do operador e do equipamento, um monitor de temperatura secundário está incluído para proteger contra condições de superaquecimento e termopares quebrados, proporcionando tranquilidade durante operação não monitorada.
- Portos Integrados de Gás e Vácuo: O sistema inclui um manômetro de vácuo mecânico, duas válvulas de agulha de aço inoxidável e um porta de vácuo KF25. Este conjunto completo de acessórios permite o gerenciamento preciso da atmosfera, suportando níveis de vácuo de 10-2 torr com bombas mecânicas até 10-4 torr com sistemas turbomoleculares.
- Perfis Programáveis de Tratamento Térmico: Ambos os controladores de temperatura suportam 30 segmentos programáveis, permitindo que os usuários automatizem sequências complexas de rampa, imersão e resfriamento. Isso garante alta reprodutibilidade entre vários lotes, o que é fundamental para pesquisa padronizada e controle de qualidade industrial.
- Interface de Computador e Registro de Dados: O equipamento é compatível com software de controle especializado baseado em Labview, permitindo que pesquisadores editem perfis de temperatura, gerenciem receitas e gravem dados em tempo real em um PC para análise e documentação completas pós-processamento.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Benefício Principal |
|---|---|---|
| Recozimento de Wafer Semicondutor | Processamento térmico de wafers de grande formato (até 8") para reparar defeitos cristalinos ou ativar dopantes. | Uniformidade superior em toda a área da superfície do wafer. |
| Crescimento de Nanofitas TMD | Utilização de dupla zona para controlar independentemente a pressão de vapor do calcogênio e a temperatura de reação do substrato. | Controle preciso sobre a largura da nanofita e a cinética de crescimento via supersaturação. |
| Pirólise Catalítica | Decomposição em alta temperatura de materiais orgânicos, como pneus usados, sob atmosferas controladas. | Prevenção de superaquecimento localizado e carbonização excessiva através de gradientes estáveis. |
| Sinterização de Materiais | Consolidação de materiais em pó em sólidos densos para pesquisa em cerâmica estrutural ou eletrônica. | Densidade consistente e estrutura de grão obtidas com precisão de ±1°C. |
| Deposição Química de Vapor (CVD) | Deposição precisa de filmes finos usando misturas de gás especializadas e tubos de processamento de grande diâmetro. | Acomoda substratos grandes e fluxo de gás de alto volume para pesquisa escalável. |
| Tratamento Térmico a Vácuo | Alívio de tensão ou endurecimento de componentes metálicos em um ambiente isento de oxigênio. | Elimina a oxidação e a contaminação superficial durante ciclos de alta temperatura. |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | Especificações para TU-32 |
|---|---|
| Número do Modelo | TU-32 |
| Material do Tubo | Quartzo Fundido de Alta Pureza |
| Dimensões do Tubo | 279 mm D.E x 269 mm D.I x 1000 mm Comprimento (11" x 10.6" x 40") |
| Temperatura Máxima | 1100°C (< 60 min, sob gás inerte) |
| Temperatura Contínua | 400°C - 1000°C (sob vácuo ou gás em fluxo) |
| Temperatura Opcional | 1150°C (com tubo de quartzo GE 214 atualizado) |
| Zonas de Aquecimento | Dupla zona: 300 mm (12") cada; 600 mm (24") total |
| Zona de Temperatura Constante | 300 mm no centro (±1°C) quando as zonas são definidas de forma idêntica |
| Taxa de Aquecimento | Máx. 20°C / min |
| Precisão da Temperatura | ±1°C |
| Controlador de Temperatura | Dois controladores digitais PID com 30 segmentos programáveis |
| Termopar | Tipo K duplo (Sonda aterrada de 12" x 1/4" de diâmetro) |
| Elemento de Aquecimento | Fio de Resistência NiCrAl |
| Tensão de Entrada | 208 - 240V CA, Monofásico |
| Potência Nominal | 8 kW |
| Flanges de Vácuo | Aço inoxidável de camada dupla, resfriado a água, tipo articulado |
| Portos de Vácuo | Porta KF25, conexões de mangueira de 1/4", duas válvulas de agulha |
| Limite de Vácuo | 10-2 torr (bomba mecânica) / 10-4 torr (bomba turbo) |
| Requisito de Resfriamento | Fluxo de água ≥ 10L/min, Temp < 25ºC, Pressão > 25 PSI |
| Conformidade | Certificado CE (NRTL/CSA disponível mediante solicitação) |
Por Que Escolher Nós
- Confiabilidade de Nível Industrial: Projetado com fios de resistência de alta durabilidade e isolamento fibroso avançado, este sistema foi desenvolvido para consistência operacional de longo prazo em ambientes de pesquisa exigentes.
- Capacidade em Larga Escala: O tubo de 11 polegadas de diâmetro é uma oferta rara em fornos de escala laboratorial, fornecendo o volume necessário para processamento de wafer de 8 polegadas e grandes lotes de materiais sem exigir equipamentos de tamanho industrial.
- Gestão Térmica de Precisão: O controle independente de dupla zona fornece a flexibilidade térmica necessária para deposição química de vapor complexa e crescimento de nanoestruturas, garantindo o mais alto nível de controle experimental.
