Forno de Tubo
Forno Tubular de Zona Única com Tubo de Quartzo de 5 Polegadas, Zona de Aquecimento de 36 Polegadas e Flanges de Vácuo
Número do item: TU-31
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Visão Geral do Produto

Este sistema de processamento térmico de alto desempenho foi projetado para pesquisa avançada de materiais e aplicações de tratamento térmico industrial que exigem uma câmara de reação de grande diâmetro e uma zona de aquecimento longa e uniforme. Projetado como um forno de zona única do tipo bipartido, o equipamento permite fácil acesso ao tubo de processamento, facilitando o carregamento e descarregamento rápido de amostras, ao mesmo tempo que simplifica os procedimentos de manutenção. Sua principal proposta de valor reside na capacidade de manter um ambiente térmico altamente estável de até 1200°C, tornando-o uma ferramenta indispensável para laboratórios e instalações de produção focadas em processamento de semicondutores, metalurgia e engenharia cerâmica.
O equipamento é especificamente otimizado para processos de alta pureza, incluindo recozimento a vácuo, difusão em fase gasosa e sinterização em estado sólido. Ao utilizar um tubo de quartzo fundido de 5 polegadas de diâmetro, este sistema acomoda substratos maiores ou volumes mais elevados de pequenas amostras em comparação com fornos de laboratório padrão. É particularmente adequado para o processamento de wafers de 4 polegadas, proporcionando a uniformidade térmica e o controle de atmosfera necessários para procedimentos delicados de oxidação e dopagem na indústria eletrônica.
A confiabilidade está no centro do design desta unidade. Construído com componentes de grau industrial e uma carcaça de aço de camada dupla resistente, o sistema é capaz de operar continuamente em ambientes exigentes. A integração de tecnologia avançada de resfriamento a ar garante que a carcaça externa permaneça segura ao toque mesmo durante ciclos de alta temperatura, protegendo tanto o operador quanto a infraestrutura laboratorial circundante. Esta unidade representa um investimento robusto para organizações que priorizam a precisão técnica e a consistência operacional a longo prazo.
Principais Características
- Gerenciamento de Temperatura de Precisão: O sistema utiliza um controlador digital com certificação MET que oferece 30 segmentos programáveis. Isso permite um controle meticuloso sobre as taxas de aquecimento, taxas de resfriamento e tempos de permanência, garantindo resultados repetíveis em ciclos térmicos complexos.
- Câmara de Processamento de Quartzo de Alta Capacidade: Com um tubo de quartzo fundido de 130 mm de diâmetro externo, a unidade oferece um ambiente espaçoso para experimentos em grande escala. O quartzo de alta qualidade oferece excepcional resistência ao choque térmico e inércia química para controle de atmosfera de alta pureza.
- Isolamento Térmico Avançado: O isolamento de fibra de alumina de alta pureza é empregado para maximizar a eficiência energética. Este material refratário de alto grau minimiza a perda de calor, permitindo que o sistema atinja e mantenha temperaturas de pico com menor consumo de energia.
- Sistema de Vedação a Vácuo Robusto: O equipamento inclui um par de flanges de vácuo em aço inoxidável 304 equipados com anéis de vedação (O-rings) duplos de silicone para alta temperatura. Este conjunto garante uma vedação hermética capaz de atingir níveis de vácuo de até 10^-5 torr quando combinado com uma bomba molecular.
- Elementos de Aquecimento de Alta Resistência: O forno é alimentado por elementos de aquecimento de liga Fe-Cr-Al dopados com Molibdênio. Estes elementos são projetados para longevidade e radiação de calor consistente, mesmo quando submetidos a ciclos frequentes de alta temperatura.
- Segurança e Monitoramento Integrados: Uma função PID de ajuste automático integrada, juntamente com proteção contra sobretemperatura e alarmes de termopar quebrado, permite uma operação segura e sem supervisão. Um manômetro integrado fornece monitoramento em tempo real do ambiente interno do tubo.
- Engenharia de Forno Bipartido: O design da carcaça com dobradiças bipartidas permite que a metade superior do forno se abra, proporcionando acesso imediato à zona de aquecimento e ao tubo de quartzo. Este recurso é crítico para resfriamento rápido ou para o posicionamento preciso de componentes internos.
- Porta de Comunicação Escalável: Equipado com uma porta de comunicação RS485, o sistema pode ser integrado a redes laboratoriais para monitoramento remoto e registro de dados, apoiando os padrões modernos da indústria 4.0 para rastreabilidade digital.
- Resfriamento Externo Eficiente: Uma carcaça de aço de camada dupla com resfriamento a ar ativo mantém a temperatura da superfície externa abaixo de 60°C, garantindo um ambiente de trabalho confortável e protegendo a eletrônica interna da fadiga térmica.
