Forno tubular de zona dupla alongado de alta temperatura para pesquisa de materiais e tratamento térmico industrial

Forno de Tubo

Forno tubular de zona dupla alongado de alta temperatura para pesquisa de materiais e tratamento térmico industrial

Número do item: TU-GS10

Temperatura Máxima: 1200 ℃ Elemento de Aquecimento: Kanthal A1 sueco importado Precisão do Controle de Temperatura: ± 1 ℃
Qualidade Garantida Fast Delivery Global Support

Envio: Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.

Visão Geral do Produto

Imagem do produto 1

Este sistema de processamento térmico alongado de alto desempenho foi projetado para atender às demandas rigorosas da pesquisa em ciência dos materiais e aplicações laboratoriais industriais. Projetado para precisão e versatilidade, o equipamento oferece um ambiente excepcional para tratamento térmico, sinterização e deposição química de vapor. Ao utilizar uma câmara de aquecimento alongada, o sistema permite a criação de gradientes de temperatura estáveis ou o processamento de amostras longas, tornando-o uma ferramenta indispensável para instalações avançadas de P&D e fábricas de alta tecnologia focadas em síntese de materiais especializados.

O equipamento é especificamente adaptado para indústrias como fabricação de semicondutores, engenharia aeroespacial e cerâmicas avançadas. Seu design robusto suporta uma ampla variedade de atmosferas, incluindo ambientes de vácuo e gás inerte, permitindo o controle preciso de reações químicas em temperaturas elevadas. Esta unidade serve como uma ponte crítica entre a descoberta experimental e a produção em escala piloto, oferecendo a flexibilidade necessária para prototipagem rápida, mantendo a confiabilidade de nível industrial necessária para a aquisição consistente de dados em setores altamente regulamentados.

A confiabilidade e o desempenho a longo prazo são as marcas registradas da engenharia deste sistema. Construído com elementos de aquecimento suecos premium e isolamento de alta pureza projetado no Japão, o equipamento mantém a integridade estrutural mesmo sob operação contínua em alta temperatura. A integração de protocolos de segurança avançados e sistemas de controle inteligentes garante que a unidade funcione de forma previsível em condições exigentes. Os compradores podem investir com confiança, sabendo que a uniformidade térmica e a segurança operacional deste forno são apoiadas por décadas de experiência em ciência dos materiais e padrões de fabricação de precisão.

Principais Recursos

  • Elementos Suecos Premium Kanthal A1: Este sistema utiliza fio de resistência Kanthal A1 importado, capaz de atingir temperaturas de superfície de 1420℃. Esses elementos oferecem qualidade de superfície superior com um acabamento semelhante ao aço inoxidável que evita ferrugem e acúmulo de escória, garantindo um ambiente de processamento limpo e uma longa vida útil de mais de dois anos.
  • Moldagem por Sucção a Vácuo Japonesa Avançada: A câmara do forno é construída usando fibra policristalina de alumina de alta pureza. Utilizando tecnologia japonesa de sucção a vácuo e moldagem por filtro, o isolamento oferece eficiência térmica excepcional, baixo armazenamento de calor e resistência ao choque térmico, evitando a degradação estrutural comum em câmaras de fibra de menor qualidade.
  • Otimização de Campo Térmico Simulado: O espaçamento e o passo dos elementos de aquecimento são meticulosamente organizados com base na tecnologia térmica japonesa avançada. Usando um sofisticado software de simulação térmica, o equipamento alcança um campo de temperatura equilibrado que minimiza pontos frios e garante um aquecimento uniforme em toda a zona de processamento.
  • Controle de Programa PID Inteligente: Equipado com um controlador PID inteligente padrão de 30 segmentos, o sistema oferece gerenciamento preciso de temperatura. Inclui funções de autoajuste e proteção abrangente contra falha do termopar ou condições de sobretemperatura, garantindo a segurança tanto do equipamento quanto das amostras.
  • Segurança e Monitoramento Integrados: A unidade possui um interruptor de ar embutido e protetor contra vazamento que desconecta automaticamente a energia em caso de falha elétrica. Além disso, um sistema de proteção de tampa aberta utiliza um relé físico para cortar a energia principal imediatamente quando a tampa do forno é aberta, evitando a exposição acidental a alta tensão ou calor.
  • Controle de Potência de Alto Desempenho: O equipamento incorpora gatilhos controlados por silício SEMIKRON e mecanismos de disparo com mudança de fase. Isso garante um fornecimento de energia suave aos elementos de aquecimento, estendendo sua vida útil e fornecendo os ajustes de potência finos necessários para transições delicadas de materiais.
  • Conectividade de Dados Abrangente: Uma interface de comunicação RS485 padrão permite o controle direto por computador. Usando software dedicado, os operadores podem monitorar o PV (Valor do Processo) e o SV (Valor Definido) em tempo real, gerar curvas de aquecimento e armazenar dados históricos de temperatura para auditoria e análise de pesquisa.
  • Configuração de Aquecimento de Quatro Lados: Para alcançar um equilíbrio térmico superior, os fios de resistência são dispostos nos quatro lados da câmara. Essa abordagem de aquecimento multidirecional garante que os gradientes de temperatura radial e longitudinal sejam minimizados, o que é crítico para o crescimento de cristais de alta qualidade e deposição uniforme de filmes.

