Forno de Prensagem a Quente a Vácuo
Forno de Sinterização por Prensagem a Quente a Vácuo Rápida DC de 10 Toneladas
Número do item: TU-VH11
Envio: Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.
Visão Geral do Produto


Este forno avançado de sinterização por prensagem a quente a vácuo rápida integra aquecimento por corrente contínua, atmosfera de vácuo e prensagem uniaxial para fornecer amostras de alta densidade e granulação fina em minutos, ao invés de horas. Capaz de exercer até 10 toneladas de pressão enquanto aquece a taxas que atingem 1000°C/min, o sistema oferece uma solução eficiente para o processamento de materiais sensíveis à temperatura e difíceis de sinterizar. Ao controlar com precisão a força de compactação e os programas de aquecimento, garante a densificação reproduzível de uma ampla gama de composições de pós.
Voltado para laboratórios de pesquisa e P&D industrial em ciência de materiais, metalurgia, cerâmica e nanotecnologia, este forno se destaca na síntese de nanomateriais, materiais funcionalmente graduados, termelétricos e compósitos avançados. Seus tempos de ciclo rápidos e controle flexível de atmosfera aumentam substancialmente a produtividade para produção de pequenos lotes de alto valor, tornando-o uma ferramenta indispensável para o desenvolvimento de materiais de próxima geração. Seja na ampliação de amostras de pesquisa em nível de grama ou na qualificação de lotes de produção piloto, o sistema se adapta perfeitamente.
Projetado para confiabilidade, a unidade conta com eletrônica de potência robusta e um sistema de prensagem servoelétrico que mantém a estabilidade da pressão dentro de ±100 N. Um PLC touchscreen amigável permite receitas programáveis, registro de dados em tempo real de parâmetros críticos e gerenciamento seguro de acesso. Cada componente é selecionado para durabilidade a longo prazo, garantindo repetibilidade consistente ao longo de milhares de ciclos. Projetado com uma estrutura reforçada e circuitos industriais de resfriamento a água, o sistema mantém operação estável mesmo sob condições de carga máxima. Cada unidade é testada de fábrica quanto à uniformidade térmica e calibragem de pressão, garantindo desempenho logo na saída da caixa.
Principais Características
- Aquecimento Ultrarrápido e Tempos de Ciclo Curtos: O forno atinge taxas de aquecimento de até 1000°C/min, permitindo ciclos de sinterização completos de apenas 10 a 20 minutos. Este processamento rápido é essencial para produzir nanomateriais e fases metaestáveis, onde a exposição térmica prolongada causaria crescimento indesejado de grãos ou decomposição de fase. A capacidade de alta velocidade também acelera significativamente o retorno de resultados experimentais em ambientes de pesquisa.
- Sistema de Alimentação DC Avançado: Uma fonte DC classificada em 72 KVA fornece até 6000 A a 12 V, entregando aquecimento intenso e localizado diretamente através da matriz e da amostra. Ao contrário de sistemas de DC pulsada ou SPS, esta abordagem de corrente contínua contínua elimina a necessidade de geradores de pulso complexos e caros, oferecendo uma solução mais econômica enquanto ainda atinge as taxas de aquecimento extraordinariamente altas necessárias para sinterização reativa e cerâmicas de ultra-alta temperatura.
- Prensagem Servoelétrica de Precisão: Um acionamento servoelétrico de malha fechada aplica força de prensagem de até 100 kN (≈10 toneladas) com controle excepcional — a flutuação de pressão permanece abaixo de ±100 N durante todo o ciclo de prensagem. Este nível de precisão garante distribuição uniforme de densidade, minimiza rachaduras e distorções, e é particularmente benéfico no processamento de materiais frágeis ou em camadas, como compósitos cerâmicos e estruturas funcionalmente graduadas.
- Automação Totalmente Programável: O sistema PLC integrado com touchscreen permite que os operadores projetem e armazenem receitas complexas de múltiplas etapas envolvendo rampas de temperatura, programas de pressão, níveis de vácuo e purgas de gás. Durante a operação, todos os parâmetros críticos são continuamente registrados e podem ser exportados para análise, garantindo rastreabilidade completa. O gerenciamento de permissões de usuário adiciona uma camada de segurança, tornando o sistema adequado para instalações compartilhadas de múltiplos usuários.
