Forno de tubo de 4 polegadas para alta temperatura de 1200°C com flange deslizante para sistemas CVD

Forno RTP

Forno de tubo de 4 polegadas para alta temperatura de 1200°C com flange deslizante para sistemas CVD

Número do item: TU-RT25

Temperatura Máxima: 1200°C Dimensões do Tubo: 4,33" D.E x 4,05" D.I x 29,13" C Zona de Aquecimento: 440mm (Total) / 100mm (Constante)
Qualidade Garantida Fast Delivery Global Support

Envio: Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.

Visão Geral do Produto

Imagem do produto 1

Este sistema de processamento térmico de alto desempenho é uma solução especializada projetada para síntese de materiais avançada e deposição química de vapor (CVD). Ao integrar um tubo de quartzo de grande diâmetro com um mecanismo versátil de flange deslizante, o equipamento oferece aos pesquisadores uma plataforma adaptável para tratamento térmico de precisão. A principal proposta de valor está na sua capacidade de facilitar transições rápidas de amostras e manter ambientes térmicos estáveis até 1200°C, tornando-se um pilar para laboratórios focados em revestimentos de filmes finos, nanotecnologia e desenvolvimento de semicondutores.

Otimizado para confiabilidade, esta unidade é amplamente utilizada nos setores de eletrônica, aeroespacial e energia. Ela serve como ferramenta principal para o desenvolvimento de materiais de próxima geração, como grafeno e nanotubos de carbono, onde o controle atmosférico e a uniformidade térmica são requisitos inegociáveis. A construção robusta garante que resultados de alta pureza sejam obtidos de forma consistente, mesmo quando o sistema é submetido a ciclos de aquecimento repetidos sob vácuo ou condições de gás controlado.

Projetado para ambientes exigentes de P&D, o sistema prioriza tanto o desempenho quanto a segurança operacional. Desde as flanges de resfriamento a água usinadas com precisão até o mecanismo inteligente de intertravamento de segurança, cada componente é selecionado para minimizar o risco experimental e maximizar a produtividade. Este equipamento representa um investimento significativo na produtividade laboratorial, oferecendo a durabilidade necessária para pesquisa industrial de longo prazo e a precisão necessária para descobertas científicas de ponta.

Principais Características

  • Sistema avançado de flange deslizante: A flange do lado direito é montada em um conjunto de trilho deslizante, permitindo que os operadores empurrem ou puxem amostras para dentro e para fora da zona de aquecimento com mínimo esforço. Esta escolha de projeto é fundamental para requisitos de resfriamento rápido e simplifica significativamente o processo de carregamento de amostras, reduzindo o risco de contaminação ou choque térmico no tubo de quartzo.
  • Controle térmico PID de precisão: Equipado com um controlador digital com funcionalidade de autoajuste e 30 segmentos programáveis, o sistema mantém uma estabilidade de temperatura de ±1°C. Este nível de precisão é essencial para crescimento CVD repetível e processos de recozimento delicados, onde mesmo flutuações menores podem comprometer as propriedades do material.
  • Gerenciamento de vácuo e gás de alta integridade: O sistema suporta ambientes de baixa pressão e atmosferas de gás complexas. A flange esquerda inclui quatro conexões Swagelok para entradas de gás, enquanto a flange direita conta com uma porta de vácuo KF25 e um medidor de diafragma de capacitância anticorrosivo, fornecendo o monitoramento abrangente necessário para processamento a vácuo de alta pureza.
  • Proteção integrada de resfriamento a água: Para preservar a integridade dos anéis de vedação O durante operações em alta temperatura, as flanges são projetadas com canais internos de resfriamento a água. Este recurso garante que a vedação de vácuo permaneça estanque mesmo quando o forno opera na sua temperatura máxima nominal de 1200°C.
  • Projeto de tampa dividida com segurança em primeiro lugar: A carcaça do forno possui uma arquitetura de tampa dividida com intertravamento de segurança integrado. Se a tampa for aberta durante a operação, a alimentação dos elementos de aquecimento é imediatamente interrompida, protegendo o operador e evitando danos acidentais aos componentes internos.
  • Zona de temperatura constante otimizada: A arquitetura de aquecimento é projetada para fornecer uma zona de temperatura constante de 100 mm dentro de uma área de aquecimento total de 440 mm. Isso garante que as amostras sejam submetidas a perfis térmicos uniformes, que é um pré-requisito para obter deposição homogênea de filme fino na superfície do substrato.
  • Tubo de processamento de grande diâmetro: O tubo de quartzo de 4 polegadas (100 mm de DI) permite o processamento de substratos maiores ou múltiplas amostras simultaneamente. Esta capacidade é vital para pesquisas que visam escalar da descoberta em pequena escala para a produção de materiais em nível piloto.
  • Monitoramento inteligente e integração com PC: Com software opcional baseado em Labview e capacidade de controle por WiFi, os usuários podem gerenciar remotamente receitas de tratamento térmico, gravar dados em tempo real e plotar perfis térmicos, fornecendo um registro digital de auditoria para experimentos industriais sensíveis.

