Forno PECVD compacto com deslizamento automático, máx. 1200°C, com tubo de 2 polegadas e bomba de vácuo

Visão Geral do Produto

Este sistema de processamento térmico de alto desempenho é uma solução compacta de deposição química de vapor assistida por plasma (PECVD), projetada especificamente para pesquisa avançada de materiais e desenvolvimento de filmes finos. Ao integrar um potente gerador de plasma RF com um forno tubular bipartido de precisão, o equipamento permite que os pesquisadores alcancem qualidade de filme superior em temperaturas significativamente mais baixas do que os processos CVD convencionais. A proposta central de valor está em seu mecanismo deslizante exclusivo, que permite mover rapidamente a zona de aquecimento até a posição da amostra, facilitando exposição instantânea a altas temperaturas e ciclos acelerados de resfriamento para um controle sem precedentes sobre a microestrutura e a formação de fases.

Projetado principalmente para P&D em laboratório e ciência de materiais industrial, o sistema é ideal para a deposição de uma variedade de filmes, incluindo óxidos de silício, nitretos e silício amorfo. Sua versatilidade o torna um elemento fundamental para laboratórios especializados em semicondutores, fotovoltaica e nanotecnologia. O tamanho compacto permite integração perfeita em ambientes laboratoriais existentes sem sacrificar as capacidades de alto vácuo e alta temperatura exigidas para a síntese profissional de materiais.

A confiabilidade está no centro do design desta unidade. Construído com componentes de nível industrial, incluindo um robusto gerador RF de 13,56 MHz e tubos de processamento de quartzo de alta pureza, o sistema oferece desempenho consistente em ciclos de trabalho exigentes. A integração de flanges de alto vácuo e uma bomba de vácuo de dois estágios garante um ambiente limpo e controlado para processos sensíveis de deposição química de vapor, proporcionando aos pesquisadores a confiança necessária para executar protocolos experimentais complexos e multietapas com precisão repetível.

Principais Características

• Mecanismo Integrado de Deslizamento Automático: O forno é montado em um sistema de trilhos de precisão para serviço pesado, permitindo a translação rápida da zona de aquecimento. Essa engenharia possibilita o aquecimento e o resfriamento instantâneos da amostra, o que é fundamental para controlar o crescimento de grãos e o têmpera de fases metaestáveis.
• Geração de Plasma RF de Alta Eficiência: Equipado com um gerador RF de 300W operando a 13,56 MHz, o sistema gera uma descarga de plasma estável. Isso permite que as reações químicas ocorram em temperaturas reduzidas do substrato, protegendo materiais sensíveis ao calor e diminuindo o estresse térmico nos filmes depositados.
• Gerenciamento Preciso de Temperatura: O equipamento utiliza um sistema de aquecimento de 300 watts controlado por um controlador digital PID programável de 30 segmentos. Isso garante precisão de ±1°C e permite que perfis térmicos complexos, incluindo rampas, patamares e fases de resfriamento, sejam executados automaticamente.
• Integridade Superior do Vácuo: Apresentando flanges de vácuo em aço inoxidável 304 com vedação dupla por O-ring, o sistema atinge um estado de alto vácuo de 3 x 10E-3 torr. A inclusão de um medidor Pirani digital e válvulas de agulha de alta qualidade permite controle meticuloso sobre a atmosfera de processamento.
• Design de Forno Bipartido: O corpo do forno é projetado como uma unidade com dobradiça bipartida, o que facilita a inserção e retirada de amostras, a substituição rápida do tubo de processamento e um resfriamento natural mais rápido quando o mecanismo deslizante não está em uso.
• Controle Aprimorado de Estequiometria: Ao manipular a potência do plasma, as taxas de fluxo de gás e a pressão, os usuários podem exercer controle preciso sobre a composição química e a tensão do filme dos materiais depositados, tornando-o uma ferramenta altamente flexível para aplicações especializadas de revestimento.
• Segurança e Conformidade Robusta: O sistema é certificado CE e incorpora recursos de proteção, como um eliminador de névoa de óleo para a bomba de vácuo e opções de monitoramento de oxigênio para evitar oxidação indesejada durante ciclos sensíveis de deposição.

Aplicações

Especificações Técnicas

Por que Escolher Este Sistema PECVD

• Versatilidade Térmica Incomparável: A combinação de um trilho de deslizamento automático e deposição assistida por plasma permite uma janela experimental mais ampla do que a dos fornos padrão, suportando tanto o processamento térmico rápido quanto reações químicas em baixa temperatura.
• Engenharia de Precisão: Cada componente, do gerador RF de 13,56 MHz à montagem de vácuo em aço inoxidável, é selecionado por sua capacidade de manter tolerâncias industriais rigorosas durante operação de longo prazo.
• Integração Abrangente: Este sistema chega como uma solução completa, incluindo o forno, gerador de plasma, bomba de vácuo e hardware de monitoramento, reduzindo o tempo de configuração e garantindo a compatibilidade dos componentes.
• Escalável e Personalizável: Com opções para estações de mistura de gases multicanal, sistemas de vaporização de líquidos e controle avançado por software, a unidade pode ser adaptada para atender a orçamentos de pesquisa e requisitos técnicos específicos.
• Confiabilidade Comprovada: Construído para superar os padrões de laboratório, este equipamento conta com suporte de uma rede global de सेवा e um compromisso com a fabricação de alta qualidade, garantindo a proteção do seu investimento em P&D.

Entre em contato com nossa equipe de vendas técnicas hoje mesmo para solicitar um orçamento ou discutir como podemos personalizar este sistema PECVD para suas necessidades específicas de deposição de filmes finos.