Forno a Vácuo
Forno a Vácuo Vertical 1100°C de Alta Temperatura com Câmara de Quartzo de 8 Polegadas e Sistema de Flange Resfriado a Água
Número do item: TU-QF02
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Visão Geral do Produto
Este sistema selado a vácuo vertical de alta temperatura representa o auge do processamento térmico para ciência dos materiais e pesquisa de semicondutores. Projetada para facilitar processos precisos de recozimento e calcinação, esta unidade apresenta uma orientação vertical especializada que otimiza o espaço enquanto fornece um ambiente térmico uniforme para substratos maiores. O equipamento é construído em torno de uma câmara de quartzo resistente, capaz de atingir temperaturas operacionais de até 1100°C sob pressão ambiente, tornando-o uma ferramenta essencial para laboratórios focados no desenvolvimento de materiais de alta pureza e componentes eletrônicos avançados.
O sistema foi projetado especificamente para acomodar wafers semicondutores de até 8 polegadas de diâmetro, oferecendo uma plataforma versátil tanto para processamento em ambiente de vácuo quanto para experimentos em atmosfera de gás controlada. Ao integrar um flange de vedação de aço inoxidável sofisticado com resfriamento a água integrado, o sistema mantém a integridade estrutural e a longevidade da vedação mesmo durante ciclos prolongados de calor intenso. Este equipamento é a escolha preferida para centros de P&D industrial e instituições acadêmicas que exigem uma solução de processamento térmico confiável, repetível e de alta capacidade para substratos delicados.
Construída para confiabilidade sob condições industriais exigentes, esta unidade de processamento térmico utiliza fio de resistência de alta qualidade e materiais refratários avançados para garantir um desempenho consistente. Cada componente, desde o controlador digital certificado pela NRTL até o mecanismo de vedação com anel de vedação (O-ring) de silicone duplo, é selecionado para proporcionar às equipes de compras e engenheiros líderes confiança na estabilidade operacional de longo prazo do sistema. Esta unidade oferece a robustez necessária para ambientes de pesquisa 24/7, onde a precisão e o tempo de atividade são métricas críticas para o sucesso.
Principais Características
- Câmara de Quartzo de Alta Capacidade: O sistema possui um tubo de quartzo GE214 de grande diâmetro com 8 polegadas de diâmetro externo, dimensionado especificamente para processar wafers semicondutores e amostras de materiais em grandes lotes com clareza e pureza inigualáveis.
- Flange de Vedação Avançado com Resfriamento a Água: Uma jaqueta de resfriamento a água integrada protege o conjunto de vedação a vácuo da degradação térmica, permitindo que o flange de aço inoxidável mantenha uma vedação hermética em temperaturas superiores a 1100°C sem derreter os anéis de vedação de silicone.
- Controle de Temperatura PID de Precisão: O controlador digital certificado pela NRTL oferece 30 segmentos programáveis para rampas, resfriamento e permanência, garantindo uma precisão de ±1°C para perfis térmicos sensíveis necessários na fabricação de semicondutores.
- Desempenho de Vácuo Superior: Projetada para funcionar perfeitamente com estações de bombeamento de alto vácuo, esta unidade pode atingir níveis de vácuo de até 10^-5 Torr ao utilizar uma turbobomba, essencial para tarefas de calcinação e recozimento sensíveis ao oxigênio.
- Design Robusto do Elemento de Aquecimento: Utilizando fio de resistência Ni-Cr-Al de alta qualidade, o sistema oferece taxas de aquecimento rápidas de até 20°C por minuto, mantendo excelente durabilidade em ciclos térmicos repetitivos.
- Segurança e Alarmes Integrados: O equipamento inclui alarmes integrados de sobretemperatura e falha de termopar, fornecendo proteção automatizada tanto para o forno quanto para os materiais valiosos que estão sendo processados em seu interior.
- Gerenciamento Flexível de Atmosfera: Equipado com válvulas de agulha de alta precisão e múltiplas portas de entrada/saída de gás, o sistema permite a introdução precisa de gases inertes ou reativos durante o processo de aquecimento.
- Opções de Monitoramento Escaláveis: A unidade inclui um medidor de vácuo mecânico como padrão, com opções para medidores de vácuo digitais independentes de gás e portas de comunicação para PC para registro de dados em tempo real e monitoramento remoto.