Aplicações

Aplicação Descrição Principal Benefício
Recozimento de Semicondutores Tratamento térmico preciso de wafers de silício e substratos sob atmosferas controladas. Minimiza o estresse térmico e garante a ativação uniforme do dopante.
Processos CVD / PECVD Síntese em alta temperatura de filmes finos e nanotubos de carbono em ambiente de vácuo. Zonas térmicas estáveis proporcionam espessura e qualidade de filme consistentes.
Sinterização de Cerâmicas Avançadas Consolidação de pós cerâmicos de alta pureza em componentes estruturais densos. Evita rachaduras e crescimento de grãos através de aquecimento uniforme nos quatro lados.
Crescimento de Cristais Ciclos térmicos de longa duração para o crescimento de monocristais a partir de fusão ou vapor. Câmara alongada permite controle preciso de gradiente ao longo do tubo.
Teste de Materiais de Bateria Calcinação e ciclagem térmica de materiais de cátodo e ânodo para armazenamento de energia. Registro de dados confiável via interface de PC para análise de ciclo de vida de P&D.
Reações Atmosféricas Experimentos de oxidação, redução e nitretação usando configurações específicas de fluxo de gás. Sistemas de vácuo e suprimento de gás altamente personalizáveis para diversas químicas.
Controle de Qualidade Industrial Teste em lote de componentes industriais para durabilidade térmica e resistência ao calor. Taxas de rampa rápidas e precisão PID garantem protocolos de teste repetíveis.
Pesquisa Metalúrgica Endurecimento e têmpera de amostras de ligas especializadas em ambientes inertes. Elementos de alta temperatura de superfície evitam a contaminação da amostra por escória.

Especificações Técnicas

Parâmetros Principais do Sistema (Série TU-GS10)

Parâmetro TU-GS10-150 TU-GS10-200 TU-GS10-250
Potência de Aquecimento 10 KW 12 KW 14 KW
Tamanho do Tubo (Diâmetro Externo) Dia 150 mm Dia 200 mm Dia 250 mm
Comprimento do Tubo 1500 mm 1500 mm 1500 mm
Dimensões Gerais (C×L×A) 1500 × 500 × 700 mm 1500 × 550 × 750 mm 1500 × 600 × 800 mm
Temperatura Máxima 1200 ℃ 1200 ℃ 1200 ℃
Temperatura de Operação Nominal 1100 ℃ 1100 ℃ 1100 ℃
Comprimento da Zona de Aquecimento 800 mm 800 mm 800 mm
Zona de Temperatura Constante 500 - 600 mm 500 - 600 mm 500 - 600 mm
Elemento de Aquecimento Kanthal A1 (Suécia) Kanthal A1 (Suécia) Kanthal A1 (Suécia)
Tensão de Alimentação 220V 220V 220V
Configuração de Fase Monofásico Monofásico Monofásico