- Segurança e Proteção Robustas: O monitoramento secundário de temperatura integrado e os sistemas de flange resfriados a água protegem os ativos do seu laboratório e garantem a longevidade das vedações de alto vácuo.
- Integração Abrangente: Desde a compatibilidade com o software Labview até opções personalizáveis de mistura de gás e estação de vácuo, este forno serve como uma plataforma completa e expansível para suas necessidades de processamento térmico.
Para obter mais informações sobre o forno de dupla zona TU-32 ou receber um orçamento personalizado adaptado aos seus requisitos específicos de manuseio de vácuo e gás, entre em contato com nossa equipe de vendas técnicas hoje mesmo.
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Forno tubular de gás hidrogênio de zona dupla de 1100°C com tubo de quartzo e sistema integrado de detecção de vazamento de H2
Este forno tubular de hidrogênio de zona dupla de alto desempenho possui um detector de gás Honeywell integrado para processamento térmico seguro de até 1100°C. Projetado para P&D em ciência dos materiais, oferece controle preciso da atmosfera com tubos de quartzo de 60 mm ou 80 mm de diâmetro.
Forno Tubular Vertical Dividido de Zona Dupla de 1100°C com Tubo de Quartzo de 4 Polegadas e Flanges de Vedação a Vácuo
Este forno tubular vertical dividido de zona dupla de 1100°C possui um tubo de quartzo de quatro polegadas e flanges de vedação a vácuo. Projetado para aplicações de CVD e PVD, este sistema de alta precisão oferece uma uniformidade térmica excepcional para pesquisa e desenvolvimento laboratorial.
Forno de Tubo Dividido de Zona Dupla de 1200°C com Tubo de Quartzo Fundido e Flanges de Vácuo Disponível em Diâmetros de 60mm, 80mm e 100mm
Aprimore a pesquisa de materiais com este forno de tubo dividido de zona dupla de 1200°C, apresentando controle de temperatura independente para gradientes térmicos precisos. Equipado com tubos de quartzo fundido e flanges de vedação a vácuo, é a solução ideal para CVD avançado e síntese de nanomateriais.
Forno Tubular Vertical Dividido de 1100°C com Tubo de Quartzo de 80mm e Flanges de Vácuo em Aço Inoxidável
Este forno tubular vertical dividido de alto desempenho de 1100°C possui um tubo de quartzo de 80mm, flanges de vácuo em aço inoxidável e controle PID preciso de 30 segmentos. Projetado para P&D de materiais, têmpera rápida e processamento térmico com atmosfera controlada em laboratórios industriais profissionais.
Forno de Tubo de Quartzo de Dupla Zona com Diâmetro de 80mm, Temperatura Máxima de 1200°C, Misturador de Gás de 3 Canais e Sistema de Bomba de Vácuo
Este avançado forno de tubo de quartzo de dupla zona apresenta um tubo de 80mm de diâmetro, mistura de gás integrada de três canais e um sistema de vácuo de alto desempenho. Perfeito para CVD e pesquisa de materiais, oferece processamento térmico preciso a 1200°C e capacidades de monitoramento de vácuo anticorrosivo.
Forno de Tubo Dividido Ultra Longo de 12 Zonas com Tubo de Quartzo de 20 Pés e Temperatura Máxima de 1100°C
Este forno de tubo dividido de 12 zonas de alta precisão oferece um comprimento de aquecimento de seis metros e uma temperatura máxima de 1100°C para amostras de formato longo. Com controle PID independente e flanges preparadas para vácuo, ele oferece uniformidade excepcional para aplicações avançadas de ciência de materiais industriais e P&D.
Forno tubular de quartzo de grande diâmetro de 1100°C com zona de aquecimento de 24 polegadas e flanges refrigeradas a água
Este forno tubular de quartzo de grande diâmetro de 1100°C possui uma zona de aquecimento de 24 polegadas e flanges refrigeradas a água para processamento CVD preciso. Ideal para pesquisa de materiais e P&D industrial, oferece estabilidade térmica excepcional e desempenho térmico robusto.
Forno de Tubo Três Zonas com Tubo de Quartzo de 11 Polegadas ou 15 Polegadas e Flanges Articulados para Tratamento Térmico em Atmosfera de Vácuo
Alcance uma uniformidade térmica superior com este forno de tubo três zonas, que apresenta tubos de quartzo de 11 ou 15 polegadas para recozimento de wafers em larga escala e síntese de materiais sob controle preciso de vácuo e operação motorizada da tampa para segurança em laboratórios industriais.
Forno de Câmara de Quartzo de Alta Temperatura de 1100°C, 8 Polegadas de DE, com Capacidade de 7,6 Litros e Capacidade de Atmosfera de Vácuo
Aumente as capacidades do seu laboratório com este forno de câmara de quartzo de 1100°C, apresentando um diâmetro externo (DE) de 8 polegadas e um volume de 7,6 litros. Projetado para ambientes de vácuo e atmosfera controlada, este sistema oferece processamento térmico de precisão para pesquisa avançada de materiais e fabricação de semicondutores.