Aplicações

Aplicação Descrição Principal Benefício
Síntese de Grafeno Crescimento térmico por CVD de camadas de grafeno de alta qualidade em catalisadores de cobre ou níquel. Controle preciso de fluxo de gás e temperatura garante estruturas de rede uniformes.
Crescimento de Nanotubos de Carbono (CNT) Produção de nanotubos de parede única ou parede múltipla por decomposição de hidrocarbonetos. A flange deslizante permite têmpera térmica rápida para congelar os estados de crescimento dos nanotubos.
Dopagem de Semicondutores Difusão de impurezas em wafers de silício ou semicondutores compostos para alterar as propriedades elétricas. O diâmetro de 4 polegadas acomoda tamanhos padrão de wafers para pesquisa acadêmica e industrial.
Deposição de Filme Fino Revestimento de substratos com filmes funcionais metálicos ou cerâmicos usando técnicas CVD ou PECVD. A integridade do vácuo evita oxidação e garante alta adesão do filme de alta pureza.
Sinterização de Cerâmica Consolidação em alta temperatura de pós cerâmicos avançados e materiais compósitos. A capacidade de 1200°C suporta uma ampla gama de processos de densificação para cerâmicas técnicas.
Recozimento de Materiais para Baterias Tratamento térmico de materiais de eletrodo para baterias de íon de lítio sob atmosferas inertes. O controle PID preciso evita separação de fases e mantém o desempenho eletroquímico.
Desenvolvimento de Células Solares Processamento de materiais solares de perovskita ou filme fino sob condições atmosféricas controladas. O projeto modular da flange permite passagens personalizadas para monitoramento in-situ.
Pesquisa em Metalurgia Alívio de tensão e recozimento de amostras de ligas especializadas em ambiente de vácuo. Sistemas de resfriamento confiáveis protegem o equipamento durante ciclos de calor de longa duração.

