Forno de Tubo
Forno tubular de zona dupla alongado de alta temperatura para pesquisa de materiais e tratamento térmico industrial
Número do item: TU-GS10
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Visão Geral do Produto

Este sistema de processamento térmico alongado de alto desempenho foi projetado para atender às demandas rigorosas da pesquisa em ciência dos materiais e aplicações laboratoriais industriais. Projetado para precisão e versatilidade, o equipamento oferece um ambiente excepcional para tratamento térmico, sinterização e deposição química de vapor. Ao utilizar uma câmara de aquecimento alongada, o sistema permite a criação de gradientes de temperatura estáveis ou o processamento de amostras longas, tornando-o uma ferramenta indispensável para instalações avançadas de P&D e fábricas de alta tecnologia focadas em síntese de materiais especializados.
O equipamento é especificamente adaptado para indústrias como fabricação de semicondutores, engenharia aeroespacial e cerâmicas avançadas. Seu design robusto suporta uma ampla variedade de atmosferas, incluindo ambientes de vácuo e gás inerte, permitindo o controle preciso de reações químicas em temperaturas elevadas. Esta unidade serve como uma ponte crítica entre a descoberta experimental e a produção em escala piloto, oferecendo a flexibilidade necessária para prototipagem rápida, mantendo a confiabilidade de nível industrial necessária para a aquisição consistente de dados em setores altamente regulamentados.
A confiabilidade e o desempenho a longo prazo são as marcas registradas da engenharia deste sistema. Construído com elementos de aquecimento suecos premium e isolamento de alta pureza projetado no Japão, o equipamento mantém a integridade estrutural mesmo sob operação contínua em alta temperatura. A integração de protocolos de segurança avançados e sistemas de controle inteligentes garante que a unidade funcione de forma previsível em condições exigentes. Os compradores podem investir com confiança, sabendo que a uniformidade térmica e a segurança operacional deste forno são apoiadas por décadas de experiência em ciência dos materiais e padrões de fabricação de precisão.
Principais Recursos
- Elementos Suecos Premium Kanthal A1: Este sistema utiliza fio de resistência Kanthal A1 importado, capaz de atingir temperaturas de superfície de 1420℃. Esses elementos oferecem qualidade de superfície superior com um acabamento semelhante ao aço inoxidável que evita ferrugem e acúmulo de escória, garantindo um ambiente de processamento limpo e uma longa vida útil de mais de dois anos.
- Moldagem por Sucção a Vácuo Japonesa Avançada: A câmara do forno é construída usando fibra policristalina de alumina de alta pureza. Utilizando tecnologia japonesa de sucção a vácuo e moldagem por filtro, o isolamento oferece eficiência térmica excepcional, baixo armazenamento de calor e resistência ao choque térmico, evitando a degradação estrutural comum em câmaras de fibra de menor qualidade.
- Otimização de Campo Térmico Simulado: O espaçamento e o passo dos elementos de aquecimento são meticulosamente organizados com base na tecnologia térmica japonesa avançada. Usando um sofisticado software de simulação térmica, o equipamento alcança um campo de temperatura equilibrado que minimiza pontos frios e garante um aquecimento uniforme em toda a zona de processamento.
- Controle de Programa PID Inteligente: Equipado com um controlador PID inteligente padrão de 30 segmentos, o sistema oferece gerenciamento preciso de temperatura. Inclui funções de autoajuste e proteção abrangente contra falha do termopar ou condições de sobretemperatura, garantindo a segurança tanto do equipamento quanto das amostras.
- Segurança e Monitoramento Integrados: A unidade possui um interruptor de ar embutido e protetor contra vazamento que desconecta automaticamente a energia em caso de falha elétrica. Além disso, um sistema de proteção de tampa aberta utiliza um relé físico para cortar a energia principal imediatamente quando a tampa do forno é aberta, evitando a exposição acidental a alta tensão ou calor.
- Controle de Potência de Alto Desempenho: O equipamento incorpora gatilhos controlados por silício SEMIKRON e mecanismos de disparo com mudança de fase. Isso garante um fornecimento de energia suave aos elementos de aquecimento, estendendo sua vida útil e fornecendo os ajustes de potência finos necessários para transições delicadas de materiais.
- Conectividade de Dados Abrangente: Uma interface de comunicação RS485 padrão permite o controle direto por computador. Usando software dedicado, os operadores podem monitorar o PV (Valor do Processo) e o SV (Valor Definido) em tempo real, gerar curvas de aquecimento e armazenar dados históricos de temperatura para auditoria e análise de pesquisa.
