Forno tubular de quartzo de grande diâmetro de 1100°C com zona de aquecimento de 24 polegadas e flanges refrigeradas a água

Visão Geral do Produto

Este sistema de processamento térmico de alto desempenho foi projetado para atender às demandas rigorosas da pesquisa em ciência dos materiais e da produção piloto industrial. Com um tubo de processamento de quartzo de 8,5 polegadas de diâmetro, o equipamento foi concebido para processos de Deposição Química de Vapor (CVD) envolvendo amostras de grande escala ou wafers semicondutores. Sua arquitetura robusta e zona de aquecimento expansiva proporcionam a uniformidade térmica necessária para transformações complexas de materiais, garantindo que cada lote atenda a rigorosos padrões de qualidade.

No cenário atual de P&D, este sistema serve como uma plataforma versátil para a síntese de materiais avançados, incluindo nanomateriais e filmes finos. Ao integrar uma câmara de quartzo de alta pureza com elementos de aquecimento controlados com precisão, a unidade mantém um ambiente com qualidade de sala limpa, mesmo em temperaturas elevadas. Isso a torna uma ferramenta indispensável para laboratórios focados em energia limpa, eletrônica e componentes aeroespaciais, onde o controle de contaminação é tão crítico quanto a precisão da temperatura.

A confiabilidade está no centro do design desta unidade. Construída com componentes premium de grau industrial e uma carcaça de aço de camada dupla, garante consistência operacional sob condições exigentes. Seja realizando ciclos contínuos de 24 horas para sinterização de longo prazo ou ciclos térmicos rápidos para testes de estresse, este equipamento oferece a estabilidade mecânica e térmica necessária para resultados científicos reprodutíveis e fluxos de trabalho industriais eficientes.

Principais Características

• Tubo de Processamento de Quartzo Expansivo de 8,5 Polegadas: O tubo de quartzo fundido de alta pureza oferece um volume de processamento massivo, adequado para wafers grandes ou calcinação de pó de alta capacidade, garantindo produtividade máxima em ambientes de pesquisa.
• Aquecimento por Resistência NiCrAl Avançado: Elementos de fio NiCrAl de alto desempenho são estrategicamente posicionados para fornecer transferência de calor eficiente e uma temperatura operacional máxima de 1100°C com longevidade excepcional.
• Regulação de Temperatura PID de Precisão: O controlador programável integrado permite até 30 segmentos distintos de aquecimento e resfriamento, proporcionando controle granular sobre o perfil térmico para evitar ultrapassagem e manter uma precisão de ±1°C.
• Flanges de Aço Inoxidável Refrigeradas a Água: Flanges articuladas de alta integridade incluem canais de resfriamento a água integrados, que protegem as vedações herméticas durante ciclos de alta temperatura e garantem que os níveis de vácuo sejam mantidos durante todo o processo.
• Carcaça de Aço de Camada Dupla com Resfriamento por Ventilador: A estrutura externa do forno é projetada com um espaço de ar protetor e ventiladores de resfriamento ativos, mantendo a temperatura da superfície externa abaixo de 70°C para segurança do operador e durabilidade do equipamento.
• Isolamento Fibroso de Alumina de Alta Pureza: O uso de isolamento fibroso de silicato de alumina premium maximiza a retenção térmica e a eficiência energética, reduzindo o consumo de energia enquanto protege os componentes internos contra fadiga térmica.
• Sistema de Monitoramento com Termopar Duplo: Uma configuração de termopar duplo tipo K fornece canais separados para controle de temperatura e monitoramento de segurança, apresentando alarme de superaquecimento e termopar quebrado para operação à prova de falhas.
• Gerenciamento Versátil de Atmosfera: Equipado com entrada/saída de gás de tubo de compressão de 1/4" e portas de vácuo KF25, este sistema permite o controle preciso da pressão interna e da composição da atmosfera durante o tratamento térmico.

Aplicações

Especificações Técnicas

Por que escolher o TU-28

Investir no sistema TU-28 garante que seu laboratório ou instalação de produção esteja equipado com uma solução térmica que prioriza tanto a precisão quanto a escalabilidade. Esta unidade foi projetada especificamente para aqueles que exigem mais do que apenas aquecimento padrão; foi projetada para aqueles que precisam de um ambiente controlado e de alta pureza para inovação de materiais em grande escala. O tubo de 8,5 polegadas de diâmetro oferece uma vantagem competitiva distinta, permitindo a transição de testes em pequena escala para produção piloto sem a necessidade de várias unidades menores.

Nosso compromisso com a excelência em engenharia reflete-se nos recursos de segurança e na qualidade de construção deste sistema. Desde as flanges refrigeradas a água que protegem vedações de vácuo delicadas até a carcaça de camada dupla que garante um ambiente de laboratório seguro, cada componente é escolhido por sua durabilidade. Ao selecionar este equipamento, você se beneficia de uma plataforma comprovada, usada pelas principais instituições de pesquisa em todo o mundo para grafitização, CVD e pesquisa de semicondutores.

Além do hardware, oferecemos suporte técnico abrangente e uma gama de opções de personalização para garantir que o forno se integre perfeitamente ao seu fluxo de trabalho existente. Se você precisa de integração avançada com LabVIEW para registro automático de dados ou modificações específicas nas flanges para sistemas exclusivos de fornecimento de gás, nossa equipe de engenharia está pronta para ajudar. Entre em contato conosco hoje para solicitar um orçamento ou para discutir uma solução térmica personalizada adaptada aos requisitos específicos do seu processo.