Forno de Atmosfera
Forno de Carregamento Inferior com Controle de Atmosfera para Processamento Térmico Rápido (RTP) 1100°C com Alto Rendimento e Taxa de Aquecimento de 50°C por Segundo
Número do item: TU-DZ11
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Visão Geral do Produto


Este sistema de processamento térmico rápido (RTP) representa o auge da tecnologia de tratamento térmico de alta velocidade, projetado especificamente para pesquisa em ciência de materiais avançada e semicondutores. Ao utilizar aquecimento por infravermelho de curto onda de alta intensidade, o equipamento atinge taxas de aquecimento excepcionais de até 50°C/s, permitindo controle preciso sobre orçamentos térmicos e transições de fase. Esta unidade é projetada como um sistema de carregamento inferior, que aumenta significativamente a segurança no manuseio de amostras e permite integração perfeita com fluxos de trabalho robóticos automatizados em ambientes modernos de laboratório de alto rendimento.
Os principais casos de uso deste equipamento incluem a preparação de catalisadores de átomo único, recozimento rápido de wafers de silício ou semicondutores compostos de até 6 polegadas e processos complexos de sinterização onde as taxas de resfriamento e aquecimento são críticas para as propriedades do material. A capacidade do sistema de operar sob atmosferas estritamente controladas ou condições de alto vácuo o torna indispensável para pesquisadores em nanotecnologia, armazenamento de energia e componentes eletrônicos. Seu design robusto garante que ele possa suportar o estresse térmico repetitivo associado ao ciclo rápido sem comprometer a integridade estrutural ou a repetibilidade do processo.
Compradores industriais e acadêmicos podem confiar neste sistema para desempenho consistente sob condições exigentes de P&D. A combinação de controle PID preciso, contenção de quartzo de alta pureza e software avançado de registro de dados fornece uma base confiável para escalar experimentos de laboratório para produção piloto industrial. A versatilidade do equipamento no gerenciamento de atmosfera — variando de microposição de pressão a alto vácuo — garante que ele atenda aos padrões rigorosos exigidos para processos sensíveis de deposição química de vapor e recozimento.
Principais Características
- Aquecimento Ultrarrápido por Infravermelho de Curto Onda: Equipado com 12 lâmpadas de infravermelho de curto onda de alta potência, este sistema atinge uma taxa máxima de aquecimento de 50°C/s. Isso permite que os pesquisadores minimizem a difusão indesejada e maximizem o rendimento para processos térmicos sensíveis ao tempo.
- Mecanismo Automatizado de Carregamento Inferior: O sistema de carregamento vertical preciso de amostras garante colocação estável e permite a vedação automatizada da câmara do forno. Esta configuração é ideal para amostras delicadas e facilita a integração com braços robóticos externos para operação 24 horas por dia, 7 dias por semana.
- Controle Avançado de Atmosfera e Vácuo: O sistema integrado conta com um vacuômetro de resistência de alta precisão e suporte para controle de microposição de pressão (103.000–120.000 Pa). Isso garante um ambiente estável e livre de contaminantes para reações químicas sensíveis e síntese de materiais.
- Escalabilidade de Múltiplas Unidades e Controle por PC: O software proprietário suporta o controle simultâneo de várias unidades de forno a partir de uma única estação de trabalho. Esta capacidade permite a implantação de clusters de forno que podem ser sincronizados com a colocação robótica de amostras para campanhas massivas de sinterização de alto rendimento.
- Gerenciamento Térmico PID de Precisão: Um controlador de temperatura programável inteligente de 50 segmentos mantém precisão de ±1°C. Para requisitos de precisão extremos, uma atualização opcional para um controlador Eurotherm fornece estabilidade de ±0,1°C, garantindo repetibilidade perfeita entre lotes.
- Construção Robusta de Câmara de Dupla Camada: O forno utiliza uma carcaça de aço inoxidável de dupla camada com resfriamento a ar integrado. Esta escolha de engenharia mantém temperaturas externas baixas para a segurança do operador e aumenta a longevidade dos componentes eletrônicos internos e dos elementos de aquecimento.
- Isolamento de Fibra de Alumina de Alta Pureza: A fibra de alumina de alta densidade fornece isolamento térmico superior e eficiência energética. Esta escolha de material garante tempos de resposta rápidos, minimizando a massa térmica do revestimento do forno.
- Controle Integrado de Fluxo de Massa (MFC): O sistema inclui MFCs integrados com faixa de 0 a 5000 sccm, permitindo fornecimento preciso de gás durante o tratamento atmosférico e garantindo estequiometria consistente nos materiais processados.