Especificações de Controle e Segurança

Recurso Detalhes
Controle de Temperatura PID Inteligente Yu Electric (30 segmentos) com autoajuste
Precisão de Controle ± 1 ℃
Tipo de Gatilho Gatilho com mudança de fase
Tiristor / SCR 106/16E SEMIKRON (Alemanha)
Componentes Elétricos Zhejiang Chint
Termopar Tipo K
Taxa de Aquecimento ≤ 30 ℃/min (15 ℃/min recomendado)
Temperatura da Superfície ≤ 45 ℃ (Carcaça externa)
Interface de Comunicação RS485 (Padrão) com software de controle para PC
Sistemas de Segurança Corte de energia com tampa aberta, proteção contra vazamento, alarme de sobretemperatura

Melhorias Opcionais do Sistema

Módulo Opções Disponíveis
Sistemas de Vácuo 1. Bomba de estágio único (TW-1.5A); 2. Estágio duplo (2XZ-2) até 10Pa; 3. Sistema VS-0.1 até 0.1Pa; 4. Bomba Molecular de Alto Vácuo até 10⁻³ Pa
Medição de Vácuo Manômetro de Capacitância INFICON (Reino Unido) (3.8x10⁻⁵ a 1125 Torr)
Suprimento de Gás Borbulhador, sistemas de suprimento com Medidor de Fluxo de Massa (MFC), evaporadores de líquido
Hardware de Controle Shimaden FP93 (Japão), Eurotherm ou Tela Sensível ao Toque Integrada
Certificações Placa elétrica e componentes certificados pela UL

Por que escolher o TU-GS10

  • Engenharia Térmica Superior: Ao combinar elementos suecos Kanthal A1 com câmaras de fibra projetadas no Japão e software de simulação térmica, este forno oferece uma consistência de campo térmico inigualável em sua classe.
  • Longevidade Estendida dos Componentes: Oferecemos uma garantia de 2 anos em nossos elementos de aquecimento, refletindo nossa confiança na metalurgia importada e na eficiência do nosso sistema de controle de potência com mudança de fase.
  • Arquitetura Escalável e Personalizável: De estações de bomba molecular de alto vácuo a sistemas de entrega de gás com fluxo de massa, o equipamento pode ser adaptado para atender aos requisitos exatos dos seus protocolos de pesquisa mais sensíveis.
  • Confiabilidade e Segurança B2B: Com opções elétricas certificadas pela UL e cortes de segurança físicos redundantes, este sistema foi projetado para operação industrial e laboratorial 24/7 com requisitos mínimos de manutenção.
  • Integração Digital Direta: A inclusão padrão de conectividade RS485 e software de registro de dados garante que seu laboratório esteja pronto para a transformação digital e conformidade rigorosa de dados.

Entre em contato com nossa equipe de engenharia técnica hoje para receber um orçamento detalhado ou para discutir como podemos personalizar a série TU-GS10 para atender às suas necessidades específicas de processamento térmico.

Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!

Produtos relacionados

Forno de Tubo de Quartzo de Dupla Zona com Diâmetro de 80mm, Temperatura Máxima de 1200°C, Misturador de Gás de 3 Canais e Sistema de Bomba de Vácuo

Forno de Tubo de Quartzo de Dupla Zona com Diâmetro de 80mm, Temperatura Máxima de 1200°C, Misturador de Gás de 3 Canais e Sistema de Bomba de Vácuo

Este avançado forno de tubo de quartzo de dupla zona apresenta um tubo de 80mm de diâmetro, mistura de gás integrada de três canais e um sistema de vácuo de alto desempenho. Perfeito para CVD e pesquisa de materiais, oferece processamento térmico preciso a 1200°C e capacidades de monitoramento de vácuo anticorrosivo.