Forno tubular rotativo de duas zonas de 5 polegadas 1100°C para CVD de pós e síntese de materiais
Potencialize a pesquisa de materiais com nosso forno tubular rotativo de duas zonas, de alta precisão, a 1100°C. Projetado especificamente para CVD de pós uniforme e síntese núcleo-casca, este sistema de quartzo de 5 polegadas oferece controle avançado de atmosfera e otimização independente do processamento térmico em duas zonas.
Forno tubular de zona dupla alongado de alta temperatura para pesquisa de materiais e tratamento térmico industrial
Melhore a sua pesquisa de materiais com este forno tubular de zona dupla alongado de alto desempenho. Apresentando elementos suecos Kanthal A1 e controle PID avançado, ele garante uma uniformidade térmica excepcional de até 1200°C para aplicações exigentes de P&D laboratorial e industrial na engenharia moderna.
Forno de Tubo Bipartido de Alta Temperatura 1100C de Oito Zonas com Tubo de Quartzo de 4 Polegadas de DE e Painel de Controle com Tela Sensível ao Toque
Otimize a pesquisa de materiais com este forno de tubo bipartido 1100C de oito zonas, apresentando um painel de controle com tela sensível ao toque, gradientes térmicos de precisão e um tubo de quartzo grande de 4 polegadas de DE para P&D industrial avançado e processos de deposição química de vapor.
Forno Tubular de Múltiplas Posições 1100°C para Pesquisa de Materiais em Laboratório e Processamento Térmico Industrial Avançado
Este forno tubular de múltiplas posições oferece aquecimento de precisão a 1100°C com flexibilidade de orientação vertical e horizontal. Projetado para pesquisa avançada de materiais, possui um controlador PID de 30 segmentos e isolamento fibroso de alta pureza para excepcional estabilidade térmica e desempenho confiável em laboratórios industriais.
Forno Tubular a Vácuo de Zona Dupla de Alta Temperatura para Pesquisa de Materiais e Processamento CVD
Aprimore as capacidades do seu laboratório com este forno tubular a vácuo de zona dupla de alta precisão. Projetado para pesquisa avançada de materiais e processos CVD, ele apresenta controle de temperatura independente, taxas de aquecimento rápidas e vedação a vácuo robusta para resultados consistentes de tratamento térmico de nível industrial.
Forno tubular de zona de temperatura dupla com cobertura dupla para CVD de alta temperatura e recozimento a vácuo
Forno tubular profissional de zona de temperatura dupla de alta temperatura, equipado com elementos de aquecimento Kanthal A1 e controle PID avançado para aplicações de pesquisa e industriais. Este sistema oferece processamento térmico preciso para CVD, recozimento a vácuo e sinterização de materiais com confiabilidade inigualável.
Forno Tubular Dividido de Sete Zonas de Alta Temperatura com Operação Máxima de 1200°C e Tubo de Quartzo de Grande Diâmetro
Este forno tubular dividido de sete zonas de alto desempenho apresenta um comprimento de aquecimento expansivo de 82,6 polegadas e um tubo de quartzo de 8 polegadas. Projetado para pesquisa de materiais de precisão, oferece uniformidade de temperatura excepcional e controle atmosférico avançado para P&D industrial e aplicações de fabricação exigentes.
Forno tubular alongado de duas zonas de temperatura para tratamento térmico industrial e pesquisa em ciência dos materiais
Este forno tubular alongado de duas zonas de temperatura apresenta elementos suecos Kanthal A1 e controle PID avançado para pesquisa de materiais de precisão. Com opções de vácuo e atmosfera, oferece uniformidade térmica superior e confiabilidade para aplicações exigentes de tratamento térmico em laboratórios industriais.
Forno Tubular Dividido de Zona Dupla de Alta Temperatura para Sinterização em Atmosfera Avançada e Aplicações de CVD a Vácuo
Melhore a sua pesquisa de materiais com este forno tubular dividido de zona dupla de 1400°C de alta precisão. Com controlo de temperatura independente, capacidades de sinterização em atmosfera e estabilidade térmica superior, é a solução ideal para experiências avançadas de CVD e projetos de processamento térmico industrial.
Forno Tubular Giratório de Temperatura Dupla com Rotação de Precisão e Inclinação Ajustável para Pesquisa Avançada de Materiais
Forno tubular giratório de temperatura dupla de alto desempenho, com elementos Kanthal A1 e rotação de precisão para processamento uniforme de materiais. Ideal para aplicações de CVD e P&D que exigem controle térmico confiável e inclinação ajustável em ambientes laboratoriais industriais exigentes.
Forno de Tubo Rotativo de Zona Dupla para Calcinação Uniforme de Pós 1000°C Tubo de Quartzo de 2 Polegadas
Obtenha uma uniformidade de material superior com este forno de tubo rotativo de zona dupla de 1000°C. Com rotação variável e controladores PID programáveis, este sistema é otimizado para a calcinação de pós inorgânicos de alta pureza e projetos de desenvolvimento de cátodos de baterias de íons de lítio. Entre em contato conosco hoje para soluções térmicas personalizadas.