- Ampla Compatibilidade com Temperatura e Materiais: Capaz de atingir 2400°C, este forno pode processar uma vasta gama de materiais, desde metais de baixo ponto de fusão como alumínio e cobre até cerâmicas refratárias como carbeto de tungstênio e diboreto de zircônio. A capacidade de sinterizar tanto pós condutores quanto não condutores (com configurações adequadas de matriz) estende sua utilidade pela pesquisa em metalurgia, cerâmica e compósitos.
- Controle de Vácuo e Atmosfera de Alto Desempenho: A configuração padrão atinge um nível de vácuo de 5 Pa, com opção de atualização para 5,0×10⁻³ Pa para materiais sensíveis ao oxigênio. As capacidades de recarga de gás inerte (N₂ ou Ar, até 0,03 MPa) permitem o processamento em atmosferas protetoras, evitando a oxidação e permitindo a sinterização de ligas e compostos sensíveis ao ar. Este recurso é indispensável para o processamento de ligas de titânio, cerâmicas de nitreto e outros materiais que requerem um ambiente limpo e livre de oxigênio.
- Supressão do Crescimento de Grãos: Como os tempos de sinterização são drasticamente reduzidos e as temperaturas de pico são frequentemente mais baixas do que na prensagem a quente convencional, os grãos cristalinos do material não têm tempo suficiente para crescer. Isso resulta em amostras a granel com tamanhos de grão próximos aos do nanopó inicial, preservando as propriedades mecânicas, eletrônicas ou magnéticas aprimoradas associadas a microestruturas nanocristalinas. Isso torna o forno particularmente valioso para pesquisas focadas em propriedades mecânicas em escala nanométrica.
- Projeto Robusto e Escalável: Projetado com eletrônica de potência de nível industrial e estrutura reforçada, este forno é construído para suportar uso contínuo. A construção modular simplifica a manutenção e permite personalização, como matrizes maiores ou linhas de gás adicionais, garantindo adaptabilidade às necessidades de pesquisa em evolução.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Benefício Principal |
|---|---|---|
| Materiais Nanocristalinos | Sinterização de alta velocidade de nanopós em componentes totalmente densos sem crescimento significativo de grãos. Comumente aplicado a metais, cerâmicas e intermetálicos em ambientes acadêmicos e industriais. | Retém a resistência mecânica superior, resistência ao desgaste e propriedades funcionais exclusivas inerentes à escala nanométrica. |
| Materiais Funcionalmente Graduados (MFGs) | Camadas sequenciais de materiais com diferentes composições ou microestruturas para criar transições suaves de propriedades através do componente. | Permite gradientes personalizados de expansão térmica, dureza ou condutividade para aplicações aeroespaciais e nucleares exigentes. |
| Geradores Termoelétricos | Densificação de calcogenidas complexas e skutteruditas para dispositivos de captura de energia que convertem calor em eletricidade. | Alta densidade e limites de grão controlados maximizam o número de figura de mérito termoelétrico ZT, aumentando a eficiência de conversão. |
| Ímãs Permanentes de Terras Raras | Sinterização de NdFeB, SmCo e ligas relacionadas em ímãs de alto desempenho usados em motores elétricos e turbinas eólicas. | O tamanho fino de grão e a densidade total aumentam a coercividade e a remanência magnética, fundamentais para o projeto de ímãs de alta densidade energética. |
| Consolidação de Vidro Metálico e Liga Amorfa | Consolidação de pós amorfos bem abaixo da temperatura de cristalização para evitar desvitrificação. | Preserva a estrutura vítrea, produzindo vidros metálicos a granel com dureza excepcional, resistência à corrosão e propriedades de desgaste. |
| Biocerâmicas para Implantes Médicos | Sinterização de alumina, zircônia e hidroxiapatita para próteses dentárias e ortopédicas que requerem alta confiabilidade. | Produz corpos sem poros com grãos finos, melhorando a tenacidade à fratura e a biocompatibilidade para o sucesso do implante a longo prazo. |
| Cerâmicas de Ultra-Alta Temperatura (UHTCs) | Processamento de boretos, carbetos e nitretos para componentes que devem sobreviver a ambientes extremos acima de 2000°C. | Alcança densidade quase teórica com mínimos aditivos de sinterização, retendo resistência a altas temperaturas e resistência à oxidação. |