Forno de Tubo de Dupla Zona 1100°C com Tubo de Quartzo de 11 Polegadas e Flanges de Vácuo para Processamento de Wafer de 8 Polegadas

Forno de Tubo de Dupla Zona 1100°C com Tubo de Quartzo de 11 Polegadas e Flanges de Vácuo para Processamento de Wafer de 8 Polegadas

Este forno de tubo de dupla zona de alta temperatura avançado foi projetado com um tubo de quartzo de 11 polegadas e zona de aquecimento de 24 polegadas para oferecer uniformidade térmica excepcional para recozimento de wafer de 8 polegadas, sinterização de materiais e equipamento de pesquisa especializado em deposição química de vapor para uso industrial e laboratorial.

Forno de Tubo Dividido de Zona Dupla de 1200°C com Tubo de Quartzo Fundido e Flanges de Vácuo Disponível em Diâmetros de 60mm, 80mm e 100mm

Forno de Tubo Dividido de Zona Dupla de 1200°C com Tubo de Quartzo Fundido e Flanges de Vácuo Disponível em Diâmetros de 60mm, 80mm e 100mm

Aprimore a pesquisa de materiais com este forno de tubo dividido de zona dupla de 1200°C, apresentando controle de temperatura independente para gradientes térmicos precisos. Equipado com tubos de quartzo fundido e flanges de vedação a vácuo, é a solução ideal para CVD avançado e síntese de nanomateriais.

Forno Tubular de Zona Dupla de Alta Temperatura para Pesquisa em Ciência dos Materiais e Processamento Térmico Profissional

Forno Tubular de Zona Dupla de Alta Temperatura para Pesquisa em Ciência dos Materiais e Processamento Térmico Profissional

Forno tubular avançado de zona dupla projetado para tratamento térmico preciso de materiais, apresentando elementos suecos Kanthal e controle PID sofisticado para resultados consistentes em aplicações exigentes de P&D industrial e laboratorial.

Forno Tubular Deslizante de Zona de Temperatura Dupla de 1200°C para Crescimento de Materiais 2D e Síntese TCVD

Forno Tubular Deslizante de Zona de Temperatura Dupla de 1200°C para Crescimento de Materiais 2D e Síntese TCVD

Otimize a síntese avançada de materiais 2D usando este sistema de forno duplo de 1200°C, que apresenta uma zona de aquecimento deslizante para resfriamento ultrarrápido, controle de temperatura PID independente e processamento em quartzo de alta pureza, projetado para deposição química de vapor térmica de precisão e P&D.

Forno Tubular de Zona Dupla de Alta Temperatura 1700ºC para Ciência dos Materiais e Pesquisa Industrial de Deposição Química de Vapor

Forno Tubular de Zona Dupla de Alta Temperatura 1700ºC para Ciência dos Materiais e Pesquisa Industrial de Deposição Química de Vapor

Este forno tubular de zona dupla de 1700ºC de alta temperatura oferece controle independente para gradientes térmicos precisos, ideal para CVD, PVD e crescimento de cristais em pesquisa avançada de materiais, apresentando elementos de MoSi2 e integração robusta de tubo de alumina selado a vácuo para confiabilidade industrial.

Forno Compacto Split Tube de Zona de Aquecimento Dupla 1200C com Tubo Opcional de 1" - 2" e Flanges de Vácuo

Forno Compacto Split Tube de Zona de Aquecimento Dupla 1200C com Tubo Opcional de 1" - 2" e Flanges de Vácuo

Este forno compacto split tube de 1200C com zona de aquecimento dupla oferece controle preciso do gradiente de temperatura e capacidades de vácuo. Projetado para P&D em ciência dos materiais, apresenta controladores PID independentes, flanges de aço inoxidável e isolamento fibroso com eficiência energética para desempenho laboratorial consistente.

