Forno Rotativo
Forno CVD Rotativo de Duas Zonas com Sistema Automático de Alimentação e Recebimento para Processamento de Pós
Número do item: TU-X04
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Visão Geral do Produto
Este sistema avançado de processamento térmico é projetado para Deposição Química em Fase de Vapor (CVD) de alta precisão e calcinação de materiais em pó. Ao integrar uma arquitetura de aquecimento de duas zonas com um sofisticado mecanismo rotativo, o equipamento garante excepcional uniformidade térmica e agitação constante do material. Esta sinergia é crucial para pesquisadores e fabricantes que desenvolvem materiais de bateria de alto desempenho e compostos inorgânicos, onde a consistência em nível molecular é fundamental para o desempenho eletroquímico. O sistema simplifica a transição do processamento em batelada para o contínuo, reduzindo significativamente a intervenção manual e a contaminação potencial.
Projetado para operação contínua, o sistema apresenta um robusto mecanismo automático de alimentação e recebimento que permite um fluxo de material contínuo e sem exposição à atmosfera. Isso o torna uma solução ideal para sintetizar materiais sensíveis de cátodo e ânodo para baterias de íon-lítio, como compostos de silício-carbono e vários óxidos metálicos. A capacidade da unidade de manter uma atmosfera controlada enquanto rotaciona garante que cada partícula seja exposta a condições térmicas e químicas uniformes, facilitando um crescimento cristalino superior e uma qualidade de revestimento superficial. Este forno representa um salto significativo na produtividade para síntese de materiais em escala laboratorial e piloto.
Construído com componentes de grau industrial, esta unidade oferece a confiabilidade necessária para ciclos intensivos de P&D e demandas industriais exigentes. A combinação de uma montagem giratória selada a vácuo, controladores PID de precisão e um invólucro de dupla camada proporciona um ambiente estável e seguro para receitas térmicas complexas. Seja usado para ciência de materiais acadêmica ou processamento químico industrial, este sistema oferece a repetibilidade e o desempenho necessários para o desenvolvimento tecnológico de ponta, garantindo que os resultados experimentais possam ser confiavelmente escalados para volumes de produção.
Características Principais
- Manuseio Contínuo Automático de Pós: O alimentador compacto integrado é montado por meio de uma montagem giratória selada a vácuo, permitindo o controle preciso da distribuição do material dentro do tubo enquanto mantém a integridade atmosférica.
- Precisão Térmica de Duas Zonas: Duas zonas de aquecimento controladas independentemente (200mm cada) fornecem um perfil de temperatura versátil, permitindo a criação de gradientes térmicos específicos ou uma zona de temperatura constante estendida de 400mm.
- Mecanismo Rotativo Dinâmico: Um motor DC acionado por engrenagens gira o tubo de processamento a velocidades de até 10 RPM, utilizando lâminas de mistura internas para garantir exposição uniforme ao calor e aos gases para cada partícula no lote.
- Configuração de Inclinação Ajustável: Todo o corpo do forno pode ser inclinado de -5° a 20°, fornecendo flexibilidade mecânica para controlar o tempo de trânsito e as características de fluxo do material durante o processamento contínuo.
- Vedacção a Vácuo de Alta Integridade: Equipado com flanges de vedação de aço inoxidável de 60mm e conectores de gás rotativos, o sistema atinge um nível de vácuo de 4,5x10-2 torr, essencial para processos CVD de alta pureza.
- Sistema de Coleta Livre de Ar: O tanque receptor de aço inoxidável de 1 litro possui uma válvula borboleta KF40, permitindo que os usuários coletem e transportem pós processados sem expor materiais sensíveis ao oxigênio ou umidade.
- Isolamento e Resfriamento Avançados: Utilizando isolamento fibroso de alumina de alta pureza e um invólucro de dupla camada com três ventiladores de resfriamento, o sistema maximiza a eficiência energética mantendo as superfícies externas seguras ao toque.
- Resposta Térmica Rápida: O design de tampa divisória não apenas facilita o carregamento e descarregamento fácil do tubo de quartzo, mas também permite taxas de resfriamento mais rápidas para ciclos de teste de alto rendimento.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Benefício-Chave |
|---|---|---|
| Materiais para Baterias de Íon-Lítio | Síntese de materiais catódicos como LiFePO3 e LiMnNiO3 com revestimentos condutores. | Estabilidade eletroquímica e capacidade aprimoradas. |
| Preparação de Material de Ânodo | CVD rotativo contínuo para materiais de ânodo compósitos de silício/carbono (Si/C). | Uniformidade superior de revestimento de partículas e produtividade. |
| Calcinação Inorgânica | Processamento em alta temperatura de compostos inorgânicos e catalisadores industriais. | Homogeneidade química e pureza de fase aprimoradas. |
| Incorporação de Nano-camadas | Síntese escalável de nano-camadas de silício incorporadas em grafite para baterias de alta densidade energética. | Espessura de deposição controlada em escala nanométrica. |
| Metalurgia do Pó | Sinterização e tratamento térmico de pós metálicos sob atmosferas inertes ou redutoras. | Oxidação reduzida e ligação de partículas aprimorada. |
| Cerâmicas Avançadas | Tratamento térmico contínuo de precursores cerâmicos e pós de óxidos especializados. | Tamanho de grão consistente e integridade estrutural. |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | Detalhes da Especificação (Modelo: TU-X04) |
|---|---|
| Tensão de Trabalho | Forno: AC 208-240V, Monofásico (Disjuntor 30A); Alimentador: AC 208-240V |
| Potência de Saída | Forno: 3,5 KW; Alimentador: 200 W |
| Temperatura Máxima | 1150 °C (< 30 min) |
| Temperatura Contínua | 1100 °C |
| Comprimento da Zona de Aquecimento | Duas Zonas: 200 mm cada (Total 400 mm) |
| Zona de Temp. Constante | 200 mm (dentro de +/- 1°C quando as zonas estão igualadas) |
| Tubo de Processamento | Quartzo Fundido, φ100 mm * 3 mm * 1200 mm com 4 Lâminas de Mistura |
| Volume de Tombamento | 3200 ml |
| Velocidade de Rotação | 1 - 10 RPM (Variável) |
| Ângulo de Inclinação do Forno | -5° a 20° |
| Sistema de Alimentação | Tanque de Aço Inoxidável 1L; Taxa Máx. 97 cm³/min (Ajustável) |
| Sistema de Recebimento | Tanque de Aço Inoxidável 1L com Válvula Borboleta KF40 |
| Nível de Vácuo | 4,5 x 10-2 Torr (Taxa de vazamento < 0,1 mtorr/s) |
| Controle de Temperatura | Controladores Digitais PID Duplos; 30 Segmentos Programáveis |
| Termopar | Dois Omega tipo K (3mm OD x 6" L) |
| Conformidade | Certificado CE; NRTL (UL61010) ou CSA disponível sob consulta |
| Flange de Vedação | Flange de Vedação SS 60 mm com válvulas de agulha de conector de gás rotativo |
Por Que Escolher a Nossa Solução
- Projetado para Precisão: Nossa arquitetura de duas zonas e sistema de controle PID oferecem uma precisão térmica incomparável, garantindo que seus delicados processos CVD sejam repetíveis todas as vezes.
- Integridade Superior do Material: O sistema integrado de recebimento livre de ar é projetado especificamente para a próxima geração de materiais de bateria, prevenindo a degradação de pós sensíveis entre o processamento e a análise.
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