Forno de Prensagem a Quente a Vácuo
Forno de Prensa a Vácuo de 3 Toneladas
Número do item: TU-VH05
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Visão Geral do Produto
Este forno de prensa a vácuo foi projetado para sinterização em alta temperatura sob atmosfera e pressão precisamente controladas, fornecendo densificação excepcional de materiais para pesquisa e produção em pequena escala. Seu design totalmente integrado combina uma câmara de alto vácuo, sistema de aquecimento em grafite e pressurização servo-elétrica em uma unidade compacta, simplificando a instalação e a operação.
Ideal para laboratórios universitários e centros de P&D industrial, o sistema processa cerâmicas avançadas, compósitos de matriz metálica e novos nanomateriais. A câmara de carregamento lateral e o controle PLC com tela sensível ao toque permitem trocas rápidas de lotes e gerenciamento reprodutível de receitas, tornando-o uma ferramenta de trabalho confiável para processamento térmico exigente.
Construído com componentes robustos e uma estrutura resistente, este equipamento mantém um desempenho consistente ao longo de milhares de ciclos. O acionamento servo de precisão elimina os picos de pressão e os problemas de manutenção das prensas hidráulicas tradicionais, garantindo uma aplicação de força limpa, estável e precisa, mesmo para as amostras mais sensíveis.
Principais Características
- Pressurização Servo-Elétrica: Um cilindro servo-elétrico de alta precisão fornece força de prensagem de 1 a 3 toneladas com uma flutuação de apenas ±100 N e precisão de deslocamento ≤0,01 mm, permitindo controle em nível de quilograma, ideal para testes delicados de pequenas amostras.
- Capacidade de Alta Temperatura: Elementos de aquecimento em grafite atingem uma temperatura máxima de trabalho de 2000 °C (faixa utilizável da temperatura ambiente a 1900 °C), suportando a sinterização de cerâmicas de ultra-alta temperatura, metais refratários e cermets.
- Automação Avançada: Um controlador PLC com tela sensível ao toque permite edição, armazenamento, chamada, carregamento e download de receitas online. O controle de temperatura de uma zona via termopar tungstênio-rênio mantém precisão de ±1 °C durante todo o processo.
- Design Compacto e Móvel: O forno integrado inclui rodízios embutidos, facilitando o reposicionamento dentro do laboratório. Uma porta de abertura lateral oferece acesso conveniente para carregar e descarregar amostras.
- Ambiente de Alto Vácuo Limpo: Um vácuo último em estado frio de 6,67 × 10⁻³ Pa (após bake-out) garante uma atmosfera livre de oxigênio. O processamento pode ser realizado sob vácuo ou com uma leve pressão positiva de gás inerte (≤0,03 MPa) para evitar oxidação.
- Zona Quente de Precisão: A área aquecida de 100 × 100 × 100 mm apresenta um espaço de teste de amostra acima da zona de trabalho, maximizando o volume utilizável mantendo a uniformidade da temperatura.
- Potência de Aquecimento Nominal: ≤15 kW a partir de uma alimentação padrão trifásica de 380 V/50 Hz, equilibrando aquecimento rápido com eficiência energética.