- Ambiente de Processamento Personalizável: A unidade suporta várias entradas e saídas de gás através de válvulas de agulha nos flanges, permitindo que os pesquisadores introduzam gases protetores ou reativos, como Nitrogênio, Argônio ou gás de formação durante o processo de aquecimento.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Oxidação de Semicondutores | Crescimento de camadas de óxido em wafers de silício de 4 polegadas dentro de um ambiente de oxigênio controlado em altas temperaturas. | A alta uniformidade térmica garante uma espessura de óxido consistente em toda a superfície do wafer. |
| Recozimento a Vácuo | Alívio de tensões internas em ligas metálicas ou componentes de vidro por aquecimento em um ambiente de alto vácuo para evitar oxidação. | Previne a descoloração da superfície e mantém a pureza do material através de uma vedação hermética superior. |
| Pesquisa em CVD | Atuando como câmara de reação para Deposição Química de Vapor de grafeno, nanotubos de carbono ou revestimentos de película fina. | O grande diâmetro do tubo de 5" permite alta estabilidade de fluxo de gás precursor e processamento de substratos maiores. |
| Sinterização de Cerâmica | Consolidação de pós cerâmicos compactados em componentes densos e de alta resistência em temperaturas de até 1100°C. | A programação precisa de 30 segmentos evita choque térmico e rachaduras durante fases críticas de resfriamento. |
| Dopagem por Difusão | Introdução de impurezas dopantes em materiais semicondutores via difusão em fase gasosa ou de fonte sólida. | O design do forno bipartido permite resfriamento rápido ou temporização precisa do processo de difusão. |
| Calcinação de Materiais | Decomposição térmica de matérias-primas para remover frações voláteis ou iniciar mudanças de fase. | O isolamento de fibra de alumina fornece a estabilidade térmica necessária para ciclos de calcinação de longa duração. |
| P&D de Materiais de Bateria | Síntese e tratamento térmico de pós de cátodo ou ânodo sob atmosferas de gás inerte. | O manuseio de gás integrado e o monitoramento de pressão garantem o processamento seguro de químicas de bateria sensíveis. |
| Sinterização em Atmosfera | Tratamento térmico de ligas especializadas em ambientes de nitrogênio ou argônio para obter propriedades metalúrgicas específicas. | Válvulas de entrada/saída de gás confiáveis e flanges SS304 garantem uma atmosfera pura e livre de vazamentos. |
Especificações Técnicas
| Categoria de Especificação | Detalhes do Parâmetro (Modelo: TU-26) |
|---|---|
| Configuração da Zona de Aquecimento | Design de forno bipartido de zona única |
| Temperatura Máx. de Operação | 1200°C (para durações < 5 horas) em atmosfera inerte |
| Temp. de Operação Contínua | 1100°C |
| Comprimento da Zona de Aquecimento | 880 mm (aprox. 34,6 polegadas) |
| Zona de Temperatura Constante | 240 mm (±1°C) |
| Taxa de Aquecimento | ≤ 20°C por minuto |
| Elementos de Aquecimento | Liga Fe-Cr-Al dopada com Mo |
| Tubo de Processamento Padrão | Quartzo Fundido: 130 mm DE x 120 mm DI x 1400 mm C |
| Tamanhos de Tubo Opcionais | Diâmetros de 80 mm e 100 mm disponíveis |
| Controle de Temperatura | Controlador PID com certificação MET, 30 segmentos programáveis |
| Precisão de Temperatura | ± 1°C |
| Termopar | Tipo K |
| Potência de Saída | 7,0 KW |
| Tensão de Entrada | AC 208-240V Monofásico, 50/60 Hz |
| Nível de Vácuo | 10^-2 torr (bomba mecânica); até 10^-5 torr (bomba molecular) |
| Flanges de Vácuo | Um par em SS304 com anéis de vedação duplos de silicone e válvulas de agulha |
| Estrutura da Carcaça | Aço de camada dupla com resfriamento a ar (temp. de superfície ≤ 60°C) |
| Material de Isolamento | Alumina fibrosa de alta pureza com revestimento refratário |
| Comunicação | Porta RS485 (Software MTS02-Y opcional e pacote de laptop) |
| Recursos de Segurança | Proteção contra sobretemperatura, alarme de termopar quebrado, ajuste automático PID |
Por que escolher o TU-26
- Estabilidade Térmica Comprovada: Este sistema foi projetado para oferecer uma zona de temperatura constante altamente consistente de 240 mm, garantindo que suas amostras experimentem condições térmicas uniformes durante todo o ciclo de processamento.
- Qualidade de Construção Premium: Desde o isolamento de alumina de alta pureza até os flanges de vácuo em aço inoxidável 304, cada componente é selecionado por sua capacidade de suportar os rigores da P&D industrial de alta temperatura.
- Integração Versátil: Com opções para flanges deslizantes, controladores Eurotherm avançados (precisão de ±0,1°C) e kits de bomba de vácuo especializados, este equipamento pode ser personalizado para atender aos requisitos específicos de qualquer laboratório de ciência dos materiais.
- Engenharia Focada na Segurança: A carcaça de aço de camada dupla e os sistemas de alarme avançados proporcionam tranquilidade, permitindo o processamento de longa duração sem supervisão constante, aumentando o rendimento operacional de sua instalação.
- Escalável para a Indústria: A combinação de um grande tubo de quartzo de 5 polegadas e fornecimento de energia robusto torna este forno adequado tanto para pesquisa acadêmica inicial quanto para produção industrial de pequenos lotes.
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