Forno de Tubo Deslizante Duplo de 1200°C Máx. com Flanges de Tubo de 50 mm para CVD

Visão Geral do Produto

Este sistema deslizante de zona dupla de alto desempenho representa um avanço no processamento térmico para pesquisa de materiais avançados. Projetado especificamente para aplicações de deposição química de vapor (CVD) e transporte físico de vapor (PVT), o equipamento possui duas unidades de aquecimento independentes montadas em um trilho deslizante de engenharia de precisão. Esta configuração permite um controle sem precedentes sobre gradientes de temperatura e ciclos térmicos rápidos, permitindo que os pesquisadores alcancem perfis de síntese complexos que são impossíveis com sistemas estacionários. Ao mover as zonas de aquecimento em relação ao tubo de processamento, os usuários podem criar pontos quentes localizados para evaporação de precursores enquanto mantêm uma temperatura distinta para a deposição do substrato.

Construída para os rigores da P&D industrial e ambientes de laboratório de semicondutores, a unidade facilita a produção de filmes finos, materiais 2D e nanoestruturas de alta qualidade. A principal proposta de valor reside na sua versatilidade: funciona como um forno de zona dupla para crescimento de gradiente controlado ou como uma ferramenta de têmpera térmica de alta velocidade para investigar transições de fase. As indústrias-alvo incluem aeroespacial, armazenamento de energia (especificamente desenvolvimento de células solares de perovskita) e microeletrônica, onde a precisão e a repetibilidade são as bases da inovação bem-sucedida.

Projetado com foco na confiabilidade a longo prazo, o sistema utiliza uma estrutura robusta de aço de camada dupla para garantir segurança externa e eficiência térmica. Os trilhos deslizantes de serviço pesado são projetados para um movimento suave e consistente, mesmo após milhares de ciclos em altas temperaturas. Cada componente, desde os elementos de aquecimento de liga Fe-Cr-Al dopados até os flanges herméticos de aço inoxidável, é selecionado para suportar as condições exigentes de alto vácuo e ambientes de gás corrosivo. Este compromisso com a excelência em engenharia garante que o equipamento ofereça desempenho consistente, dia após dia, nos cenários de pesquisa mais desafiadores.

Principais Características

• Controle Independente de Zona Dupla: Duas unidades de forno separadas, cada uma com uma zona de aquecimento de 200 mm, permitem a programação PID independente. Isso permite o gerenciamento simultâneo da sublimação do precursor e das temperaturas de crescimento do substrato, o que é crítico para receitas complexas de CVD.
• Sistema de Trilho Deslizante de Precisão: O equipamento é montado em um sistema de trilho deslizante duplo de 1200 mm. Isso permite que os operadores movam manual ou (opcionalmente) automaticamente os fornos ao longo de uma distância de 400 mm, fornecendo um mecanismo físico para mudanças rápidas de temperatura e têmpera.
• Dinâmica Térmica Avançada: Ao deslizar o forno aquecido para longe do local da amostra, o sistema pode atingir taxas de aquecimento e resfriamento de até 100°C/min. Esta capacidade de processamento térmico rápido (RTP) é essencial para controlar o tamanho do grão e a estrutura cristalina em filmes finos avançados.
• Elementos de Aquecimento de Alto Desempenho: Equipado com elementos de liga Fe-Cr-Al dopados com Molibdênio, a unidade fornece desempenho de aquecimento estável e durável de até 1200°C, garantindo uma longa vida útil mesmo sob operação contínua em alta temperatura.
• Flanges de Vácuo Herméticos: Flanges de vácuo de aço inoxidável com medidores integrados e suportes de serviço pesado vêm como padrão. Eles garantem um ambiente estanque, suportando níveis de vácuo de até 10E-5 torr quando combinados com uma bomba molecular.
• Automação PID Programável: Cada zona é governada por um controlador automático com 30 segmentos programáveis. Isso permite um controle preciso sobre taxas de rampa, tempos de permanência e curvas de resfriamento, reduzindo o risco de erro humano durante ciclos complexos.
• Proteções de Segurança Integradas: O sistema inclui alarmes de sobretemperatura integrados e recursos de desligamento automático. O design da carcaça de aço de camada dupla incorpora resfriamento a ar para manter a superfície do forno segura ao toque durante a operação.
• Expansão do Sistema Modular: O equipamento foi projetado para crescer conforme suas necessidades de pesquisa. Pode ser facilmente atualizado com Controladores de Fluxo de Massa (MFC) para entrega precisa de gás, geradores de plasma RF para PECVD ou kits de trilhos motorizados para ciclos de deslizamento automatizados.

Aplicações

Especificações Técnicas

Por que escolher o TU-RT05

• Flexibilidade Térmica Superior: O design deslizante duplo oferece um nível de controle de processo que fornos estacionários não conseguem igualar, especificamente para têmpera rápida e CVD com gradiente controlado.
• Engenharia de Precisão: Construído com componentes premium, incluindo elementos de liga dopados com Mo e flanges de aço inoxidável de alta qualidade, garantindo integridade de alto vácuo e estabilidade de temperatura.
• Escalabilidade Preparada para o Futuro: Se você precisa de uma configuração simples de CVD hoje ou um sistema PECVD totalmente automatizado amanhã, esta unidade suporta atualizações perfeitas com MFCs e geradores de RF.
• Eficiência de Resfriamento Inigualável: A separação física da câmara de aquecimento do tubo de processamento permite um resfriamento rápido real, crítico para pesquisas metalúrgicas e de semicondutores.
• Confiabilidade Comprovada: Com milhares de unidades em operação globalmente, nosso design é o padrão da indústria para durabilidade e consistência operacional em pesquisas de alta temperatura.

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