- Controle de Precisão de Pressão: Display digital de pressão, regulação automática e funções de auto-mantenção mantêm a força alvo com desvio mínimo. O curso de pressão varia de 0 a 100 mm com leitura digital.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Sinterização de Cerâmicas Avançadas | Densificação de nitreto de silício, carbeto de silício, alumina e zircônia para rolamentos de alta performance, ferramentas de corte e blindagens | Densidade próxima à teórica com microestrutura de grão fino |
| Compósitos de Matriz Metálica | Consolidação de Al-SiC, Cu-W e outros CMMs para gerenciamento térmico e componentes aeroespaciais | Pressão uniforme elimina a porosidade sem quebra de fibra |
| Consolidação de Nanomateriais | Sinterização de nanopós (ex: nano-cerâmicas, compósitos de nanotubos de carbono) em amostras em massa mantendo a nanoestrutura | Controle de baixa pressão e alta precisão evita o crescimento de grãos |
| Produção de Alvos de Sputtering | Fabricação de alvos densos e homogêneos de ITO, AZO e cerâmica para deposição de filmes finos | Alto vácuo e atmosfera limpa produzem alvos estequiométricos e de alta pureza |
| Processamento de Biomateriais | Prensagem a quente de hidroxiapatita, biovidro e outras biocerâmicas para implantes e arcabouços | Ambiente livre de contaminação atende aos padrões biomédicos |
| Pesquisa e Desenvolvimento | Desenvolvimento de materiais de alta temperatura e alta pressão de uso geral em laboratórios universitários e nacionais | Gerenciamento flexível de receitas e tamanho pequeno de amostra reduzem o tempo e o custo de desenvolvimento |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | Especificação |
|---|---|
| Modelo | TU-VH05 |
| Alimentação | Trifásica 380 V ±10 %, 50 Hz |
| Potência de Aquecimento Nominal | ≤15 kW |
| Temperatura Máxima de Trabalho | 2000 °C (utilizável: temp. amb. até 1900 °C) |
| Dimensões da Zona Quente (L×P×A) | 100 × 100 × 100 mm (com espaço de teste de amostra superior) |
| Dimensões da Câmara de Vácuo (L×P×A) | 400 × 400 × 400 mm |
| Zonas de Controle de Temperatura | 1 |
| Método de Controle de Temperatura | Termopar Tungstênio-Rênio |
| Precisão do Controle de Temperatura | ±1 °C |
| Vácuo Último (frio, após bake-out) | 6,67 × 10⁻³ Pa (forno vazio) |
| Atmosfera de Processamento | Gás inerte (Ar, N₂) |
| Pressão Máx. de Gás | ≤0,03 MPa (micro-positiva) |
| Força Máx. de Prensagem | 1 – 3 toneladas (display digital, auto-regulação, auto-mantenção) |
| Flutuação de Pressão | ≤±100 N |
| Precisão de Deslocamento | ≤0,01 mm |
| Curso de Pressão | 0 – 100 mm (display digital) |
| Método de Pressurização | Cilindro servo-elétrico |
Por Que Escolher Este Produto
- Precisão Superior de Pressão – O acionamento servo-elétrico substitui os sistemas hidráulicos convencionais, eliminando vazamentos de óleo e deriva de pressão. Mantém a força dentro de ±100 N, garantindo ciclos de densificação repetíveis ciclo após ciclo.
- Performance Térmica Excepcional – Um elemento de aquecimento em grafite capaz de 2000 °C com precisão de controle de ±1 °C garante sinterização uniforme, mesmo para materiais refratários. O design robusto da zona quente suporta milhares de ciclos de alta temperatura.
- Ambiente de Processamento Limpo – Um sistema de alto vácuo (6,67 × 10⁻³ Pa) combinado com capacidade de gás inerte evita contaminação, produzindo produtos de alta pureza essenciais para cerâmicas avançadas e materiais eletrônicos.
- Automação Centrada no Usuário – O PLC com tela sensível ao toque simplifica a operação com gerenciamento intuitivo de receitas e registro de dados, reduzindo erros do operador e o tempo de treinamento, permitindo documentação de processo rastreável.
- Área Ocupada Amigável ao Laboratório – Autossuficiente com rodízios, esta unidade move-se facilmente e instala-se onde houver energia trifásica padrão disponível, minimizando modificações nas instalações.
Entre em contato conosco hoje para discutir sua aplicação específica ou solicitar uma configuração personalizada. Nossa equipe de engenharia está pronta para ajudá-lo a alcançar o controle preciso de temperatura, pressão e atmosfera que sua pesquisa exige.
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