- Configuração de Aquecimento de Quatro Lados: Para alcançar um equilíbrio térmico superior, os fios de resistência são dispostos nos quatro lados da câmara. Essa abordagem de aquecimento multidirecional garante que os gradientes de temperatura radial e longitudinal sejam minimizados, o que é crítico para o crescimento de cristais de alta qualidade e deposição uniforme de filmes.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Recozimento de Semicondutores | Tratamento térmico preciso de wafers de silício e substratos sob atmosferas controladas. | Minimiza o estresse térmico e garante a ativação uniforme do dopante. |
| Processos CVD / PECVD | Síntese em alta temperatura de filmes finos e nanotubos de carbono em ambiente de vácuo. | Zonas térmicas estáveis proporcionam espessura e qualidade de filme consistentes. |
| Sinterização de Cerâmicas Avançadas | Consolidação de pós cerâmicos de alta pureza em componentes estruturais densos. | Evita rachaduras e crescimento de grãos através de aquecimento uniforme nos quatro lados. |
| Crescimento de Cristais | Ciclos térmicos de longa duração para o crescimento de monocristais a partir de fusão ou vapor. | Câmara alongada permite controle preciso de gradiente ao longo do tubo. |
| Teste de Materiais de Bateria | Calcinação e ciclagem térmica de materiais de cátodo e ânodo para armazenamento de energia. | Registro de dados confiável via interface de PC para análise de ciclo de vida de P&D. |
| Reações Atmosféricas | Experimentos de oxidação, redução e nitretação usando configurações específicas de fluxo de gás. | Sistemas de vácuo e suprimento de gás altamente personalizáveis para diversas químicas. |
| Controle de Qualidade Industrial | Teste em lote de componentes industriais para durabilidade térmica e resistência ao calor. | Taxas de rampa rápidas e precisão PID garantem protocolos de teste repetíveis. |
| Pesquisa Metalúrgica | Endurecimento e têmpera de amostras de ligas especializadas em ambientes inertes. | Elementos de alta temperatura de superfície evitam a contaminação da amostra por escória. |
Especificações Técnicas
Parâmetros Principais do Sistema (Série TU-GS10)
| Parâmetro | TU-GS10-150 | TU-GS10-200 | TU-GS10-250 |
|---|---|---|---|
| Potência de Aquecimento | 10 KW | 12 KW | 14 KW |
| Tamanho do Tubo (Diâmetro Externo) | Dia 150 mm | Dia 200 mm | Dia 250 mm |
| Comprimento do Tubo | 1500 mm | 1500 mm | 1500 mm |
| Dimensões Gerais (C×L×A) | 1500 × 500 × 700 mm | 1500 × 550 × 750 mm | 1500 × 600 × 800 mm |
| Temperatura Máxima | 1200 ℃ | 1200 ℃ | 1200 ℃ |
| Temperatura de Operação Nominal | 1100 ℃ | 1100 ℃ | 1100 ℃ |
| Comprimento da Zona de Aquecimento | 800 mm | 800 mm | 800 mm |
| Zona de Temperatura Constante | 500 - 600 mm | 500 - 600 mm | 500 - 600 mm |
| Elemento de Aquecimento | Kanthal A1 (Suécia) | Kanthal A1 (Suécia) | Kanthal A1 (Suécia) |
| Tensão de Alimentação | 220V | 220V | 220V |
| Configuração de Fase | Monofásico | Monofásico | Monofásico |
Especificações de Controle e Segurança
| Recurso | Detalhes |
|---|---|
| Controle de Temperatura | PID Inteligente Yu Electric (30 segmentos) com autoajuste |
| Precisão de Controle | ± 1 ℃ |
| Tipo de Gatilho | Gatilho com mudança de fase |
| Tiristor / SCR | 106/16E SEMIKRON (Alemanha) |
| Componentes Elétricos | Zhejiang Chint |
| Termopar | Tipo K |
| Taxa de Aquecimento | ≤ 30 ℃/min (15 ℃/min recomendado) |
| Temperatura da Superfície | ≤ 45 ℃ (Carcaça externa) |
| Interface de Comunicação | RS485 (Padrão) com software de controle para PC |
| Sistemas de Segurança | Corte de energia com tampa aberta, proteção contra vazamento, alarme de sobretemperatura |
Melhorias Opcionais do Sistema
| Módulo | Opções Disponíveis |
|---|---|
| Sistemas de Vácuo | 1. Bomba de estágio único (TW-1.5A); 2. Estágio duplo (2XZ-2) até 10Pa; 3. Sistema VS-0.1 até 0.1Pa; 4. Bomba Molecular de Alto Vácuo até 10⁻³ Pa |
| Medição de Vácuo | Manômetro de Capacitância INFICON (Reino Unido) (3.8x10⁻⁵ a 1125 Torr) |
| Suprimento de Gás | Borbulhador, sistemas de suprimento com Medidor de Fluxo de Massa (MFC), evaporadores de líquido |
| Hardware de Controle | Shimaden FP93 (Japão), Eurotherm ou Tela Sensível ao Toque Integrada |
| Certificações | Placa elétrica e componentes certificados pela UL |
Por que escolher o TU-GS10
- Engenharia Térmica Superior: Ao combinar elementos suecos Kanthal A1 com câmaras de fibra projetadas no Japão e software de simulação térmica, este forno oferece uma consistência de campo térmico inigualável em sua classe.
- Longevidade Estendida dos Componentes: Oferecemos uma garantia de 2 anos em nossos elementos de aquecimento, refletindo nossa confiança na metalurgia importada e na eficiência do nosso sistema de controle de potência com mudança de fase.
- Arquitetura Escalável e Personalizável: De estações de bomba molecular de alto vácuo a sistemas de entrega de gás com fluxo de massa, o equipamento pode ser adaptado para atender aos requisitos exatos dos seus protocolos de pesquisa mais sensíveis.
- Confiabilidade e Segurança B2B: Com opções elétricas certificadas pela UL e cortes de segurança físicos redundantes, este sistema foi projetado para operação industrial e laboratorial 24/7 com requisitos mínimos de manutenção.
- Integração Digital Direta: A inclusão padrão de conectividade RS485 e software de registro de dados garante que seu laboratório esteja pronto para a transformação digital e conformidade rigorosa de dados.
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