Especificações Técnicas

Categoria de Parâmetro Detalhes da Especificação para TU-RT25
Identificador do Modelo TU-RT25
Material e Dimensões do Tubo Tubo de quartzo de alta pureza; 110 mm (4,33") D.E x 103 mm (4,05") D.I x 740 mm (29,13") Comprimento
Temperatura Máxima 1200°C (para durações < 30 minutos)
Temperatura de Trabalho Contínua 200°C a 1100°C
Comprimento da Zona de Aquecimento Zona de aquecimento total: 440 mm; Zona de temperatura constante: 100 mm
Taxa de Aquecimento e Resfriamento Máximo de 20°C por minuto
Controlador de Temperatura PID digital com autoajuste; 30 segmentos programáveis; precisão de ±1°C
Tipo de Termopar Tipo K, inserido pela flange do lado direito
Tensão Nominal Fase Única, 220V AC, 50/60 Hz
Consumo de Energia Máximo de 3600 W (Requer disjuntor de 20 A)
Conexão de Vácuo Porta KF25 na flange direita; medidor de diafragma de capacitância anticorrosivo incluso
Conexões de Entrada de Gás Quatro conexões Swagelok de 1/8'' na flange esquerda
Requisitos de Resfriamento Flanges resfriadas a água (conexões rápidas de 12 mm); Chiller recomendado
Limite Atmosférico Uso em vácuo até 1000°C; Pressão positiva < 0,2 bar (3 psi)
Conformidade Certificado CE (certificação NRTL/CSA/TUV disponível mediante solicitação)
Recursos de Segurança Tampa dividida com proteção de intertravamento para corte de energia

Por Que Escolher Nós

Escolher este sistema térmico representa um compromisso com precisão e eficiência operacional. O projeto de flange deslizante é um grande diferencial, oferecendo um nível de flexibilidade e produtividade que fornos de tubo fixo padrão não conseguem igualar. Isso torna o sistema ideal para laboratórios de alto tráfego onde múltiplos experimentos devem ser realizados diariamente sem comprometer a integridade da vedação de vácuo ou do próprio tubo de quartzo.

Do ponto de vista de engenharia, o sistema é construído para suportar os rigores da P&D industrial. O uso de quartzo de alta qualidade e componentes de aço inoxidável resfriados a água garante durabilidade a longo prazo, mesmo quando operando em temperaturas próximas ao limite de 1200°C. Nosso foco na segurança, evidenciado pelo sistema de intertravamento integrado e certificação CE, oferece tranquilidade tanto para gerentes de instalações quanto para pesquisadores.

Além disso, a natureza modular do sistema permite uma personalização significativa. Se você precisa de passagens de gás específicas, bombas de vácuo atualizadas ou software integrado para monitoramento remoto, esta unidade pode ser adaptada para atender aos requisitos exatos do seu processo de CVD ou tratamento térmico. Nós posicionamos este equipamento como um investimento premium que entrega resultados consistentes e de alta pureza por muitos anos.

Entre em contato com nossa equipe de vendas técnicas hoje para obter uma cotação formal ou discutir uma solução térmica personalizada adaptada aos seus objetivos de pesquisa.

Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!

Produtos relacionados

Forno Tubular de Alta Temperatura 1700°C com Tubo de Alumina de 4 Polegadas de DE e Flanges de Vedação a Vácuo

Forno Tubular de Alta Temperatura 1700°C com Tubo de Alumina de 4 Polegadas de DE e Flanges de Vedação a Vácuo

Forno tubular de alto desempenho de 1700°C, apresentando um tubo de alumina de 4 polegadas de DE e elementos de aquecimento de precisão em MoSi2. Ideal para pesquisa de materiais, sinterização química e tratamento térmico a vácuo, com controle PID avançado e capacidades robustas de vedação atmosférica para P&D industrial.

Forno de Tubo Vertical Aberto 0-1700°C Sistema Laboratorial de Alta Temperatura para CVD e Tratamento Térmico a Vácuo

Forno de Tubo Vertical Aberto 0-1700°C Sistema Laboratorial de Alta Temperatura para CVD e Tratamento Térmico a Vácuo

Desenvolvido para pesquisa avançada de materiais, este forno de tubo vertical aberto de 1700°C conta com aquecimento preciso de três zonas e capacidades de têmpera rápida. Ideal para processos CVD e recozimento a vácuo, oferece confiabilidade de nível industrial, controle atmosférico e flexibilidade modular para ambientes de P&D exigentes.

