Forno de Tubo
Forno de Tubo Vertical Aberto 0-1700°C Sistema Laboratorial de Alta Temperatura para CVD e Tratamento Térmico a Vácuo
Número do item: TU-21
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Visão Geral do Produto



Este equipamento experimental de alta temperatura representa o auge da engenharia térmica, projetado especificamente para pesquisa, desenvolvimento e validação de processos rigorosos de materiais. Ao integrar aquecimento de alta temperatura, controle sofisticado de atmosfera a vácuo e capacidades de processamento térmico rápido, o equipamento funciona como uma plataforma versátil para os ambientes laboratoriais mais exigentes. A estrutura vertical aberta é projetada para máxima acessibilidade e flexibilidade, permitindo que pesquisadores transitem de forma transparente da sinterização básica de materiais para deposição química de vapor (CVD) complexa ou recozimento a vácuo. Construído com robustez industrial, esta unidade oferece a precisão exigida por cientistas de materiais em laboratórios universitários, centros de P&D de semicondutores e fabricação aeroespacial. Reflete um compromisso com a excelência em engenharia, garantindo que cada ciclo térmico seja consistente, repetível e seguro, mesmo quando operado em temperaturas de até 1700℃ em ambientes de alto vácuo ou atmosferas de gás especializadas.
Características Principais
- Arquitetura Vertical Aberta: O corpo do forno é projetado para separação vertical, proporcionando acesso de 180 graus ao tubo de reação para facilitar o carregamento, manutenção e a integração de sensores de monitoramento internos ou módulos de têmpera.
- Aquecimento de Precisão em Tripla Zona: Programação avançada de múltiplos estágios por meio da regulação independente de três zonas de temperatura separadas garante uma ampla região de temperatura constante com compensação térmica otimizada para uniformidade de ±1,5℃.
- Isolamento de Alumina de Alta Pureza: A câmara utiliza fibra policristalina de alumina de alta pureza grau 1700, um material selecionado por sua capacidade calorífica excepcionalmente baixa e resistência superior ao choque térmico, garantindo aquecimento rápido e eficiência energética.
- Elementos de Aquecimento MoSi2 Avançados: Equipado com barras de silício-molibdênio de alta densidade, o sistema de aquecimento é capaz de operação sustentada em temperaturas extremas, com atualizações opcionais disponíveis para ambientes que exigem até 1800℃.
- Sistema Integrado de Resfriamento Rápido: Um sistema de circulação de resfriamento a ar integrado e flanges de resfriamento a água opcionais facilitam uma queda térmica de alta velocidade, permitindo que as amostras passem por tratamento de têmpera em até 10 segundos para estudos de mudança de fase.
- Vedação a Vácuo Sofisticada: O equipamento conta com um sistema duplo de vedação de borracha fluorada tipo O e flanges resfriados a água, atingindo uma taxa de vazamento a vácuo de ≤5×10⁻⁴ Pa-m³/s quando combinado com unidades de bomba molecular de alto desempenho.
- Lógica de Controle PID Inteligente: Utilizando instrumentação premium japonesa Shimaden ou europeia Continental, o sistema suporta programação de 50 segmentos, comunicação RS485 e armazenamento de múltiplos perfis de processo predefinidos.
- Conjunto de Gerenciamento Atmosférico: Um sistema de medidor de vazão mássico de duas vias com válvulas solenoides de alta precisão e reguladores de pressão permite a introdução controlada de gases inertes ou reativos, incluindo hidrogênio.
- Intertravamentos de Segurança Abrangentes: O sistema é protegido por múltiplas camadas de segurança, incluindo desligamento automático por superaquecimento, alarmes de termopar quebrado, monitoramento de pressão de água e válvulas de alívio de pressão de emergência.