- Aquisição de Dados Abrangente: O pacote de software incluso registra todos os parâmetros críticos, incluindo perfis de temperatura, níveis de vácuo e taxas de fluxo de gás. Estes dados podem ser exportados e carregados por meio de interfaces de comunicação padrão para rastreabilidade completa do processo.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Benefício Principal |
|---|---|---|
| Recozimento de Wafer de Semicondutor | Recozimento térmico rápido de wafers de silício, GaAs ou SiC de até 6 polegadas de diâmetro. | Minimiza a difusão de dopantes e o orçamento térmico, ao mesmo tempo que melhora a estrutura cristalina. |
| Catálise de Átomo Único | Síntese e tratamento precisos de materiais catalisadores em patamares de temperatura específicos. | Fornece a resposta térmica de alta velocidade necessária para congelar estados cinéticos em materiais catalíticos. |
| Sinterização de Alto Rendimento | Sinterização automatizada de amostras cerâmicas ou metálicas usando integração robótica para operação contínua. | Reduz drasticamente os custos de mão de obra e aumenta o volume de amostras para P&D industrial. |
| Oxidação Térmica Rápida (RTO) | Formação de camadas finas de óxido em superfícies de substrato sob concentrações controladas de oxigênio. | Garante camadas dielétricas uniformes e de alta qualidade com controle de espessura subnanométrico. |
| Cristalização de Filme Fino | Aquecimento rápido de filmes finos depositados para promover o crescimento de grãos e melhorar a condutividade. | Evita a degradação do substrato, limitando a duração da exposição a altas temperaturas. |
| Síntese de Nanotubos de Carbono | Processos CVD em atmosfera controlada para o crescimento de estruturas de nanotubos e grafeno. | O controle preciso de fluxo e as taxas de resfriamento rápidas permitem controle rigoroso sobre a morfologia da nanoestrutura. |
Especificações Técnicas
Sistema Principal: TU-DZ11
| Parâmetro | Especificações |
|---|---|
| Fonte de Alimentação | CA trifásica 208V, 50/60Hz |
| Potência Máxima | 18 kW |
| Temperatura Máxima de Operação | 1100℃ (≤ 30 minutos) |
| Temperatura de Operação de Longo Prazo | 1000℃ |
| Elementos de Aquecimento | 12 lâmpadas de infravermelho de curto onda (1,5 kW por lâmpada) |
| Zona de Aquecimento | Φ210mm × 100mm |
| Taxa de Aquecimento | Recomendada 10℃/s; Máxima 50℃/s |
| Taxa de Resfriamento (Vedado) | 800℃ a 350℃: 55℃/min; 350℃ a 200℃: 5℃/min |
| Taxa de Resfriamento (Aberto) | 800℃ a 350℃: 200℃/min; 350℃ a 50℃: 35℃/min |
| Precisão do Controle de Temperatura | ±1℃ (Atualização opcional Eurotherm para ±0,1℃) |
| Controle do Sistema de Vácuo | Vacuômetro de resistência integrado; controle de 103.000–120.000 Pa |
| Controle de Fluxo de Gás | MFC integrado (0-5000sccm) |
| Material do Tubo | Quartzo de Alta Pureza Φ200mm |
| Plataforma de Amostra | Diâmetro 105mm com recesso de 76×58mm (personalizável) |
| Sistema de Flange | Flanges de vedação de aço inoxidável resfriados a água com porta de vácuo KF25 |
Assistência Robótica Opcional
| Característica | Dados do Braço Robótico |
|---|---|
| Carga Nominal | 5 kg |
| Raio de Trabalho | 900 mm |
| Alcance Máximo do Braço | 1096 mm |
| Precisão de Repetibilidade | ±0,02 mm |
| Comunicação | TCP/IP, Modbus, Rede Sem Fio |
| Peso | 25 kg |
Resfriador de Água e Vácuo Opcionais
| Unidade | Dados de Desempenho |
|---|---|
| Resfriador (KJ6500) | Capacidade de resfriamento de 51880 BTU/h; potência do compressor de 4,6kW-5,12kW |
| Bomba Mecânica | Nível de vácuo de até 10⁻² Torr |
| Bomba Molecular | Nível de vácuo de até 10⁻⁴ Torr |
| Bomba de Palhetas Rotativas | Certificada NRTL, 240 L/m para serviço pesado com filtro de exaustão |
Por Que Escolher a Nós
- Velocidade Térmica Inigualável: A taxa de aquecimento de 50°C/s desta unidade permite a exploração de fases de materiais inacessíveis com fornos resistivos padrão, proporcionando uma vantagem competitiva significativa na pesquisa.
- Pronto para a Indústria 4.0: Com suporte nativo para integração robótica, controle de múltiplas unidades por PC e loops de software de código aberto, este sistema faz a transição perfeita do uso manual em laboratório para ciclos de produção totalmente autônomos de 24 horas.
- Engenharia e Vedação de Precisão: Os flanges resfriados a água de aço inoxidável de alta especificação e a regulação inteligente de pressão garantem os mais altos níveis de pureza da atmosfera, protegendo amostras sensíveis contra oxidação ou contaminação.
- Infraestrutura de Pesquisa Escalonável: A capacidade de operar várias unidades por meio de uma única interface torna este equipamento a escolha ideal para expandir instalações de pesquisa que exigem resultados consistentes e reproduzíveis em várias linhas de processamento.
- Qualidade de Construção Excepcional: Desde o isolamento de fibra de alumina de alta pureza até a regulação de potência do retificador controlado por silício (SCR), cada componente é selecionado para durabilidade a longo prazo e consistência operacional em ambientes de alta intensidade.
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