Forno Tubular de Atmosfera de Alta Temperatura 1800°C para Pesquisa CVD e Tratamento Térmico de Precisão por Sinterização a Vácuo

Forno Tubular de Atmosfera de Alta Temperatura 1800°C para Pesquisa CVD e Tratamento Térmico de Precisão por Sinterização a Vácuo

Obtenha processamento térmico preciso com este forno tubular de alta temperatura de 1800°C, equipado com elementos MoSi2 1900 e controle PID Shimaden. Projetado para experimentos de CVD, recozimento a vácuo e sinterização em atmosfera em pesquisa avançada de ciência dos materiais ou laboratórios de P&D industrial.

Forno Tubular de Alta Temperatura de 1700°C com Sistema de Bomba Turbomolecular de Alto Vácuo e Misturador de Gás com Controlador de Fluxo de Massa Multicanal

Forno Tubular de Alta Temperatura de 1700°C com Sistema de Bomba Turbomolecular de Alto Vácuo e Misturador de Gás com Controlador de Fluxo de Massa Multicanal

Este avançado forno tubular de alta temperatura de 1700°C integra um sistema de bomba de alto vácuo turbomolecular de precisão e um misturador de gás com controlador de fluxo de massa multicanal, oferecendo desempenho excepcional para pesquisas sofisticadas em CVD, difusão e materiais em ambientes exigentes de P&D industrial.

Forno de Tubo Dividido de Alta Temperatura 1200°C com Flanges de Vácuo Articuladas e Tubo de Quartzo de 4 Polegadas para Pesquisa Laboratorial

Forno de Tubo Dividido de Alta Temperatura 1200°C com Flanges de Vácuo Articuladas e Tubo de Quartzo de 4 Polegadas para Pesquisa Laboratorial

Este forno de tubo dividido de 1200°C possui flanges de vácuo articuladas e um tubo de quartzo de quatro polegadas para um carregamento de amostras simplificado. Projetado para processamento térmico preciso, oferece uniformidade de temperatura excepcional e desempenho de vácuo para ciência de materiais avançada e aplicações de P&D industrial.

Forno de Tubo de Alta Temperatura 1500°C com Flanges Deslizantes e 50mm de OD para Processamento Térmico Rápido de Aquecimento e Resfriamento Rápidos

Forno de Tubo de Alta Temperatura 1500°C com Flanges Deslizantes e 50mm de OD para Processamento Térmico Rápido de Aquecimento e Resfriamento Rápidos

Obtenha processamento térmico rápido com este forno de tubo com máxima de 1500°C, equipado com flanges deslizantes manuais para aquecimento e resfriamento acelerados. Projetado para pesquisa em ciência dos materiais, este sistema de alta precisão oferece desempenho excepcional de vácuo e monitoramento com controlador duplo para aplicações laboratoriais exigentes.

Forno de Tubo de 4 Canais de Alta Temperatura 1700°C, Tubo de Alumina de 1 Polegada para Recozimento de Alto Rendimento

Forno de Tubo de 4 Canais de Alta Temperatura 1700°C, Tubo de Alumina de 1 Polegada para Recozimento de Alto Rendimento

Revolucione a pesquisa de materiais com este forno de tubo de 1700°C de quatro canais, com controle de temperatura independente e tubos de alumina integrados, que oferece recozimento e tratamento térmico de alto rendimento em um formato compacto pronto para laboratório, otimizado para o desenvolvimento rápido de materiais e a síntese de ligas industriais.

Forno Tubular Bipartido de Alta Temperatura 1200°C para Pesquisa em CVD e Tratamento Térmico em Atmosfera de Vácuo

Forno Tubular Bipartido de Alta Temperatura 1200°C para Pesquisa em CVD e Tratamento Térmico em Atmosfera de Vácuo

Forno tubular bipartido de alto desempenho de 1200°C projetado para CVD de precisão, sinterização em atmosfera e recozimento a vácuo. Apresenta controle PID avançado, isolamento de fibra de alumina japonesa com eficiência energética e um design bipartido de resfriamento rápido para P&D industrial e laboratórios de materiais avançados.

