Forno de Tubo Vertical Aberto 0-1700°C Sistema Laboratorial de Alta Temperatura para CVD e Tratamento Térmico a Vácuo

Forno de Tubo

Forno de Tubo Vertical Aberto 0-1700°C Sistema Laboratorial de Alta Temperatura para CVD e Tratamento Térmico a Vácuo

Número do item: TU-21

Temperatura Máxima: 1700°C Uniformidade de Temperatura: ±1,5°C Nível de Vácuo Máximo: 5×10⁻⁴ Pa
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Visão Geral do Produto

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Este equipamento experimental de alta temperatura representa o auge da engenharia térmica, projetado especificamente para pesquisa, desenvolvimento e validação de processos rigorosos de materiais. Ao integrar aquecimento de alta temperatura, controle sofisticado de atmosfera a vácuo e capacidades de processamento térmico rápido, o equipamento funciona como uma plataforma versátil para os ambientes laboratoriais mais exigentes. A estrutura vertical aberta é projetada para máxima acessibilidade e flexibilidade, permitindo que pesquisadores transitem de forma transparente da sinterização básica de materiais para deposição química de vapor (CVD) complexa ou recozimento a vácuo. Construído com robustez industrial, esta unidade oferece a precisão exigida por cientistas de materiais em laboratórios universitários, centros de P&D de semicondutores e fabricação aeroespacial. Reflete um compromisso com a excelência em engenharia, garantindo que cada ciclo térmico seja consistente, repetível e seguro, mesmo quando operado em temperaturas de até 1700℃ em ambientes de alto vácuo ou atmosferas de gás especializadas.

Características Principais

  • Arquitetura Vertical Aberta: O corpo do forno é projetado para separação vertical, proporcionando acesso de 180 graus ao tubo de reação para facilitar o carregamento, manutenção e a integração de sensores de monitoramento internos ou módulos de têmpera.
  • Aquecimento de Precisão em Tripla Zona: Programação avançada de múltiplos estágios por meio da regulação independente de três zonas de temperatura separadas garante uma ampla região de temperatura constante com compensação térmica otimizada para uniformidade de ±1,5℃.
  • Isolamento de Alumina de Alta Pureza: A câmara utiliza fibra policristalina de alumina de alta pureza grau 1700, um material selecionado por sua capacidade calorífica excepcionalmente baixa e resistência superior ao choque térmico, garantindo aquecimento rápido e eficiência energética.
  • Elementos de Aquecimento MoSi2 Avançados: Equipado com barras de silício-molibdênio de alta densidade, o sistema de aquecimento é capaz de operação sustentada em temperaturas extremas, com atualizações opcionais disponíveis para ambientes que exigem até 1800℃.
  • Sistema Integrado de Resfriamento Rápido: Um sistema de circulação de resfriamento a ar integrado e flanges de resfriamento a água opcionais facilitam uma queda térmica de alta velocidade, permitindo que as amostras passem por tratamento de têmpera em até 10 segundos para estudos de mudança de fase.
  • Vedação a Vácuo Sofisticada: O equipamento conta com um sistema duplo de vedação de borracha fluorada tipo O e flanges resfriados a água, atingindo uma taxa de vazamento a vácuo de ≤5×10⁻⁴ Pa-m³/s quando combinado com unidades de bomba molecular de alto desempenho.
  • Lógica de Controle PID Inteligente: Utilizando instrumentação premium japonesa Shimaden ou europeia Continental, o sistema suporta programação de 50 segmentos, comunicação RS485 e armazenamento de múltiplos perfis de processo predefinidos.
  • Conjunto de Gerenciamento Atmosférico: Um sistema de medidor de vazão mássico de duas vias com válvulas solenoides de alta precisão e reguladores de pressão permite a introdução controlada de gases inertes ou reativos, incluindo hidrogênio.
  • Intertravamentos de Segurança Abrangentes: O sistema é protegido por múltiplas camadas de segurança, incluindo desligamento automático por superaquecimento, alarmes de termopar quebrado, monitoramento de pressão de água e válvulas de alívio de pressão de emergência.
  • Compatibilidade com Expansão Modular: Projetado para versatilidade, a plataforma suporta módulos externos como plataformas rotativas de amostra, termômetros infravermelhos e analisadores de gás para se adaptar aos requisitos de pesquisa em evolução.

