Forno Rotativo
Forno de Tubo Rotativo de Três Zonas de 5 Polegadas com Sistema Integrado de Entrega de Gás e Capacidade de 1200°C para Processamento CVD de Materiais Avançados
Número do item: TU-X11
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Visão Geral do Produto


Este sistema de processamento térmico rotativo de alto desempenho foi projetado para aplicações de ciência de materiais avançados que exigem uniformidade térmica excepcional e controle preciso da atmosfera. Projetado como uma ponte crítica entre a pesquisa em escala laboratorial e a produção industrial, o equipamento facilita a síntese e o revestimento de pós de alta pureza sob condições controladas. Seu design rotativo exclusivo e arquitetura de aquecimento multizona garantem que cada partícula do material precursor seja exposta ao mesmo ambiente térmico e químico, tornando-o uma ferramenta indispensável para o desenvolvimento de materiais de bateria de próxima geração, catalisadores e cerâmicas especializadas.
O sistema é otimizado para Deposição Química de Vapor (CVD) e vários processos de tratamento térmico onde a homogeneidade do material é primordial. Ao combinar um mecanismo de inclinação com um tubo de quartzo fundido rotativo, a unidade promove o movimento contínuo da carga de trabalho, evitando a aglomeração e garantindo uma modificação de superfície consistente. Este equipamento é particularmente eficaz para o processamento de pós de ânodo e cátodo, permitindo que os pesquisadores escalem suas descobertas experimentais com alta confiança na repetibilidade de seus resultados. A integração de um sistema sofisticado de entrega de gás aumenta ainda mais sua capacidade de lidar com reações complexas em fase gasosa.
A confiabilidade é central para o design desta unidade térmica. Possui uma construção robusta de parede dupla com ventiladores de resfriamento integrados para manter uma temperatura externa da carcaça baixa durante operações de alta temperatura. Cada componente, desde o isolamento fibroso de alumina de alta pureza até o motor de engrenagem CC de precisão, é selecionado para durabilidade sob ciclos exigentes de P&D industrial. A conformidade com os padrões internacionais de segurança garante que o sistema esteja pronto para implantação imediata em ambientes laboratoriais rigorosos em todo o mundo, fornecendo uma plataforma estável e segura para o processamento de materiais sensíveis.
Principais Características
- Arquitetura Térmica Multizona de Precisão: O sistema emprega três zonas de aquecimento controladas independentemente, abrangendo um comprimento total de 600 mm. Esta configuração permite a criação de gradientes térmicos precisos ou uma zona de temperatura constante estendida de 450 mm, oferecendo uma precisão térmica de ±1°C para síntese de materiais altamente sensíveis.
- Mecanismo Dinâmico de Rotação e Inclinação: Equipado com um motor de engrenagem CC de velocidade variável (0-10 RPM) e uma função de inclinação elétrica manual (até 30°), o sistema garante agitação ideal do material e controle de rendimento. Este movimento dinâmico é essencial para obter revestimentos uniformes em partículas de pó individuais durante processos de CVD e calcinação.
- Entrega de Gás de Quatro Canais Integrada: Um sistema sofisticado de mistura e entrega de gás com interface de tela sensível ao toque digital permite a regulação precisa de até quatro gases precursores ou inertes distintos. Isso permite um controle atmosférico complexo e reações químicas de vários estágios dentro de um único ciclo de processamento.
- Isolamento Térmico Superior: A câmara do forno é revestida com isolamento fibroso de alumina de alta pureza, que proporciona máxima eficiência energética e taxas de aquecimento rápidas, minimizando a perda de calor. Este isolamento de grau técnico garante integridade estrutural a longo prazo e desempenho consistente em temperaturas de até 1200°C.
- Gerenciamento Avançado de Vácuo e Contaminação: Incluído com o sistema está uma bomba de vácuo mecânica de alta resistência combinada com um filtro de exaustão de alta eficiência e uma armadilha fria de vácuo. Esta configuração protege o hardware de vácuo de subprodutos de CVD e evita a contaminação do processo, mantendo uma pressão de câmara tão baixa quanto 10-2 torr.
- Sistemas de Controle de Grau Industrial: Três controladores PID programáveis gerenciam o perfil térmico de cada zona de forma independente. Para um melhor gerenciamento de dados, o sistema pode ser atualizado com controles de tela sensível ao toque e software baseado em LabVIEW para registrar e plotar dados térmicos, garantindo rastreabilidade total para documentação de P&D.
- Engenharia com Foco na Segurança: O forno é construído com uma carcaça de parede dupla e ventiladores de resfriamento para garantir a segurança do operador. Todos os componentes elétricos são reconhecidos pela UL ou Met, e o design do sistema incorpora uma tampa dividida para resfriamento rápido e fácil acesso ao tubo de processamento.