Forno Tubular a Vácuo de Zona Dupla de Alta Temperatura para Pesquisa de Materiais e Processamento CVD

Forno Tubular a Vácuo de Zona Dupla de Alta Temperatura para Pesquisa de Materiais e Processamento CVD

Aprimore as capacidades do seu laboratório com este forno tubular a vácuo de zona dupla de alta precisão. Projetado para pesquisa avançada de materiais e processos CVD, ele apresenta controle de temperatura independente, taxas de aquecimento rápidas e vedação a vácuo robusta para resultados consistentes de tratamento térmico de nível industrial.

Forno Tubular Vertical Dividido de Zona Dupla de 1100°C com Tubo de Quartzo de 4 Polegadas e Flanges de Vedação a Vácuo

Forno Tubular Vertical Dividido de Zona Dupla de 1100°C com Tubo de Quartzo de 4 Polegadas e Flanges de Vedação a Vácuo

Este forno tubular vertical dividido de zona dupla de 1100°C possui um tubo de quartzo de quatro polegadas e flanges de vedação a vácuo. Projetado para aplicações de CVD e PVD, este sistema de alta precisão oferece uma uniformidade térmica excepcional para pesquisa e desenvolvimento laboratorial.

Forno Tubular Dividido de Zona Dupla de Alta Temperatura para Sinterização em Atmosfera Avançada e Aplicações de CVD a Vácuo

Forno Tubular Dividido de Zona Dupla de Alta Temperatura para Sinterização em Atmosfera Avançada e Aplicações de CVD a Vácuo

Melhore a sua pesquisa de materiais com este forno tubular dividido de zona dupla de 1400°C de alta precisão. Com controlo de temperatura independente, capacidades de sinterização em atmosfera e estabilidade térmica superior, é a solução ideal para experiências avançadas de CVD e projetos de processamento térmico industrial.

Forno de Tubo Dividido de Zona Dupla com Controlo de Atmosfera de Alto Vácuo e Arrefecimento Rápido

Forno de Tubo Dividido de Zona Dupla com Controlo de Atmosfera de Alto Vácuo e Arrefecimento Rápido

Projetado para a excelência, este forno de tubo dividido de zona dupla oferece têmpera de precisão e controlo de atmosfera a vácuo. Utilizando sistemas de controlo japoneses avançados e elementos de aquecimento premium, garante perfis térmicos uniformes para investigação crítica de materiais e processos de I&D industrial de alto desempenho.

Forno de Tubo Dupla Zona com Deslizamento Automático a 1200°C para Pesquisa em Crescimento de Dicacogenetos de Metais de Transição 2D e Sublimação de Materiais

Forno de Tubo Dupla Zona com Deslizamento Automático a 1200°C para Pesquisa em Crescimento de Dicacogenetos de Metais de Transição 2D e Sublimação de Materiais

Domine a síntese de materiais 2D com este sistema de forno duplo deslizante automático a 1200°C projetado para o crescimento de TMDs. Apresenta zonas independentes de sublimação e deposição para controle térmico preciso e taxas de resfriamento rápido, garantindo resultados de pesquisa de produção de cristais de filmes finos de alta qualidade.

Forno tubular de zona de temperatura dupla com cobertura dupla para CVD de alta temperatura e recozimento a vácuo

Forno tubular de zona de temperatura dupla com cobertura dupla para CVD de alta temperatura e recozimento a vácuo

Forno tubular profissional de zona de temperatura dupla de alta temperatura, equipado com elementos de aquecimento Kanthal A1 e controle PID avançado para aplicações de pesquisa e industriais. Este sistema oferece processamento térmico preciso para CVD, recozimento a vácuo e sinterização de materiais com confiabilidade inigualável.

Forno de Tubo de Aquecimento Rápido de Zona Dupla com Sistema de Atmosfera de Vácuo de Alta Temperatura

Forno de Tubo de Aquecimento Rápido de Zona Dupla com Sistema de Atmosfera de Vácuo de Alta Temperatura

Este forno de tubo de aquecimento rápido de zona dupla de alto desempenho oferece uma temperatura máxima de 1200°C com taxas de rampa rápidas de 100°C por minuto, controle PID de precisão e capacidades de atmosfera de vácuo para pesquisa avançada de materiais, sinterização e aplicações de deposição química de vapor.