- Compatibilidade com Expansão Modular: Projetado para versatilidade, a plataforma suporta módulos externos como plataformas rotativas de amostra, termômetros infravermelhos e analisadores de gás para se adaptar aos requisitos de pesquisa em evolução.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Benefício Principal |
|---|---|---|
| CVD para Semicondutores | Deposição de filmes finos e nanomateriais em substratos de silício ou safira usando precursores de vapor. | O controle preciso de fluxo de gás e temperatura garante espessura uniforme do filme e alta pureza. |
| Cerâmicas Aeroespaciais | Sinterização de alta temperatura e teste de tensão de compósitos de matriz cerâmica (CMCs) e componentes de turbina. | A orientação vertical acomoda peças estruturais longas enquanto mantém estabilidade térmica extrema. |
| P&D de Baterias de Lítio | Calcinação e síntese de materiais de cátodo/ânodo sob atmosferas controladas de nitrogênio ou argônio. | A alta repetibilidade dos ciclos térmicos resulta em dados de desempenho eletroquímico consistentes. |
| Recozimento a Vácuo | Alívio de tensão e refino da estrutura de grão de metais refratários e ligas especiais em ambientes isentos de oxigênio. | Previne oxidação e contaminação, mantendo a integridade metalúrgica da amostra. |
| Têmpera Rápida | Teste das propriedades do material após quedas bruscas de temperatura para simular processos de resfriamento industriais. | Permite o estudo de fases fora do equilíbrio e desenvolvimento de microestrutura em segundos. |
| Iluminação de Estado Sólido | Síntese de fósforos e cristais ópticos que requerem ambientes térmicos de alta pureza. | A câmara de alumina limpa evita a contaminação cruzada de dopantes e garante alto rendimento de luminescência. |
| Crescimento de Nanotubos de Carbono | Crescimento vertical de florestas de CNT e estruturas de grafeno por meio de deposição química de vapor. | Gradientes térmicos otimizados na zona de crescimento proporcionam alinhamento e densidade superiores. |
Especificações Técnicas
| Categoria de Parâmetro | Detalhes da Especificação para TU-21 |
|---|---|
| Temperatura Máxima de Operação | 1700℃ (Elementos de Aquecimento MoSi2); Opcional 1800℃ (Grafito/SiC) |
| Taxa de Aquecimento | Máxima ≤15℃/min; Recomendada ≤10℃/min |
| Taxa de Resfriamento | Máxima ≤10℃/min; Módulo de têmpera atinge queda em ≤10s |
| Uniformidade de Temperatura | ±1.5℃ (Dentro da zona de temperatura constante de 150mm) |
| Controle de Temperatura | Japan Shimaden FP93 / Continental 3504; 50 segmentos; Auto-sintonia PID |
| Material da Câmara do Forno | Fibra policristalina de alumina de alta pureza grau 1700 |
| Tamanho Padrão do Tubo | Tubo de Corindo (Diâmetro Externo Φ60mm × Comprimento 1200mm) |
| Opções de Material do Tubo | Quartzo, Aço Inoxidável ou Tubos Refratários Personalizados (Φ30-100mm) |
| Resistência à Pressão | ≤ 0.1MPa (Vácuo/Pressão Positiva) |
| Desempenho de Vácuo | Bomba Mecânica: 5×10⁻² Pa; Bomba Molecular: 5×10⁻⁴ Pa |
| Interface de Vedação | Borracha Fluorada Tipo O Dupla (classificação 250℃) + Flange KF25 |
| Sistema de Controle de Gás | Medidor de Vazão Mássico de Dupla Via (0-500sccm); Precisão ±1% |
| Configuração de Energia | Suporte a personalização de tensão 220V/380V |
| Projeto Estrutural | Caixa vertical de aço inoxidável de camada dupla com resfriamento de ar integrado |
| Proteção de Segurança | Desligamento por superaquecimento, acoplamento quebrado, alarmes de pressão de água/gás, disjuntor de vazamento |
| Dimensões Externas | Área de ocupação vertical com rodas móveis e pés de ajuste horizontal |
Por Que Escolher Nós
- Confiabilidade Comprovada de Longo Prazo: Construído com componentes de nível industrial e caixa de camada dupla, este forno é projetado para operação contínua em ambientes de pesquisa de alto risco sem degradação de desempenho.
- Precisão Térmica Excepcional: A tecnologia de compensação independente de três zonas fornece um nível de uniformidade e estabilidade de temperatura que é fundamental para o sucesso de processos sensíveis de CVD e sinterização.
- Flexibilidade Modular Inigualável: Se você precisa de alto vácuo, circuitos de gás especializados ou plataformas rotativas de amostra, este sistema é projetado para crescer com suas necessidades de pesquisa por meio de sua interface modular.
- Normas de Segurança Rigorosas: Desde o manuseio de gás hidrogênio até o alívio de alta pressão, o sistema incorpora mecanismos de segurança redundantes para proteger o pessoal do seu laboratório e seus materiais de alto valor.
- Fabricação de Precisão: Cada unidade passa por calibração rigorosa e teste de vazamento a vácuo para garantir que atenda aos nossos padrões exigentes de robustez industrial e excelência técnica.
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