- Configuração Versátil de Tubo: A unidade inclui um tubo de quartzo fundido de 130 mm de diâmetro externo equipado com quatro pás de mistura internas para maximizar a exposição da área de superfície. Flanges de vedação de aço inoxidável com válvulas de agulha e conectores de gás rotativos fornecem uma vedação hermética para aplicações de alto vácuo ou atmosfera controlada.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Revestimento de Material de Bateria | Aplicação de revestimentos de película fina em partículas de pó de ânodo e cátodo (por exemplo, revestimento de carbono em silício). | Melhora a condutividade iônica e a vida útil do ciclo em baterias de íon-lítio. |
| Síntese de Nanotubos de Carbono | Produção em larga escala de CNTs via Deposição Química de Vapor (CVD) em pós catalisadores. | Garante crescimento uniforme e alto rendimento por lote. |
| Calcinação de Cerâmica | Aquecimento de precisão de pós precursores cerâmicos para induzir mudanças de fase ou reações químicas. | Previne a sinterização de partículas e garante a pureza da fase através da rotação constante. |
| Produção de Grafeno | Processamento em atmosfera controlada de pós de grafite para sintetizar grafeno ou óxido de grafeno. | A alta uniformidade térmica resulta em espessura de camada consistente. |
| Preparação de Catalisadores | Ativação térmica e impregnação em fase gasosa de estruturas de suporte de catalisador. | Maximiza a área de superfície ativa através do contato homogêneo gás-sólido. |
| Metalurgia do Pó | Sinterização e redução de pós metálicos em ambientes de hidrogênio ou vácuo. | Obtém estruturas metálicas de alta pureza com tamanho de grão controlado. |
| Incorporação de Nanocamada de Silício | Criação de grafite incorporado com nanocamada de silício para aplicações de bateria de alta energia, conforme citado na literatura de P&D. | Oferece síntese escalável com repetibilidade de grau industrial. |
Especificações Técnicas
| Categoria de Especificação | Parâmetro | Detalhe TU-X11 |
|---|---|---|
| Desempenho de Temperatura | Temperatura Máxima de Operação | 1200°C (< 1 hora) |
| Temperatura de Operação Contínua | 1100°C | |
| Precisão de Temperatura | ± 1°C | |
| Arquitetura de Aquecimento | Configuração da Zona de Aquecimento | Três Zonas: 150mm / 300mm / 150mm (Total 600mm/24") |
| Zona de Temperatura Constante | 450mm (± 2°C) | |
| Controle de Temperatura | 3x Controladores PID Programáveis Independentes | |
| Especificações do Tubo | Material do Tubo de Processamento | Quartzo Fundido (inclui pás de mistura) |
| Dimensões do Tubo | 130mm D.E. x 120mm D.I. x 1600mm C | |
| Velocidade de Rotação | 0 - 10 RPM (Variável) | |
| Ângulo de Inclinação | 0 - 30° | |
| Vácuo e Atmosfera | Sistema de Entrega de Gás | Controlador de Fluxo de Massa de 4 Canais com Tela Sensível ao Toque |
| Nível de Vácuo | 10^-2 torr | |
| Componentes de Vácuo | Bomba Mecânica, Filtro de Exaustão e Armadilha Fria incluídos | |
| Vedação | Flanges SS316 com Válvulas de Agulha e Conectores Rotativos | |
| Construção | Carcaça do Forno | Parede dupla com ventiladores de resfriamento |
| Isolamento | Isolamento fibroso de Alumina de alta pureza | |
| Rendimento de Produção | ~ 2 kg por lote | |
| Elétrica | Requisito de Energia | 4 KW Máx |
| Tensão de Entrada | 208 - 240VAC, Monofásico, 50/60Hz | |
| Conformidade | Certificado CE; NRTL/CSA opcional |
Por que escolher o TU-X11
- Caminho Escalável para a Produção: Este equipamento foi projetado especificamente como um passo intermediário de custo-benefício, permitindo que os pesquisadores façam a transição bem-sucedida de processos de materiais de pequenas amostras laboratoriais para lotes em escala de produção de até 2 kg.
- Homogeneidade Térmica Inigualável: Ao contrário dos fornos de tubo estáticos, o aquecimento de zona tripla combinado com a rotação contínua elimina gradientes térmicos dentro do leito de material, garantindo que cada partícula receba tratamento térmico idêntico.
- Solução CVD Turnkey: Ao integrar o sistema de entrega de gás de 4 canais, bomba de vácuo e armadilha fria em um único pacote, o sistema fornece um ambiente abrangente para deposição química de vapor sofisticada sem a necessidade de componentes adicionais de terceiros.
- Integridade de Material Premium: O uso de quartzo de alta pureza e isolamento de alumina de alta eficiência garante que o ambiente de processamento permaneça livre de contaminação metálica, protegendo a integridade de materiais eletrônicos e de bateria sensíveis.
- Confiabilidade e Suporte Comprovados: Construído para suportar os rigores de P&D industrial, este sistema é apoiado por uma garantia abrangente e uma equipe de suporte técnico dedicada à consistência operacional de longo prazo.
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