- Capacidade de Carga Pesada: Projetada para suportar até 40 kg de peso de material, a arquitetura da câmara vertical é reforçada para lidar com cargas de amostras de nível industrial sem comprometer a integridade estrutural.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Recozimento de Wafer Semicondutor | Processamento de wafers de até 8 polegadas para reparar danos na rede cristalina após a implantação iônica. | O controle preciso de ±1°C garante características elétricas uniformes em toda a superfície do wafer. |
| Calcinação de Materiais Aeroespaciais | Oxidação e calcinação em alta temperatura de compósitos de matriz cerâmica sob vácuo. | Mantém alta pureza através de ambientes livres de oxigênio, evitando a contaminação de ligas críticas. |
| Pesquisa de Deposição de Películas Finas | Preparação de substratos e tratamento térmico pós-deposição para células solares avançadas. | A câmara de 190 mm de diâmetro interno acomoda vários substratos simultaneamente para testes de alto rendimento. |
| P&D de Baterias de Estado Sólido | Sinterização de eletrólitos cerâmicos e materiais anódicos em atmosferas de gás controladas. | Sistemas confiáveis de entrada/saída de gás permitem o controle exato da composição química durante a sinterização. |
| Envelhecimento de Componentes Eletrônicos | Testes de estresse de sensores e módulos eletrônicos de alta potência sob condições térmicas extremas. | A orientação vertical permite configurações especializadas de gabaritos e dispositivos que minimizam a deformação dos componentes. |
| Desgaseificação a Vácuo | Remoção de gases aprisionados de vidros especiais ou pós metálicos antes da fundição. | A capacidade de alto vácuo (10^-5 Torr) garante a remoção completa de voláteis para uma densidade de material superior. |
Especificações Técnicas
| Especificação | Detalhes para TU-QF02 |
|---|---|
| Tensão | Monofásico 208 - 240 VAC / 50/60Hz |
| Potência Máxima | 3 KW (disjuntor de 25 A instalado) |
| Temperatura Máx. de Trabalho (Ambiente) | < 1100°C |
| Temperatura Máx. de Trabalho (Vácuo) | < 1000°C |
| Temperatura Máx. Opcional | 1150°C (com tubo de quartzo GE214 atualizado) |
| Taxa de Aquecimento | Recomendado: 10°C/ min; Máx: < 20°C/ min |
| Elementos de Aquecimento | Fio de resistência Ni-Cr-Al |
| Dimensões do Tubo de Quartzo | Ø200 × Ø190 × A425 mm |
| Capacidade Máxima de Carga | 40 Kg |
| Área de Aquecimento Efetiva | Ø240 × A245 mm |
| Conjunto de Flange | Aço inoxidável com anéis de vedação de silicone de alta temperatura duplos e jaqueta de resfriamento a água |
| Gerenciamento de Gás | Uma entrada de gás de 1/4" e uma saída com válvulas de agulha |
| Porta de Vácuo | Porta KF25 integrada para conexão de bomba |
| Nível de Vácuo (Bomba Mecânica) | 10^-2 Torr em 30 minutos (sem bloco térmico) |
| Nível de Vácuo (Turbobomba) | 10^-5 Torr em 30 minutos (a 900°C com Bloco Térmico de Quartzo) |
| Controlador de Temperatura | Controlador digital PID de 30 segmentos, certificado pela NRTL |
| Precisão de Temperatura | ± 1 ºC (Padrão); ± 0,1 ºC (Opção Eurotherm) |
| Medidor de Vácuo | Medidor mecânico (-0,1 a 0,15 Mpa); Medidor de pressão digital opcional |
| Conformidade com Normas | Certificado CE (NRTL/CSA disponível mediante solicitação) |
| Requisito de Resfriamento | Fluxo de água de 16 L/min para proteção do flange |
| Comunicação | Porta de comunicação para PC DB9 padrão incluída |
Por que escolher o TU-QF02
- Engenharia de Precisão para Escala: Ao contrário dos fornos laboratoriais padrão, este sistema oferece uma zona de processamento massiva de 8 polegadas de diâmetro, permitindo a transição direta de P&D de pequenas amostras para produção em escala piloto sem alterar os parâmetros térmicos.
- Gerenciamento Térmico Superior: A integração de um sistema de flange resfriado a água garante que, mesmo em temperaturas máximas, a integridade da vedação permaneça inalterada, prolongando a vida útil dos consumíveis e reduzindo significativamente os custos de manutenção.
- Arquitetura de Vácuo Adaptável: Se você precisa de níveis básicos de vácuo mecânico ou ambientes de ultra-alto vácuo via turbobombas moleculares, a interface KF25 flexível e as válvulas de aço inoxidável de alta qualidade do sistema atendem às suas necessidades específicas de processo.
- Segurança e Confiabilidade Certificadas: Com controladores certificados pela NRTL e conformidade CE, este equipamento atende aos rigorosos padrões de segurança e qualidade exigidos pela fabricação industrial moderna e instalações de pesquisa de alto nível.
- Opções de Controle Personalizáveis: Desde controladores de alta precisão Eurotherm até estações digitais de mistura de gases, fornecemos a modularidade de hardware necessária para adaptar o sistema a protocolos especializados de processamento de materiais.
Nossa equipe técnica está pronta para ajudá-lo com uma configuração personalizada ou uma cotação formal para sua instalação. Entre em contato conosco agora para discutir como este sistema de vácuo vertical pode aprimorar suas capacidades de processamento térmico.
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