Forno de Tubo Dividido de Seis Zonas com Tubo de Alumina e Flanges de Vácuo para Processamento Térmico de Alta Temperatura de 1500°C e CVD

Forno de Tubo Dividido de Seis Zonas com Tubo de Alumina e Flanges de Vácuo para Processamento Térmico de Alta Temperatura de 1500°C e CVD

Este forno de tubo dividido de seis zonas de 1500°C oferece um controle térmico excepcional para pesquisa laboratorial profissional e aplicações de CVD de alta temperatura. Apresenta um tubo de alumina de 1800 mm e controladores PID precisos de 30 segmentos para resultados consistentes de processamento e recozimento de materiais.

Forno Tubular de Múltiplas Posições 1100°C para Pesquisa de Materiais em Laboratório e Processamento Térmico Industrial Avançado

Forno Tubular de Múltiplas Posições 1100°C para Pesquisa de Materiais em Laboratório e Processamento Térmico Industrial Avançado

Este forno tubular de múltiplas posições oferece aquecimento de precisão a 1100°C com flexibilidade de orientação vertical e horizontal. Projetado para pesquisa avançada de materiais, possui um controlador PID de 30 segmentos e isolamento fibroso de alta pureza para excepcional estabilidade térmica e desempenho confiável em laboratórios industriais.

Forno Tubular de Quatro Zonas 1100°C com Tubo de Quartzo de Grande Diâmetro 600mm e Flanges de Vácuo

Forno Tubular de Quatro Zonas 1100°C com Tubo de Quartzo de Grande Diâmetro 600mm e Flanges de Vácuo

Forno tubular de quatro zonas avançado com tubo de quartzo de 24 polegadas e controle térmico preciso de 1100°C. Projetado para processamento de materiais em grande escala, sinterização e aplicações de CVD, este sistema de alto desempenho oferece uniformidade de temperatura excepcional e vedação a vácuo confiável para ambientes exigentes de P&D.

Forno de Tubo Vertical de Alta Temperatura 1700°C para Esferificação de Pós e Sinterização de Materiais

Forno de Tubo Vertical de Alta Temperatura 1700°C para Esferificação de Pós e Sinterização de Materiais

Este sistema de forno de tubo vertical de 1700°C otimiza a esferificação de pós para eletrodos de baterias e impressão 3D. Com alimentador automático e controle de duas zonas, a unidade garante processamento de alta pureza sob vácuo ou atmosferas controladas para aplicações superiores em pesquisa de materiais industriais.

Forno Tubular de 1100°C com Flange de Vácuo e Controlador de Temperatura Programável para Ciência dos Materiais e Tratamento Térmico Industrial

Forno Tubular de 1100°C com Flange de Vácuo e Controlador de Temperatura Programável para Ciência dos Materiais e Tratamento Térmico Industrial

Otimize o processamento térmico do seu laboratório com este versátil forno tubular de 1100°C, equipado com um controlador PID programável e flanges de alto vácuo. Projetado para síntese de materiais de precisão e P&D industrial, oferece flexibilidade de orientação dupla e uniformidade de temperatura consistente para aplicações exigentes.

Forno de Tubo de Bancada de Alta Temperatura 1700C com Zona de Aquecimento de 5 Polegadas, Tubo de Alumina de Alta Pureza e Flanges de Vedação a Vácuo

Forno de Tubo de Bancada de Alta Temperatura 1700C com Zona de Aquecimento de 5 Polegadas, Tubo de Alumina de Alta Pureza e Flanges de Vedação a Vácuo

Este forno de tubo de alta temperatura de 1700C apresenta uma zona de aquecimento de cinco polegadas e tubo de alumina para pesquisa avançada de materiais. Alcance controle preciso da atmosfera e níveis de vácuo de até 50 mTorr para sinterização, recozimento e deposição química de vapor.