| Compósitos de Matriz Metálica | Fabricação de cermets e ligas reforçadas por partículas (ex.: WC-Co, SiC/Al) para ferramentas de corte, peças de desgaste e estruturas leves. | A dispersão uniforme e a alta ligação interfacial fortalecem o compósito sem degradar a integridade da fase de reforço. |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | Especificação |
|---|---|
| Modelo | tu-vh11 |
| Capacidade de Aquecimento | 72 KVA, 50 Hz |
| Saída | DC 0–6000 A, 0–12 V |
| Temperatura Máxima | ≤2400 °C |
| Taxa de Aquecimento | ≤1000 °C/min |
| Pressão Aplicada Máxima | ≤100 kN (10 toneladas) |
| Flutuação de Pressão | ≤±100 N |
| Tipo de Prensa | Servoelétrica |
| Diâmetro da Amostra | Φ20–50 mm |
| Deslocamento | ≤100 mm |
| Vácuo Máximo | 5 Pa (opcional 5,0×10⁻³ Pa) |
| Pressão de Recarga de Gás | ≤0.03 MPa |
| Gases de Processo | N₂, Ar (pureza ≥99,99%) |
| Sistema de Controle | Touchscreen + PLC com registro de temperatura, vácuo, pressão, deslocamento e gerenciamento de receitas |
Por Que Escolher Este Produto
- Velocidade de Processamento Inigualável: Fornos de prensagem a quente tradicionais geralmente requerem horas para atingir densidade total; a taxa de rampa de 1000°C/min deste sistema comprime o ciclo em minutos, acelerando os ciclos de P&D e reduzindo o tempo de lançamento de novos materiais no mercado. Por exemplo, um compacto de metal duro típico pode ser sinterizado até a densidade total em menos de 15 minutos, contra várias horas em fornos convencionais. O aquecimento rápido também minimiza o consumo de energia e o estresse térmico em equipamentos auxiliares.
- Precisão de Densificação Superior: A combinação de estrutura de alta rigidez, prensa servoelétrica e controle de temperatura PID avançado produz uniformidade de densidade melhor que 99,5% da teórica. Flutuações de pressão abaixo de ±100 N eliminam o risco de rachaduras na amostra ou compactação não homogênea, mesmo com pilhas em camadas delicadas.
- Vantagem da Tecnologia DC Econômica: Ao dispensar a necessidade de fontes de alimentação DC pulsada caras normalmente encontradas em sistemas SPS, este forno fornece velocidades de aquecimento e inibição de crescimento de grãos comparáveis a uma fração do investimento de capital. Os menores requisitos de manutenção devido à eletrônica de potência mais simples reduzem ainda mais o custo total de propriedade.
- Construído para Operação Contínua Exigente: Componentes de nível industrial, cabos de alimentação robustos resfriados a água e uma câmara de vácuo reforçada garantem longevidade e tempo de inatividade mínimo. Cada sistema passa por testes rigorosos de fábrica para verificar a uniformidade de temperatura e a precisão da pressão, proporcionando confiança para produção 24 horas por dia ou experimentos críticos.
- Suporte Abrangente e Personalização: Entendemos que cada programa de pesquisa tem requisitos exclusivos. Nossa equipe de engenharia pode adaptar o forno com conjuntos de matriz personalizados, capacidades de vácuo aprimoradas, entradas de gás adicionais ou protocolos de automação personalizados. Também oferecemos opções de solução de problemas remota e monitoramento baseado em nuvem para maior supervisão operacional. O suporte técnico contínuo garante que seu sistema permaneça produtivo ao longo de toda sua vida útil.
Entre em contato conosco hoje para discutir seus desafios específicos de materiais e receber uma cotação personalizada.
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Forno de Prensagem de Aquecimento Ultrarrápido de Alta Temperatura 2900°C Máx. 100kgf Sistema de Processamento Térmico Rápido
Projetado para processamento térmico rápido, este forno de prensagem e aquecimento ultrarrápido de 2900°C oferece taxas de rampa de 180°C/s e pressão de 100 kgf. Ideal para sinterização flash e P&D de materiais avançados, este sistema de alto vácuo garante precisão máxima, confiabilidade comprovada e desempenho industrial econômico.
Forno de Prensagem Térmica Ularrápida 2900C Temperatura Máxima Taxa de Aquecimento de 200K por Segundo Sistema de Processamento Rápido em Atmosfera de Vácuo
Este forno de prensagem térmica ultrarrápida de 2900°C atinge taxas de aquecimento acima de 200K/s para P&D avançada. Com controle de vácuo de precisão e pressão por peso morto integrada, o sistema oferece soluções de alto desempenho para pesquisa em ciência dos materiais e aplicações de processamento térmico rápido.
