Forno de Carregamento Inferior com Controle de Atmosfera para Processamento Térmico Rápido (RTP) 1100°C com Alto Rendimento e Taxa de Aquecimento de 50°C por Segundo

Forno de Atmosfera

Forno de Carregamento Inferior com Controle de Atmosfera para Processamento Térmico Rápido (RTP) 1100°C com Alto Rendimento e Taxa de Aquecimento de 50°C por Segundo

Número do item: TU-DZ11

Taxa Máxima de Aquecimento: 50°C/s Faixa de Temperatura: Máximo de 1100°C (1000°C em operação contínua) Capacidade de Wafer: Até 6 polegadas de diâmetro
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Este sistema de processamento térmico rápido (RTP) representa o auge da tecnologia de tratamento térmico de alta velocidade, projetado especificamente para pesquisa em ciência de materiais avançada e semicondutores. Ao utilizar aquecimento por infravermelho de curto onda de alta intensidade, o equipamento atinge taxas de aquecimento excepcionais de até 50°C/s, permitindo controle preciso sobre orçamentos térmicos e transições de fase. Esta unidade é projetada como um sistema de carregamento inferior, que aumenta significativamente a segurança no manuseio de amostras e permite integração perfeita com fluxos de trabalho robóticos automatizados em ambientes modernos de laboratório de alto rendimento.

Os principais casos de uso deste equipamento incluem a preparação de catalisadores de átomo único, recozimento rápido de wafers de silício ou semicondutores compostos de até 6 polegadas e processos complexos de sinterização onde as taxas de resfriamento e aquecimento são críticas para as propriedades do material. A capacidade do sistema de operar sob atmosferas estritamente controladas ou condições de alto vácuo o torna indispensável para pesquisadores em nanotecnologia, armazenamento de energia e componentes eletrônicos. Seu design robusto garante que ele possa suportar o estresse térmico repetitivo associado ao ciclo rápido sem comprometer a integridade estrutural ou a repetibilidade do processo.

Compradores industriais e acadêmicos podem confiar neste sistema para desempenho consistente sob condições exigentes de P&D. A combinação de controle PID preciso, contenção de quartzo de alta pureza e software avançado de registro de dados fornece uma base confiável para escalar experimentos de laboratório para produção piloto industrial. A versatilidade do equipamento no gerenciamento de atmosfera — variando de microposição de pressão a alto vácuo — garante que ele atenda aos padrões rigorosos exigidos para processos sensíveis de deposição química de vapor e recozimento.

Principais Características

  • Aquecimento Ultrarrápido por Infravermelho de Curto Onda: Equipado com 12 lâmpadas de infravermelho de curto onda de alta potência, este sistema atinge uma taxa máxima de aquecimento de 50°C/s. Isso permite que os pesquisadores minimizem a difusão indesejada e maximizem o rendimento para processos térmicos sensíveis ao tempo.
  • Mecanismo Automatizado de Carregamento Inferior: O sistema de carregamento vertical preciso de amostras garante colocação estável e permite a vedação automatizada da câmara do forno. Esta configuração é ideal para amostras delicadas e facilita a integração com braços robóticos externos para operação 24 horas por dia, 7 dias por semana.
  • Controle Avançado de Atmosfera e Vácuo: O sistema integrado conta com um vacuômetro de resistência de alta precisão e suporte para controle de microposição de pressão (103.000–120.000 Pa). Isso garante um ambiente estável e livre de contaminantes para reações químicas sensíveis e síntese de materiais.
  • Escalabilidade de Múltiplas Unidades e Controle por PC: O software proprietário suporta o controle simultâneo de várias unidades de forno a partir de uma única estação de trabalho. Esta capacidade permite a implantação de clusters de forno que podem ser sincronizados com a colocação robótica de amostras para campanhas massivas de sinterização de alto rendimento.
  • Gerenciamento Térmico PID de Precisão: Um controlador de temperatura programável inteligente de 50 segmentos mantém precisão de ±1°C. Para requisitos de precisão extremos, uma atualização opcional para um controlador Eurotherm fornece estabilidade de ±0,1°C, garantindo repetibilidade perfeita entre lotes.
  • Construção Robusta de Câmara de Dupla Camada: O forno utiliza uma carcaça de aço inoxidável de dupla camada com resfriamento a ar integrado. Esta escolha de engenharia mantém temperaturas externas baixas para a segurança do operador e aumenta a longevidade dos componentes eletrônicos internos e dos elementos de aquecimento.
  • Isolamento de Fibra de Alumina de Alta Pureza: A fibra de alumina de alta densidade fornece isolamento térmico superior e eficiência energética. Esta escolha de material garante tempos de resposta rápidos, minimizando a massa térmica do revestimento do forno.
  • Controle Integrado de Fluxo de Massa (MFC): O sistema inclui MFCs integrados com faixa de 0 a 5000 sccm, permitindo fornecimento preciso de gás durante o tratamento atmosférico e garantindo estequiometria consistente nos materiais processados.
  • Aquisição de Dados Abrangente: O pacote de software incluso registra todos os parâmetros críticos, incluindo perfis de temperatura, níveis de vácuo e taxas de fluxo de gás. Estes dados podem ser exportados e carregados por meio de interfaces de comunicação padrão para rastreabilidade completa do processo.