Forno de Tubo Dividido de Duas Zonas de 1500°C com Flange de Vácuo e Tubo de Alumina de 80mm

Forno de Tubo Dividido de Duas Zonas de 1500°C com Flange de Vácuo e Tubo de Alumina de 80mm

Forno de tubo dividido de duas zonas de 1500°C de alto desempenho, apresentando tubo de alumina de 80mm, elementos de aquecimento de SiC e controle PID preciso. Ideal para P&D de materiais, deposição química de vapor e processamento térmico com capacidades de vácuo e multiatmosfera para aplicações avançadas de pesquisa em laboratórios industriais.

Forno tubular de gás hidrogênio de zona dupla de 1100°C com tubo de quartzo e sistema integrado de detecção de vazamento de H2

Forno tubular de gás hidrogênio de zona dupla de 1100°C com tubo de quartzo e sistema integrado de detecção de vazamento de H2

Este forno tubular de hidrogênio de zona dupla de alto desempenho possui um detector de gás Honeywell integrado para processamento térmico seguro de até 1100°C. Projetado para P&D em ciência dos materiais, oferece controle preciso da atmosfera com tubos de quartzo de 60 mm ou 80 mm de diâmetro.

Forno tubular alongado de duas zonas de temperatura para tratamento térmico industrial e pesquisa em ciência dos materiais

Forno tubular alongado de duas zonas de temperatura para tratamento térmico industrial e pesquisa em ciência dos materiais

Este forno tubular alongado de duas zonas de temperatura apresenta elementos suecos Kanthal A1 e controle PID avançado para pesquisa de materiais de precisão. Com opções de vácuo e atmosfera, oferece uniformidade térmica superior e confiabilidade para aplicações exigentes de tratamento térmico em laboratórios industriais.

Forno Tubular Rotativo de Duas Zonas para Revestimento CVD de Pós e Síntese de Materiais Core-Shell 1100°C

Forno Tubular Rotativo de Duas Zonas para Revestimento CVD de Pós e Síntese de Materiais Core-Shell 1100°C

Otimize o processamento de pós com este forno tubular rotativo de duas zonas de 1100°C de alto desempenho. Projetado especificamente para revestimento CVD e síntese core-shell, possui um tubo de quartzo de cinco polegadas e pás de mistura para garantir uma uniformidade térmica excepcional e uma produção consistente de lotes de material.

Forno Tubular Giratório de Temperatura Dupla com Rotação de Precisão e Inclinação Ajustável para Pesquisa Avançada de Materiais

Forno Tubular Giratório de Temperatura Dupla com Rotação de Precisão e Inclinação Ajustável para Pesquisa Avançada de Materiais

Forno tubular giratório de temperatura dupla de alto desempenho, com elementos Kanthal A1 e rotação de precisão para processamento uniforme de materiais. Ideal para aplicações de CVD e P&D que exigem controle térmico confiável e inclinação ajustável em ambientes laboratoriais industriais exigentes.

Forno tubular de processamento térmico rápido (RTP) com aquecimento por infravermelho de duas zonas, tubo de quartzo de 4 polegadas de diâmetro interno e suportes de amostra deslizantes

Forno tubular de processamento térmico rápido (RTP) com aquecimento por infravermelho de duas zonas, tubo de quartzo de 4 polegadas de diâmetro interno e suportes de amostra deslizantes

Forno tubular RTP de alto desempenho com aquecimento por infravermelho de duas zonas, apresentando tubo de quartzo de 4 polegadas de diâmetro interno e suportes de amostra deslizantes duplos. Alcance taxas de aquecimento de 50°C/s para síntese avançada de materiais 2D, pesquisa em supercondutores e processos de deposição de vapor de alta velocidade e precisão.