Forno de Prensagem a Quente por Indução a Vácuo de Alta Pressão 600T para Tratamento Térmico e Sinterização de Materiais Avançados
Este forno profissional de prensagem a quente por indução a vácuo de 600T oferece controle preciso de temperatura e pressão para a sinterização de cerâmicas avançadas e compósitos. Alcance densidade próxima à teórica e estruturas de grãos finos em P&D ou produção industrial com confiabilidade absoluta no processamento térmico.
Forno de Prensa a Vácuo Industrial de Alta Temperatura e Prensa a Vácuo Aquecida para Sinterização de Materiais Avançados
Este forno de prensa a vácuo de alto desempenho fornece calor simultâneo e pressão uniaxial para densificação de materiais avançados. Garante crescimento superior de cristais, tratamento térmico de metais e sinterização de cerâmicas sob condições precisas de vácuo ou atmosfera controlada para P&D industrial e fabricação.
Forno Industrial de Prensagem a Quente a Vácuo de Alta Temperatura e Máquina de Prensagem a Vácuo Aquecida para Sinterização em Ciência dos Materiais
Este forno de prensagem a quente a vácuo de alto desempenho combina aquecimento de precisão com pressão hidráulica para aplicações avançadas de sinterização e metalurgia do pó, proporcionando densidade superior e integridade estrutural em ambientes controlados a vácuo ou atmosféricos para laboratórios de P&D.
Forno de Câmara de Pressão de Alto Vácuo 800°C 3,5 Bar Sistema de Sinterização para Materiais Supercondutores
Este forno de câmara de vácuo e pressão de 800°C oferece um ambiente de 3,5 bar para P&D. Com construção em aço inoxidável 310S e aquecimento multizona, proporciona precisão para o tratamento de materiais supercondutores e processos de sinterização avançados em aplicações industriais exigentes.
Forno a Vácuo de Alta Temperatura de 1000°C com Câmara de 8 Polegadas de Diâmetro Interno para Sinterização de Materiais e Recozimento de Pesquisa
Obtenha um processamento térmico superior com este forno a vácuo de 1000°C, equipado com uma câmara de 8 polegadas de diâmetro interno para sinterização e brasagem de precisão. Este sistema de zona dupla oferece níveis de vácuo ultra-alto e controle PID Eurotherm para aplicações exigentes de P&D industrial em ciência dos materiais.
Máquina de Prensa Térmica de Laminação a Vácuo de Alta Temperatura para Ligação de Wafers de Semicondutores e Processamento Térmico de Compósitos Avançados
Esta máquina avançada de laminação a quente a vácuo integra precisão hidráulica com ambientes térmicos controlados para materiais sensíveis ao oxigênio. Projetada para ligação de wafers de semicondutores e transformações de filmes finos, oferece excepcional uniformidade de pressão e precisão de temperatura para P&D e fabricação industrial.
Prensa de pastilhas de aquecimento ultrarrápido a alto vácuo de 2500°C com sistema automatizado de carregamento de 8 amostras
Obtenha processamento térmico rápido com esta prensa de pastilhas de alto vácuo de 2500°C, com aquecimento ultrarrápido e um sistema automatizado de carregamento de 8 amostras. Ideal para pesquisa avançada de materiais, garante resultados de sinterização precisos com manuseio robótico de amostras em alta velocidade e desempenho de automação para laboratórios.
Forno de Cadinho a Vácuo de Alta Temperatura 1100°C com Câmara de Quartzo para Processamento Térmico e Sinterização
Este forno de cadinho a vácuo 1100°C apresenta uma câmara de quartzo para processamento térmico de precisão. Projetado para sinterização e tratamento térmico sob vácuo ou atmosfera inerte, oferece resultados consistentes para pesquisa em ciência dos materiais, engenharia industrial e aplicações de qualidade de laboratório de P&D profissional.
Sistema de Aquecimento por Indução com Controle de Temperatura para Sinterização e Fusão a Vácuo em Altas Temperaturas
Este sistema profissional de aquecimento por indução proporciona processamento térmico rápido até 1900 ºC para metalurgia avançada. Com controle de temperatura PID preciso, capacidade de vácuo e resfriamento de água integrado, garante excepcional confiabilidade para fusão de metais, sinterização e pesquisa de materiais inovadores.