Aplicações

Aplicação Descrição Benefício Principal
Recozimento de Wafer de Semicondutor Recozimento térmico rápido de wafers de silício, GaAs ou SiC de até 6 polegadas de diâmetro. Minimiza a difusão de dopantes e o orçamento térmico, ao mesmo tempo que melhora a estrutura cristalina.
Catálise de Átomo Único Síntese e tratamento precisos de materiais catalisadores em patamares de temperatura específicos. Fornece a resposta térmica de alta velocidade necessária para congelar estados cinéticos em materiais catalíticos.
Sinterização de Alto Rendimento Sinterização automatizada de amostras cerâmicas ou metálicas usando integração robótica para operação contínua. Reduz drasticamente os custos de mão de obra e aumenta o volume de amostras para P&D industrial.
Oxidação Térmica Rápida (RTO) Formação de camadas finas de óxido em superfícies de substrato sob concentrações controladas de oxigênio. Garante camadas dielétricas uniformes e de alta qualidade com controle de espessura subnanométrico.
Cristalização de Filme Fino Aquecimento rápido de filmes finos depositados para promover o crescimento de grãos e melhorar a condutividade. Evita a degradação do substrato, limitando a duração da exposição a altas temperaturas.
Síntese de Nanotubos de Carbono Processos CVD em atmosfera controlada para o crescimento de estruturas de nanotubos e grafeno. O controle preciso de fluxo e as taxas de resfriamento rápidas permitem controle rigoroso sobre a morfologia da nanoestrutura.

Especificações Técnicas

Sistema Principal: TU-DZ11

Parâmetro Especificações
Fonte de Alimentação CA trifásica 208V, 50/60Hz
Potência Máxima 18 kW
Temperatura Máxima de Operação 1100℃ (≤ 30 minutos)
Temperatura de Operação de Longo Prazo 1000℃
Elementos de Aquecimento 12 lâmpadas de infravermelho de curto onda (1,5 kW por lâmpada)
Zona de Aquecimento Φ210mm × 100mm
Taxa de Aquecimento Recomendada 10℃/s; Máxima 50℃/s
Taxa de Resfriamento (Vedado) 800℃ a 350℃: 55℃/min; 350℃ a 200℃: 5℃/min
Taxa de Resfriamento (Aberto) 800℃ a 350℃: 200℃/min; 350℃ a 50℃: 35℃/min
Precisão do Controle de Temperatura ±1℃ (Atualização opcional Eurotherm para ±0,1℃)
Controle do Sistema de Vácuo Vacuômetro de resistência integrado; controle de 103.000–120.000 Pa
Controle de Fluxo de Gás MFC integrado (0-5000sccm)
Material do Tubo Quartzo de Alta Pureza Φ200mm
Plataforma de Amostra Diâmetro 105mm com recesso de 76×58mm (personalizável)
Sistema de Flange Flanges de vedação de aço inoxidável resfriados a água com porta de vácuo KF25

Assistência Robótica Opcional

Característica Dados do Braço Robótico
Carga Nominal 5 kg
Raio de Trabalho 900 mm
Alcance Máximo do Braço 1096 mm
Precisão de Repetibilidade ±0,02 mm
Comunicação TCP/IP, Modbus, Rede Sem Fio
Peso 25 kg

Resfriador de Água e Vácuo Opcionais

Unidade Dados de Desempenho
Resfriador (KJ6500) Capacidade de resfriamento de 51880 BTU/h; potência do compressor de 4,6kW-5,12kW
Bomba Mecânica Nível de vácuo de até 10⁻² Torr
Bomba Molecular Nível de vácuo de até 10⁻⁴ Torr
Bomba de Palhetas Rotativas Certificada NRTL, 240 L/m para serviço pesado com filtro de exaustão

Por Que Escolher a Nós

  • Velocidade Térmica Inigualável: A taxa de aquecimento de 50°C/s desta unidade permite a exploração de fases de materiais inacessíveis com fornos resistivos padrão, proporcionando uma vantagem competitiva significativa na pesquisa.
  • Pronto para a Indústria 4.0: Com suporte nativo para integração robótica, controle de múltiplas unidades por PC e loops de software de código aberto, este sistema faz a transição perfeita do uso manual em laboratório para ciclos de produção totalmente autônomos de 24 horas.
  • Engenharia e Vedação de Precisão: Os flanges resfriados a água de aço inoxidável de alta especificação e a regulação inteligente de pressão garantem os mais altos níveis de pureza da atmosfera, protegendo amostras sensíveis contra oxidação ou contaminação.
  • Infraestrutura de Pesquisa Escalonável: A capacidade de operar várias unidades por meio de uma única interface torna este equipamento a escolha ideal para expandir instalações de pesquisa que exigem resultados consistentes e reproduzíveis em várias linhas de processamento.
  • Qualidade de Construção Excepcional: Desde o isolamento de fibra de alumina de alta pureza até a regulação de potência do retificador controlado por silício (SCR), cada componente é selecionado para durabilidade a longo prazo e consistência operacional em ambientes de alta intensidade.

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