Aplicações

Aplicação Descrição Benefício Principal
CVD para Semicondutores Deposição de filmes finos e nanomateriais em substratos de silício ou safira usando precursores de vapor. O controle preciso de fluxo de gás e temperatura garante espessura uniforme do filme e alta pureza.
Cerâmicas Aeroespaciais Sinterização de alta temperatura e teste de tensão de compósitos de matriz cerâmica (CMCs) e componentes de turbina. A orientação vertical acomoda peças estruturais longas enquanto mantém estabilidade térmica extrema.
P&D de Baterias de Lítio Calcinação e síntese de materiais de cátodo/ânodo sob atmosferas controladas de nitrogênio ou argônio. A alta repetibilidade dos ciclos térmicos resulta em dados de desempenho eletroquímico consistentes.
Recozimento a Vácuo Alívio de tensão e refino da estrutura de grão de metais refratários e ligas especiais em ambientes isentos de oxigênio. Previne oxidação e contaminação, mantendo a integridade metalúrgica da amostra.
Têmpera Rápida Teste das propriedades do material após quedas bruscas de temperatura para simular processos de resfriamento industriais. Permite o estudo de fases fora do equilíbrio e desenvolvimento de microestrutura em segundos.
Iluminação de Estado Sólido Síntese de fósforos e cristais ópticos que requerem ambientes térmicos de alta pureza. A câmara de alumina limpa evita a contaminação cruzada de dopantes e garante alto rendimento de luminescência.
Crescimento de Nanotubos de Carbono Crescimento vertical de florestas de CNT e estruturas de grafeno por meio de deposição química de vapor. Gradientes térmicos otimizados na zona de crescimento proporcionam alinhamento e densidade superiores.

Especificações Técnicas

Categoria de Parâmetro Detalhes da Especificação para TU-21
Temperatura Máxima de Operação 1700℃ (Elementos de Aquecimento MoSi2); Opcional 1800℃ (Grafito/SiC)
Taxa de Aquecimento Máxima ≤15℃/min; Recomendada ≤10℃/min
Taxa de Resfriamento Máxima ≤10℃/min; Módulo de têmpera atinge queda em ≤10s
Uniformidade de Temperatura ±1.5℃ (Dentro da zona de temperatura constante de 150mm)
Controle de Temperatura Japan Shimaden FP93 / Continental 3504; 50 segmentos; Auto-sintonia PID
Material da Câmara do Forno Fibra policristalina de alumina de alta pureza grau 1700
Tamanho Padrão do Tubo Tubo de Corindo (Diâmetro Externo Φ60mm × Comprimento 1200mm)
Opções de Material do Tubo Quartzo, Aço Inoxidável ou Tubos Refratários Personalizados (Φ30-100mm)
Resistência à Pressão ≤ 0.1MPa (Vácuo/Pressão Positiva)
Desempenho de Vácuo Bomba Mecânica: 5×10⁻² Pa; Bomba Molecular: 5×10⁻⁴ Pa
Interface de Vedação Borracha Fluorada Tipo O Dupla (classificação 250℃) + Flange KF25
Sistema de Controle de Gás Medidor de Vazão Mássico de Dupla Via (0-500sccm); Precisão ±1%
Configuração de Energia Suporte a personalização de tensão 220V/380V
Projeto Estrutural Caixa vertical de aço inoxidável de camada dupla com resfriamento de ar integrado
Proteção de Segurança Desligamento por superaquecimento, acoplamento quebrado, alarmes de pressão de água/gás, disjuntor de vazamento
Dimensões Externas Área de ocupação vertical com rodas móveis e pés de ajuste horizontal

Por Que Escolher Nós

  • Confiabilidade Comprovada de Longo Prazo: Construído com componentes de nível industrial e caixa de camada dupla, este forno é projetado para operação contínua em ambientes de pesquisa de alto risco sem degradação de desempenho.
  • Precisão Térmica Excepcional: A tecnologia de compensação independente de três zonas fornece um nível de uniformidade e estabilidade de temperatura que é fundamental para o sucesso de processos sensíveis de CVD e sinterização.
  • Flexibilidade Modular Inigualável: Se você precisa de alto vácuo, circuitos de gás especializados ou plataformas rotativas de amostra, este sistema é projetado para crescer com suas necessidades de pesquisa por meio de sua interface modular.
  • Normas de Segurança Rigorosas: Desde o manuseio de gás hidrogênio até o alívio de alta pressão, o sistema incorpora mecanismos de segurança redundantes para proteger o pessoal do seu laboratório e seus materiais de alto valor.
  • Fabricação de Precisão: Cada unidade passa por calibração rigorosa e teste de vazamento a vácuo para garantir que atenda aos nossos padrões exigentes de robustez industrial e excelência técnica.

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