Forno Mufla e Tubular Híbrido de Alta Temperatura com Capacidade de Vácuo e Controle PID

Forno Mufla e Tubular Híbrido de Alta Temperatura com Capacidade de Vácuo e Controle PID

Este forno híbrido mufla e tubular de 1200°C oferece uma solução versátil 2-em-1 para processamento preciso de materiais. Com uma câmara de 6x6x7 polegadas e opções de tubo de quartzo, suporta P&D em vácuo ou atmosfera, entregando confiabilidade excepcional para soluções de equipamentos de tratamento térmico laboratorial de alta temperatura.

Forno tubular de quatro canais de 1200°C de alto rendimento com tubos de quartzo de 3 polegadas para recozimento em múltiplas zonas e pesquisa de materiais

Forno tubular de quatro canais de 1200°C de alto rendimento com tubos de quartzo de 3 polegadas para recozimento em múltiplas zonas e pesquisa de materiais

Acelere a pesquisa de materiais com nosso avançado forno tubular de quatro canais de 1200°C, com controle independente para cada tubo de quartzo de 3 polegadas. Este sistema de alto rendimento oferece eficiência incomparável para estudos de recozimento e de diagramas de fases em laboratórios de P&D industriais e acadêmicos.

Forno tubular a vácuo compacto de alta temperatura de 1800°C com tubo de alumina de 60 mm de diâmetro externo e elementos de aquecimento Kanthal MoSi2

Forno tubular a vácuo compacto de alta temperatura de 1800°C com tubo de alumina de 60 mm de diâmetro externo e elementos de aquecimento Kanthal MoSi2

Este forno tubular a vácuo compacto de alta temperatura de 1800°C apresenta elementos de aquecimento Kanthal premium e um tubo de alumina de 60 mm de diâmetro externo. Projetado para pesquisa de materiais e sinterização, ele oferece processamento térmico de precisão sob condições de vácuo ou atmosfera controlada para P&D laboratorial.

Forno Tubular de Alta Temperatura de 1700°C em Alumina com Zona Aquecida de 18 Polegadas e Flanges de Vedação a Vácuo

Forno Tubular de Alta Temperatura de 1700°C em Alumina com Zona Aquecida de 18 Polegadas e Flanges de Vedação a Vácuo

Este forno tubular profissional de 1700°C possui uma zona aquecida de dezoito polegadas e tubos de alumina de alta pureza para pesquisa avançada de materiais. Projetado para vácuo e atmosferas controladas, oferece estabilidade térmica e confiabilidade excepcionais para processos laboratoriais industriais exigentes.

Forno de Tubo Deslizante Duplo de 1200°C Máx. com Flanges de Tubo de 50 mm para CVD

Forno de Tubo Deslizante Duplo de 1200°C Máx. com Flanges de Tubo de 50 mm para CVD

Este forno de tubo deslizante duplo de 1200°C possui flanges de tubo de quartzo de 50 mm projetados especificamente para processos de CVD de alta precisão. Acelere a P&D industrial através de aquecimento e resfriamento rápidos via deslizamento, garantindo síntese de materiais superior, resultados consistentes e desempenho máximo na deposição de filmes finos.

Forno tubular de atmosfera a vácuo de bancada de alta temperatura de 1750°C com elementos de aquecimento Kanthal Super 1800 e tubo de processamento de alumina de 60 mm

Forno tubular de atmosfera a vácuo de bancada de alta temperatura de 1750°C com elementos de aquecimento Kanthal Super 1800 e tubo de processamento de alumina de 60 mm

Forno tubular a vácuo de alto desempenho de 1750°C, equipado com elementos de aquecimento Kanthal Super-1800 e tubos de alumina de alta pureza. Ideal para pesquisa de materiais de precisão, este sistema oferece precisão de ±1°C e controle programável de 30 segmentos para processamento térmico laboratorial exigente e sinterização com atmosfera controlada.