Forno a Vácuo de Parede Fria de Alta Temperatura para Sinterização e Recozimento de Materiais Avançados 1600°C Área de Aquecimento 200x200x300mm
Este forno a vácuo de parede fria de alta temperatura proporciona processamento térmico a 1600°C dentro de uma zona de aquecimento metálica limpa. Com um chiller de água integrado e controle de precisão Eurotherm, garante ambientes livres de contaminação para metalurgia avançada e pesquisa em ciência dos materiais.
Forno Vertical de Alta Temperatura com Atmosfera Controlada, Carregamento Inferior Automático e Capacidade de 1700°C para Pesquisa Avançada de Materiais
Forno vertical de atmosfera avançado de 1700°C com carregamento inferior motorizado automático e capacidade de vácuo. Projetado para sinterização e recozimento de precisão, este sistema de alta pureza inclui câmaras refrigeradas a água e controle PID Eurotherm para pesquisa e desenvolvimento industrial exigentes.
Forno tubular oscilante de alta pressão de 1100°C com tubo de processamento de superliga de 2 polegadas para síntese de materiais
Forno tubular oscilante de alta pressão de 1100°C avançado, equipado com um tubo de processamento de superliga de 2 polegadas para síntese a alta temperatura sob pressão. Projetado para P&D industrial, este sistema oferece controle térmico preciso, movimento oscilante automatizado e segurança robusta para aplicações complexas de processamento de materiais.
Forno compacto de carga inferior automático de alta temperatura com resfriamento rápido para pesquisa autônoma de materiais
Aumente a produtividade de P&D com este forno compacto de carga inferior automático de 1500°C, com resfriamento rápido e compatibilidade de automação para integração em porta-luvas ou fluxos de trabalho robóticos em laboratórios industriais avançados e centros de pesquisa em ciência dos materiais que buscam soluções de processamento térmico de precisão premium hoje.
Forno de Tubo Vertical de Alta Temperatura 1700°C para Esferificação de Pós e Sinterização de Materiais
Este sistema de forno de tubo vertical de 1700°C otimiza a esferificação de pós para eletrodos de baterias e impressão 3D. Com alimentador automático e controle de duas zonas, a unidade garante processamento de alta pureza sob vácuo ou atmosferas controladas para aplicações superiores em pesquisa de materiais industriais.
Forno a Vácuo de Carga Inferior 1200°C com Arrefecimento Rápido a Gás e Câmara de Quartzo de 8,6 Polegadas de Diâmetro
Forno a vácuo de carga inferior avançado de 1200°C projetado para pesquisa de materiais de precisão, com têmpera rápida a gás e controle PID de dupla zona. Este sistema de grau industrial garante uniformidade térmica superior e integridade de vácuo para ambientes exigentes de P&D e aplicações de processamento de alta pureza.
Forno a vácuo de carregamento inferior 1200°C com resfriamento rápido e controle de atmosfera, câmara de quartzo
Forno a vácuo avançado de 1200°C com carregamento inferior, apresentando resfriamento rápido a gás, controle PID duplo integrado e câmara de quartzo de alta pureza. Projetado para P&D de precisão e processamento industrial de materiais, o sistema oferece uniformidade térmica excepcional e tempos de ciclo rápidos.
Forno a Vácuo Aquecido por Indução de Temperatura Ultra-Alta com Capacidade de Eletrólise em Sal Fundido e Controle de Precisão de 3000 Graus
Forno a vácuo aquecido por indução de precisão de 3000ºC, projetado para grafitização de alta pureza e sinterização cerâmica. Este sistema térmico versátil apresenta tecnologia de indução avançada e capacidades opcionais de eletrólise em sal fundido para as aplicações industriais de P&D e ciência dos materiais mais exigentes da atualidade.
Forno de Processamento Térmico Rápido (RTP) Compacto com Atmosfera Controlada e Tubo de Quartzo de 4 Polegadas, 1100°C
Aprimore a pesquisa em semicondutores com este forno RTP compacto de atmosfera controlada. Com um tubo de quartzo de 4 polegadas e capacidade de 1100°C, oferece aquecimento de 50°C/segundo para recozimento de precisão, CVD e processamento de materiais de alto rendimento.